外围缩合四个1,10-啡啰啉单元的新氮杂酞菁的表面光伏响应及电场作用研究

通过电场诱导表面光电压谱确定外围缩合4个1,10-啡啉单元的氮杂酞菁为p型有机半导体,并对各个谱带进行合理的归属.结果发现,Soret带长波侧光电压曲线在电场作用下轻微蓝移,根据电场对高极化度n轨道基态的影响,将其归属为n-π*跃迁.这一结果表明,光电属性与材料的分子结构和电子结构密切相关,为设计有机半导体模型提供了进一步的实验数据.

氮杂酞菁铜aza-CuPc的合成与晶体结构

The azaanalog of copper phthalocyanine（azaCuPc） complex C 24H 8CuN 16 was prepared by the so- lid phase synthesis technology and its single crystals was characterized by high power Xray from the synchrotron radiation. The crystal belongs to monoclinic system, space group P21/n with a=1.612 3（3） nm, b= 0.529 40（11） nm, c=1.906 4（4） nm, β=105.25（3）°, V=1.569 9（5） nm, Z=2, Mr=584.00, Dc=1.235 g/cm3, F（000）=586, the final R=0.063 1 and wR=0.153 9 for 757 observed reflections with I>2σ（I）, GOF=1.340.

氮杂酞菁钴光电催化降解水环境中聚丙烯酰胺

针对水环境中聚丙烯酰胺(HPAM)难以被快速去除的问题,以导电炭黑(CB)为载体,制备了负载型氮杂酞菁钴(NCoPc/CB)和甲基取代氮杂酞菁钴(MeNCoPc/CB)复合材料,并对其光电催化降解HPAM的性能进行了研究。搭建分体式光电协同催化体系,选取50 mg/L HPAM水溶液为目标污染物,以Na2SO4为电解质,对NCoPc的理化性能及光电协同催化工艺降解高分子聚合物的性能进行了考察。结果证实,光电协同催化工艺对HPAM去除率不但优于单独光催化和单独电催化工艺,更优于两者的代数和,说明光电联合体系中产生了协同增强效应。其中,以MeNCoPc/CB复合材料效果最佳,污染物去除率达到76.07%,溶液黏度由8.33 mPa·s降至1.81 mPa·s。对协同工艺进行反应动力学分析,证实此过程符合准一级反应动力学,其反应速率常数分别是光催化的6.03倍和电催化的3.97倍。电子自旋共振技术(ESR)证实,反应体系内主要活性物质为·OH和O2-·。

吡啶二甲酸的合成及其应用

在含硫酸铜的酸性水溶液中,用氯酸钠作氧化剂,氧化喹啉得到2,3-吡啶二甲酸,产率为56·4%;以硫酸铜为催化剂,用浓硝酸在高温氧化异喹啉得到3,4-吡啶二甲酸,产率为71·4%,并讨论了影响合成的因素。在钼酸铵存在下,采用固相烘焙法,2,3-吡啶二甲酸和3,4-吡啶二甲酸分别与尿素和氯化亚铜作用得到了氮杂铜酞菁。实验发现,以3,4-吡啶二甲酸合成的氮杂铜酞菁在吡啶中具有较大的溶解度,最大吸收波长为673nm。