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集中送风结合局部送风实现手术室局部净化 被引量:3
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作者 董书芸 于振峰 +1 位作者 涂光备 曹荣光 《天津大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期1227-1231,共5页
针对我国盲目投资建设大量高级别洁净室的现状,研究一种局部净化设备解决垂直单向流存在的问题,寻求关键手术区最优局部净化效果的净化方式.采用数值模拟得出一般垂直单向流存在的问题,并比较一般垂直单向流和局部净化设备对关键区的净... 针对我国盲目投资建设大量高级别洁净室的现状,研究一种局部净化设备解决垂直单向流存在的问题,寻求关键手术区最优局部净化效果的净化方式.采用数值模拟得出一般垂直单向流存在的问题,并比较一般垂直单向流和局部净化设备对关键区的净化效果,从而得出局部净化设备的最佳风量、风速,研制出局部净化设备,通过实测验证其净化效果、发现问题并加以改进.集中送风结合局部送风可以得到关键手术区最优的局部净化效果.在手术室利用送风单元进行局部净化,以较低的初投资和运行费用可灵活实现较高的洁净度. 展开更多
关键词 局部净化 水平净化 手术感染 手术室 局部洁净送风单元 计算流体力学
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C2133侧钻小井眼水平井钻井液技术 被引量:2
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作者 杨玉良 李爱军 蒋西平 《钻井液与完井液》 CAS 北大核心 2003年第1期54-55,共2页
针对彩南油田西山窑组储层裂缝发育,产量大幅度递减、含水量上升较快、注采矛盾突出等问题,在C2133井侧钻,以增加泄油面积。该井侧钻点井深为2120 m,采用聚磺暂堵钻井液,在不同井段采取了不同的钻井液技术措施。即:在套管开窗井段,提高... 针对彩南油田西山窑组储层裂缝发育,产量大幅度递减、含水量上升较快、注采矛盾突出等问题,在C2133井侧钻,以增加泄油面积。该井侧钻点井深为2120 m,采用聚磺暂堵钻井液,在不同井段采取了不同的钻井液技术措施。即:在套管开窗井段,提高钻井液悬浮携屑能力,保证铁屑及时返出地面;磨铣时,钻井液密度为1.10 g/cm3或略增高,以保持侧钻地层井壁稳定。造斜井段,提高钻井液的抑制能力,防止岩屑床的形成;加入SMP-1、KT-100和QCX-1改善泥饼质量,降低滤失量;加入足量的KWR和RH101降低摩阻,控制固相含量。水平井段。在钻井液中加入1.5%FB-2、2%QCX-1、1%WC-1,保持磺化沥青含量为3%~5%,使钻井液具有较强的抑制性、稳定性和良好流变性。现场应用表明,聚磺暂堵钻井液保证了C2133侧钻小井眼水平井不同井段的钻井施工,钻进过程中井壁稳定,未发生井下复杂事故。该井前期日产油量约25 t,比邻井产量高3~5倍,收到了明显的经济效果。 展开更多
关键词 小眼井钻井液 抑制性 井眼稳定 井眼净化侧钻水平 石油钻井
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一种电解铜箔的生箔一体机及其生产工艺
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作者 冷新宇 《印制电路信息》 2024年第7期6-8,共3页
介绍了一种电解铜箔的生箔一体机,其包括生箔组、隔断墙、后处理检测组和分切收卷组。该生箔一体机将电解铜箔的生箔、后处理及分切3项任务分区进行,3个区域分别使用不同的净化水平,可以有效降低洁净车间内部环境的成本;3个工作区域相... 介绍了一种电解铜箔的生箔一体机,其包括生箔组、隔断墙、后处理检测组和分切收卷组。该生箔一体机将电解铜箔的生箔、后处理及分切3项任务分区进行,3个区域分别使用不同的净化水平,可以有效降低洁净车间内部环境的成本;3个工作区域相互连续,可以保证生箔、后处理、检测、分切几个工序同时进行,消去了各个工序之间的时间损耗,大幅提升了工作效率。 展开更多
关键词 电解铜箔 生箔一体机 后处理 分切 净化水平
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低渗透砂岩储层水平井井筒净化技术的改进研究
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作者 李静瑞 苗军 +2 位作者 赵金麟 李余东 王冰飞 《进展》 2023年第17期95-97,共3页
随着近年来长庆油田水平井数量激增,水平井出砂现象日益严重,导致部分水平井因井筒砂埋产量降低,甚至沙埋关井,影响油井产能和开采成本。本文通过对出砂类型进行分析,判断井筒沉砂主要类型为压裂砂,同时介绍了目前常见的水平井冲砂技术... 随着近年来长庆油田水平井数量激增,水平井出砂现象日益严重,导致部分水平井因井筒砂埋产量降低,甚至沙埋关井,影响油井产能和开采成本。本文通过对出砂类型进行分析,判断井筒沉砂主要类型为压裂砂,同时介绍了目前常见的水平井冲砂技术的原理及优点,以及3种水平井冲砂工具的原理、结构和优缺点。最后指出针对低渗储层水平井,冲砂技术需要完善和改进之处。 展开更多
关键词 水平井井筒净化 沉砂类型 冲砂
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Pulsed Corona Discharges and Their Applications in Toxic VOCs Abatement 被引量:1
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作者 Muhammad Arif Malik Salman Akbar Malik 《Chinese Journal of Chemical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 1999年第4期351-362,共12页
Plasma processes are among the emerging technologies for volatile organic compounds (VOCs) abatement[1]. Both thermal plasmas and non-equilibrium plasmas (cold plasmas) are being developed for VOCs cleanup[2,3]. Parti... Plasma processes are among the emerging technologies for volatile organic compounds (VOCs) abatement[1]. Both thermal plasmas and non-equilibrium plasmas (cold plasmas) are being developed for VOCs cleanup[2,3]. Particularly, pulsed corona discharges offer several advantages over conventional VOCs abatement techniques[4-7]. To optimize the existing technology and to develop it further, there is need to understand the mechanisms involved in plasma chemical reactions. Furthermore, it is strongly desirable to be able to predict the behavior of new VOCs in non-equilibrium plasma environment from the data known for a few representative compounds. Pulsed corona discharge technique is introduced here with citation of relevant literature. Fundamental principles, useful for predicting the VOCs' decomposition behavior, have been worked out from the published literature. Latest developments in the area, targeted to minimize the energy losses, improve the VOCs destruction efficiency and reduce the generation of unwanted organic and inorganic by-products, are presented. 展开更多
关键词 corona discharges volatile organic compounds air purification water purification nonequilibrium plasma
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