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等离子体循环刻蚀镀膜提高锆膜的水气阻隔性
被引量:
1
1
作者
刘际伟
高毅
刘洋
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第6期1916-1920,共5页
为了提高以锆金属镀层封闭聚氨酯泡沫塑料表面对水气的阻隔性,采用了等离子体循环刻蚀和中频磁控溅射镀膜相结合的方法改变锆膜晶粒的生长模式。结果表明,等离子体循环刻蚀以后,锆膜表面的晶粒呈现出非晶化趋势,无等离子体循环刻蚀时锆...
为了提高以锆金属镀层封闭聚氨酯泡沫塑料表面对水气的阻隔性,采用了等离子体循环刻蚀和中频磁控溅射镀膜相结合的方法改变锆膜晶粒的生长模式。结果表明,等离子体循环刻蚀以后,锆膜表面的晶粒呈现出非晶化趋势,无等离子体循环刻蚀时锆膜横截面晶粒的生长方式是法向柱状晶模式,而刻蚀后薄膜呈现的是一种柱状晶和细小球晶团的混合生长模式。水气阻隔实验表明,等离子体循环刻蚀的方法可明显提高锆膜的水气阻隔性。等离子体循环刻蚀抑制了锆膜的法向柱状晶生长,使晶粒更加细化,膜呈现非晶化趋势,这是膜致密性、水气阻隔性增加的根本原因。
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关键词
锆膜
等离子体刻蚀
非晶化
水气阻隔
原文传递
题名
等离子体循环刻蚀镀膜提高锆膜的水气阻隔性
被引量:
1
1
作者
刘际伟
高毅
刘洋
机构
中国工程物理研究院
西南科技大学
出处
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第6期1916-1920,共5页
基金
国家自然科学基金(11505145)
文摘
为了提高以锆金属镀层封闭聚氨酯泡沫塑料表面对水气的阻隔性,采用了等离子体循环刻蚀和中频磁控溅射镀膜相结合的方法改变锆膜晶粒的生长模式。结果表明,等离子体循环刻蚀以后,锆膜表面的晶粒呈现出非晶化趋势,无等离子体循环刻蚀时锆膜横截面晶粒的生长方式是法向柱状晶模式,而刻蚀后薄膜呈现的是一种柱状晶和细小球晶团的混合生长模式。水气阻隔实验表明,等离子体循环刻蚀的方法可明显提高锆膜的水气阻隔性。等离子体循环刻蚀抑制了锆膜的法向柱状晶生长,使晶粒更加细化,膜呈现非晶化趋势,这是膜致密性、水气阻隔性增加的根本原因。
关键词
锆膜
等离子体刻蚀
非晶化
水气阻隔
Keywords
zirconium film
plasma etching
amorphization
water vapor barrier
分类号
TB37 [一般工业技术—材料科学与工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
等离子体循环刻蚀镀膜提高锆膜的水气阻隔性
刘际伟
高毅
刘洋
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
1
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