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Bipolar制造工艺中硼扩散工艺的优化与改进
1
作者
李丙旺
《集成电路通讯》
2003年第1期16-18,共3页
传统的双极电路制造工艺普遍采用了硼扩散工艺,主要用来形成重掺杂区。一般硼扩散都采用固相源扩散,通常用氮化硼圆片做为硼扩散的固相源,这些圆片的直径与硅片的直径相同或稍大一些。作为固相源的氮化硼因为在高温下反复进出炉,致...
传统的双极电路制造工艺普遍采用了硼扩散工艺,主要用来形成重掺杂区。一般硼扩散都采用固相源扩散,通常用氮化硼圆片做为硼扩散的固相源,这些圆片的直径与硅片的直径相同或稍大一些。作为固相源的氮化硼因为在高温下反复进出炉,致使其常常容易变形,均匀性变差。采用一种固相源双面交替式使用法,不但使源片变形程度大大减小,也使硼扩散的均匀性得到很大提高。
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关键词
BIPOLAR
制造工艺
硼
扩散工艺
固相源
交替式
氮化硼圆片
双极电路
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职称材料
题名
Bipolar制造工艺中硼扩散工艺的优化与改进
1
作者
李丙旺
机构
中国兵器工业第
出处
《集成电路通讯》
2003年第1期16-18,共3页
文摘
传统的双极电路制造工艺普遍采用了硼扩散工艺,主要用来形成重掺杂区。一般硼扩散都采用固相源扩散,通常用氮化硼圆片做为硼扩散的固相源,这些圆片的直径与硅片的直径相同或稍大一些。作为固相源的氮化硼因为在高温下反复进出炉,致使其常常容易变形,均匀性变差。采用一种固相源双面交替式使用法,不但使源片变形程度大大减小,也使硼扩散的均匀性得到很大提高。
关键词
BIPOLAR
制造工艺
硼
扩散工艺
固相源
交替式
氮化硼圆片
双极电路
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
Bipolar制造工艺中硼扩散工艺的优化与改进
李丙旺
《集成电路通讯》
2003
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