射频等离子体聚合SiO_x薄膜的研究

在射频等离子体放电条件下,以六甲基二硅氧烷(Hexamethyldisilone,HMDSO)为单体,氧气为反应气体,在PET薄膜及载玻片上聚合SiOx薄膜。通过红外光谱(FTIR)分析了工作压强、功率、单体氧气比、聚合时间等对聚合薄膜的结构和沉积速度的影响;通过扫描电子显微镜(SEM)观察了薄膜的表面形貌;通过表面轮廓仪测试了薄膜厚度,计算了沉积速率并对薄膜的均匀性做了研究。在38℃恒温水浴箱中进行的水蒸汽阻隔实验表明,PET薄膜的阻隔性能得到有效的提高。