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电弧离子镀制备(TiCr)N薄膜的微观结构及性能 被引量:17
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作者 刘燕燕 张庆瑜 林国强 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第4期299-302,共4页
利用电弧离子镀 (ArcIonPlating)方法 ,通过对独立的Ti靶和Cr靶的弧电流进行控制 ,成功地在高速钢 (HSS)基体上制备了不同成分配比的 (TiCr)N薄膜。采用X射线衍射 (XRD)分析显示 :薄膜为单一的fcc的结构、没有TiN或CrN相存在 ;薄膜呈 (2... 利用电弧离子镀 (ArcIonPlating)方法 ,通过对独立的Ti靶和Cr靶的弧电流进行控制 ,成功地在高速钢 (HSS)基体上制备了不同成分配比的 (TiCr)N薄膜。采用X射线衍射 (XRD)分析显示 :薄膜为单一的fcc的结构、没有TiN或CrN相存在 ;薄膜呈 (2 2 0 )结构 ,薄膜的晶格常数随着Cr含量的增加而减小。透射电子显微镜 (TEM)结果表明 :(TiCr)N薄膜的晶粒尺度为2 0nm左右。显微硬度测试表明 :薄膜具有很高的硬度 ,而且随弧流比的变化 ,硬度值有一极大值。同时 ,本文探讨了 (TiCr)N薄膜的宏观残余应力。 展开更多
关键词 (TiCr)N薄膜 性能 电弧离子镀 微观结构 显微硬度 氮化铬钛 金属材料 表面处理
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纳米钛铬氧氮化物粉体
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《科技开发动态》 2003年第3期33-33,共1页
关键词 纳米氮化物粉体 制备方法 技术特征
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