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FPC水平化学沉铜工艺介绍及优化探讨
1
作者
黎坊贤
《印制电路信息》
2017年第A02期248-254,共7页
无电解铜层的导电性优异、孔壁结合力好、镀层可靠性高以及行业工艺熟悉度高等优势,使其化学沉铜始终在PCB/FPC制造过程占据着不可或缺的地位.水平设备的使用对于FPC制作过程的尺寸稳定性和制程能力优化具有非常重要的影响.水平化学沉...
无电解铜层的导电性优异、孔壁结合力好、镀层可靠性高以及行业工艺熟悉度高等优势,使其化学沉铜始终在PCB/FPC制造过程占据着不可或缺的地位.水平设备的使用对于FPC制作过程的尺寸稳定性和制程能力优化具有非常重要的影响.水平化学沉铜应用于FPC制作孔金属化过程可以满足多层、刚挠结合及盲孔板等高端FPC产品要求.文章对FPC孔金属化使用水平化学沉铜工艺的经验进行介绍,从FPC水平化学沉铜各工序流程的品质管控和工艺优化措施进行探讨,希望能够对水平沉铜工艺在行业使用提供参考.
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关键词
挠性电路板孔金属化
水平化学沉铜
工艺优化
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职称材料
题名
FPC水平化学沉铜工艺介绍及优化探讨
1
作者
黎坊贤
机构
深圳市贝加电子材料有限公司
出处
《印制电路信息》
2017年第A02期248-254,共7页
文摘
无电解铜层的导电性优异、孔壁结合力好、镀层可靠性高以及行业工艺熟悉度高等优势,使其化学沉铜始终在PCB/FPC制造过程占据着不可或缺的地位.水平设备的使用对于FPC制作过程的尺寸稳定性和制程能力优化具有非常重要的影响.水平化学沉铜应用于FPC制作孔金属化过程可以满足多层、刚挠结合及盲孔板等高端FPC产品要求.文章对FPC孔金属化使用水平化学沉铜工艺的经验进行介绍,从FPC水平化学沉铜各工序流程的品质管控和工艺优化措施进行探讨,希望能够对水平沉铜工艺在行业使用提供参考.
关键词
挠性电路板孔金属化
水平化学沉铜
工艺优化
Keywords
Fpc Hole—metallization
HorizontaI Electroless—copper
Process Optimization
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名
作者
出处
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1
FPC水平化学沉铜工艺介绍及优化探讨
黎坊贤
《印制电路信息》
2017
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