期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
氮化硅/铝扩散连接结构的界面断裂特征 被引量：1
1
作者 王立君 阎俊霞 +1 位作者 贾燕 徐礼德 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 2002年第5期29-32,共4页
在真空不低于 1 5× 1 0 -3 Pa ,温度为 6 0 0℃ ,压强为 30MPa,保温 2h的条件下进行了Si3 N4 /Al的扩散连接。微观分析表明 ,连接的Si3 N4 /Al的界面两侧存在Si和Al原子有限的相互扩散。界面断裂力学实验证实 ,Si3 N4
关键词 氮化硅/铝 扩散连接结构 界面断裂特征 结构陶瓷
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部