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冶金提纯多晶硅用坩埚内壁氮化硅涂层的制备 被引量:8
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作者 刘美 谭毅 +3 位作者 许富民 李佳艳 闻立时 张磊 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期8-12,75,共6页
选用四种溶液与不同含量的氮化硅粉体混合得到不同的悬浊液,在石英坩埚内壁制备了氮化硅涂层,并将其用于冶金法提纯多晶硅;用扫描电镜、电子探针等分析了多晶硅铸锭与坩埚内壁的粘连面积、铸锭表面微裂纹形貌和反应层厚度,得到与最佳多... 选用四种溶液与不同含量的氮化硅粉体混合得到不同的悬浊液,在石英坩埚内壁制备了氮化硅涂层,并将其用于冶金法提纯多晶硅;用扫描电镜、电子探针等分析了多晶硅铸锭与坩埚内壁的粘连面积、铸锭表面微裂纹形貌和反应层厚度,得到与最佳多晶硅铸锭脱模相对应的制备涂层的工艺参数,同时分析了熔炼过程中氮化硅涂层与硅熔体间的反应机制。结果表明:将含质量分数为8%聚乙烯吡咯烷酮的乙醇溶液和质量分数为60%氮化硅的悬浊液喷涂到坩埚内壁上,并经210℃×15min烧结后的氮化硅涂层不易分解,坩埚内壁保持完整,铸锭的脱模效果最好;随熔炼温度升高氮化硅涂层分解加剧,在涂层与硅铸锭的接触面处形成了由大颗粒氮化硅组成的连续层,减小了坩埚和涂层中杂质向硅铸锭内部扩散的可能性。 展开更多
关键词 太阳能电池 多晶硅 氮化硅涂层 坩埚
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多孔石英基体上CVD法沉积氮化硅涂层的工艺、结构与性能研究 被引量:3
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作者 李家亮 牛金叶 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期1197-1202,1207,共7页
以甲硅烷(20%甲硅烷+80%氢气)和氨气作为反应前驱体,选择孔隙率为20%左右的多孔石英陶瓷基体,采用CVD法在多孔石英基体表面制备了氮化硅涂层。研究了沉积反应温度、反应压力、反应气体配比以及沉积时间等工艺参数对附着力的影响,确定了... 以甲硅烷(20%甲硅烷+80%氢气)和氨气作为反应前驱体,选择孔隙率为20%左右的多孔石英陶瓷基体,采用CVD法在多孔石英基体表面制备了氮化硅涂层。研究了沉积反应温度、反应压力、反应气体配比以及沉积时间等工艺参数对附着力的影响,确定了CVD法制备氮化硅涂层的最佳工艺参数,通过对所得涂层及复合材料进行抗弯强度和介电性能的表征,探讨了氮化硅涂层对多孔石英基体力学性能和介电性能的影响。 展开更多
关键词 CVD 多孔石英陶瓷 氮化硅涂层
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沉积温度及热处理对低压化学气相沉积氮化硅涂层的影响(英文) 被引量:2
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作者 廖春景 董绍明 +3 位作者 靳喜海 胡建宝 张翔宇 吴惠霞 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第11期1231-1237,共7页
以SiCl4-NH3-H2为前驱体,在750~1250℃范围内通过低压化学气相沉积技术于碳纤维布上制备氮化硅涂层,系统研究了沉积温度对氮化硅涂层的生长动力学、形貌、化学组成和结合态的影响。研究结果表明,在沉积温度低于1050℃的情况下,随着沉积... 以SiCl4-NH3-H2为前驱体,在750~1250℃范围内通过低压化学气相沉积技术于碳纤维布上制备氮化硅涂层,系统研究了沉积温度对氮化硅涂层的生长动力学、形貌、化学组成和结合态的影响。研究结果表明,在沉积温度低于1050℃的情况下,随着沉积温度的升高,沉积速率单调增大。而当沉积温度高于1050℃时,沉积速率随温度升高逐渐下降。在整个沉积温度范围内,随着沉积温度的升高,涂层表面形态逐渐向菜花状转变,同时涂层表面变得愈加粗糙。涂层的最佳沉积温度在750~950℃之间。随着沉积温度的升高,涂层中氮含量先降低后升高,而硅含量不断增加,氧含量在整个温度范围内逐渐降低。原始沉积涂层均呈无定形态,经高于1300℃热处理后实现晶化,并伴随着表面形貌的显著变化。此时涂层仅由a-Si3N4构成,不存在任何b-Si3N4相。 展开更多
关键词 氮化硅涂层 生长动力学 沉积温度 化学组成 热处理
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晶体硅铸锭用氮化硅涂层失效机理及改性研究
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作者 周海萍 尹长浩 黄新明 《无机盐工业》 CAS 北大核心 2014年第5期35-37,65,共4页
氮化硅涂层是多晶硅铸锭必不可少的脱模剂,新型高效多晶硅铸锭对氮化硅涂层提出更高的要求。重点研究了氮化硅涂层在新型高效多晶硅铸锭过程中的失效机理,结果显示,氮化硅的碳化是导致氮化硅涂层与硅熔体间非浸润性降低,以及氮化硅涂层... 氮化硅涂层是多晶硅铸锭必不可少的脱模剂,新型高效多晶硅铸锭对氮化硅涂层提出更高的要求。重点研究了氮化硅涂层在新型高效多晶硅铸锭过程中的失效机理,结果显示,氮化硅的碳化是导致氮化硅涂层与硅熔体间非浸润性降低,以及氮化硅涂层失效的主要原因。采用改进的溶胶-凝胶法(Sol-Gel)结合表面无碳处理制备增强型氮化硅涂层,该涂层在铸锭实验中显示出较高的强度及与硅熔体间良好的非浸润性,能够很好地满足新型高效多晶硅对氮化硅涂层的要求。 展开更多
关键词 氮化硅涂层 失效 改性
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激光熔覆氮化硅涂层对3D打印钛合金的影响
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作者 胡俊 《化工设计通讯》 2025年第2期5-7,共3页
旨在探讨激光熔覆氮化硅(Si_(3)N_(4))涂层对3D打印钛合金性能的影响。通过优化激光熔覆参数,可以实现氮化硅涂层与钛合金基体的良好结合,形成致密且均匀的涂层。研究表明,激光熔覆的氮化硅涂层显著提高了钛合金的表面耐磨性。涂层的存... 旨在探讨激光熔覆氮化硅(Si_(3)N_(4))涂层对3D打印钛合金性能的影响。通过优化激光熔覆参数,可以实现氮化硅涂层与钛合金基体的良好结合,形成致密且均匀的涂层。研究表明,激光熔覆的氮化硅涂层显著提高了钛合金的表面耐磨性。涂层的存在有效地减少了钛合金表面的磨损量,延长了材料的使用寿命。此外,涂层的熔覆也改善了钛合金的耐腐蚀性能,在一定程度上阻止了腐蚀介质对钛合金基体的侵蚀。通过微观结构分析,发现激光熔覆的氮化硅涂层与钛合金基体之间形成了良好的结合,涂层结构均匀,无明显的缺陷。 展开更多
关键词 激光熔覆技术 氮化硅涂层 3D打印钛合金 表面改性 机械性能
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氮化硅涂层改性石英颗粒辅助生长高效多晶硅 被引量:4
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作者 周海萍 尹长浩 +2 位作者 张兆玉 钟根香 黄新明 《特种铸造及有色合金》 CAS CSCD 北大核心 2014年第8期800-803,共4页
在坩埚底部铺设与硅熔体浸润性较好的石英颗粒辅助晶体生长可以生长出晶粒细小且分布均匀的柱状晶粒,从而提高了多晶硅电池的光电转换效率。研究了氮化硅涂层改性石英颗粒对多晶硅生长和脱模的影响。结果表明,氮化硅涂层改性石英颗粒辅... 在坩埚底部铺设与硅熔体浸润性较好的石英颗粒辅助晶体生长可以生长出晶粒细小且分布均匀的柱状晶粒,从而提高了多晶硅电池的光电转换效率。研究了氮化硅涂层改性石英颗粒对多晶硅生长和脱模的影响。结果表明,氮化硅涂层改性石英颗粒辅助生长可以获得晶粒细小且分布均匀的柱状晶粒,从而降低多晶硅缺陷密度,提高多晶硅质量,同时实现石英颗粒与晶体硅之间的自发分离,避免多晶硅与石英颗粒间因粘结而产生的应力问题。 展开更多
关键词 高效多晶硅 氮化硅涂层 石英颗粒
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多晶硅铸锭用石英坩埚氮化硅涂层免烧结工艺研究 被引量:1
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作者 刘志凯 戴斌煜 +1 位作者 张伟 商景利 《特种铸造及有色合金》 CAS CSCD 北大核心 2013年第2期116-118,共3页
研究了石英坩埚氮化硅涂层免烧结工艺。在氮化硅浆料中加入一定量固体和液体粘结剂,使氮化硅粉强有力地吸附在坩埚内壁,喷涂完成后在70~80℃保温2h直接装入硅料,免去了传统涂层制备工艺中坩埚需在1050℃温度下烧结6~7h的工艺过程。此... 研究了石英坩埚氮化硅涂层免烧结工艺。在氮化硅浆料中加入一定量固体和液体粘结剂,使氮化硅粉强有力地吸附在坩埚内壁,喷涂完成后在70~80℃保温2h直接装入硅料,免去了传统涂层制备工艺中坩埚需在1050℃温度下烧结6~7h的工艺过程。此工艺可缩短晶锭的生产周期,提高生产效率,降低生产成本。 展开更多
关键词 氮化硅涂层 烧结工艺 坩埚 石英 多晶硅 铸锭 氮化硅 工艺过程
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CVD法氮化硅及氮化钛涂层试验研究 被引量:1
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作者 张智华 胡海泉 潘子南 《汽车工艺与材料》 1996年第2期9-11,共3页
出用CVD法在三种基材上蒸镀氮化硅及氮化钛,同时在镀层交界处镀过渡金属。经试验表明,以氮化硅为主蒸镀材,炉内温度控制在1250℃,并选定H2气导入量为2700cm3/min,可获得较理想的镀层。此复合膜具有高耐磨、耐... 出用CVD法在三种基材上蒸镀氮化硅及氮化钛,同时在镀层交界处镀过渡金属。经试验表明,以氮化硅为主蒸镀材,炉内温度控制在1250℃,并选定H2气导入量为2700cm3/min,可获得较理想的镀层。此复合膜具有高耐磨、耐蚀及良好的隔热性能,大大提高了涂层与基材的结合强度。 展开更多
关键词 CVD法 陶瓷 氮化硅涂层 氮化涂层
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热喷涂氮化硅基涂层的显微组织和性能
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《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2003年第8期76-76,共1页
关键词 热喷涂 氮化硅涂层 显微组织 性能 氧化物粘连剂 烧结法 喷干法
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制备工艺对CVD Si_3N_4涂层沉积速率的影响 被引量:1
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作者 尹立峰 王思青 +2 位作者 张长瑞 崔岩 徐晓燕 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI 2008年第1期415-417,共3页
采用HSiCl_3-NH_3-N_2(稀释气体)体系在石英陶瓷基板上通过低压化学气相沉积(LPCVD)法沉积出了Si_3N_4涂层,研究了工艺条件对涂层沉积速率的影响。结果表明,在没有稀释气体的情况下,随着沉积温度升高,Si_3N_4涂层的沉积速率逐渐增加,在... 采用HSiCl_3-NH_3-N_2(稀释气体)体系在石英陶瓷基板上通过低压化学气相沉积(LPCVD)法沉积出了Si_3N_4涂层,研究了工艺条件对涂层沉积速率的影响。结果表明,在没有稀释气体的情况下,随着沉积温度升高,Si_3N_4涂层的沉积速率逐渐增加,在850℃附近达到最大值,随着反应温度的进一步升高,涂层沉积速率下降。当存在稀释气体时,在所选温度范围内随着沉积温度的升高,Si_3N_4涂层的沉积速率一直增大,反应的表观活化能约为222kJ/mol。随着原料中NH_3/HSiCl_3流量比值的增大,Si_3N_4涂层的沉积速率逐渐增加,随后稳定,但稍有下降趋势。在所选稀释气体流量范围内,Si_3N_4涂层的沉积速率随着稀释气体流量的增加而增大。 展开更多
关键词 LPCVD 氮化硅涂层 沉积速率
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铸造多晶硅的制备与研究 被引量:1
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作者 罗大伟 孙金玲 +2 位作者 张爽 张国良 李廷举 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第S4期674-676,680,共4页
当今多晶硅已成为最主要的光伏材料,利用定向凝固工艺生产铸造多晶硅铸锭已成为业界广为采用的方法,但目前利用定向凝固工艺生产出来的多晶硅铸锭仍存在较多的缺陷,例如材料利用率低以及组织不均匀等问题。为了进一步优化铸造工艺,采用... 当今多晶硅已成为最主要的光伏材料,利用定向凝固工艺生产铸造多晶硅铸锭已成为业界广为采用的方法,但目前利用定向凝固工艺生产出来的多晶硅铸锭仍存在较多的缺陷,例如材料利用率低以及组织不均匀等问题。为了进一步优化铸造工艺,采用自行设计的真空电磁感应熔炼炉及定向凝固炉进行了多晶硅定向凝固实验。重点对比研究了石英坩埚和石英陶瓷坩埚对铸锭质量的影响。研究表明相对于石英坩埚而言,具有涂层的石英陶瓷坩埚不但可以防止铸锭产生裂纹,而且铸造出的多晶硅铸锭具有表面质量好以及相对发达粗大的柱状晶组织,平均晶粒尺寸为3~4mm。同时氮化硅涂层可以有效地降低铸锭中杂质氧的含量。 展开更多
关键词 铸造多晶硅 石英陶瓷坩埚 氮化硅涂层
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Cutting performance of multilayer diamond coated silicon nitride inserts in machining aluminum-silicon alloy 被引量:8
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作者 陈乃超 孙方宏 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第7期1985-1992,共8页
Aluminum-silicon (Al-Si) alloy is very difficult to machine and diamond tools are considered by far the best choice for the machining of these materials. Experimental results in the machining of the Al-Si alloy with... Aluminum-silicon (Al-Si) alloy is very difficult to machine and diamond tools are considered by far the best choice for the machining of these materials. Experimental results in the machining of the Al-Si alloy with diamond coated inserts are presented. Considering the fact that high adhesive strength and fine surface morphology play an importance role in the applications of chemical vapor deposition (CVD) diamond films, multilayer technique combining the hot filament CVD (HFCVD) method is proposed, by which multilayer diamond-coating on silicon nitride inserts is obtained, microcrystalline diamond (MCD)/ nanocrystalline diamond (NCD) film. Also, the conventional monolayer NCD and MCD coated inserts are produced for comparison. The as-deposited diamond films are characterized by field emission scanning electron microscopy (FE-SEM) and Raman spectrum. All the CVD diamond coated inserts and uncoated insert endure the aluminum-silicon alloy turning to estimate their cutting performances. Among all the tested inserts, the MCD/NCD coated insert exhibits the perfect behavior as tool wear due to its very low flank wear and no diamond peeling. 展开更多
关键词 aluminum-silicon alloy multilayer diamond films silicon nitride cutting performance
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Preparation and sintering of nano Fe coated Si_3N_4 composite powders 被引量:1
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作者 银锐明 范景莲 刘勋 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2009年第2期184-189,共6页
Fe/Si3N4 composite powder was synthesized by the heterogeneous precipitation-thermal reduction process,and then pressed into flakes under a pressure of 10 MPa.Flakes were sintered by pressureless and hot-pressing at 1... Fe/Si3N4 composite powder was synthesized by the heterogeneous precipitation-thermal reduction process,and then pressed into flakes under a pressure of 10 MPa.Flakes were sintered by pressureless and hot-pressing at 1 600℃under 0.1 MPa N2. The chemical composition,phases and microstructure of composite powder and sintered flakes were investigated by energy dispersive spectroscopy(EDS),X-ray diffraction(XRD),scanning electron microscopy(SEM)and transmission electron microscopy (TEM).The results show that the structure of composite powders is Si3N4 coated by nano Fe.The crystal phases of sintered flakes by pressureless are Fe(Si)compound,SiC and Si3N4.The crystal phases of the sintered samples by hot-pressing are Fe,Fe(Si) compound and Si3N4.It is found that crystal phases flakes obtained by pressureless and hot-pressing are very different. 展开更多
关键词 FE SI3N4 COATING heterogeneous precipitation SINTERING
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Zr_(1-x)Si_xN纳米涂层的制备及其力学性能 被引量:2
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作者 黄若轩 孙鹏 +2 位作者 朱芳萍 祁正兵 王周成 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期1886-1890,共5页
采用直流与射频共溅射技术制备Zr1-xSixN纳米涂层。通过改变Si靶溅射功率控制涂层中Si含量,研究了不同Si含量对Zr1-xSixN涂层的物相结构、晶粒尺寸、硬度和摩擦磨损性能的影响,探索了Zr1-xSixN纳米涂层的致硬机理。结果表明:Si的掺入影... 采用直流与射频共溅射技术制备Zr1-xSixN纳米涂层。通过改变Si靶溅射功率控制涂层中Si含量,研究了不同Si含量对Zr1-xSixN涂层的物相结构、晶粒尺寸、硬度和摩擦磨损性能的影响,探索了Zr1-xSixN纳米涂层的致硬机理。结果表明:Si的掺入影响Zr1-xSixN涂层的择优取向和相结构,随着Zr1-xSixN涂层中Si含量的增加,涂层截面的形貌由柱状晶转变为非柱状等轴晶,其结构的变化为:固溶体→nc-ZrN/α-Si3N4结构→非晶结构。涂层的晶粒尺寸在12~30nm之间。对于Si含量低于3.14%(摩尔分数)的Zr1-xSixN涂层,由于固溶强化作用使硬度随Si含量增加而增大,对于Si含量高于3.14%的Zr1-xSixN涂层,通过晶粒的转动和原子在晶界的移动能产生塑性形变,提高了涂层塑性形变能力,使得硬度下降。Zr1-xSixN涂层的耐磨损性能随Si含量的增加而增强。 展开更多
关键词 氮化硅涂层 硬度 摩擦因数 磨损性能
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