半导体晶圆的污染杂质及清洗技术

介绍了半导体圆片存在的各种污染杂质的类型和去除方法,并概要总结了半导体圆片的清洗技术,对半导体圆片的湿法和干法清洗特点和去除效果进行了比较分析。

半导体晶圆的污染杂质及清洗技术分析

半导体晶圆是当前常用的一种硅晶片材料,主要应用于制作硅半导体电路,是将高纯度多晶硅溶解后,掺入硅晶体晶种,拉出形成圆柱形单晶硅。此类材料在电路中有着非常广泛的应用,但其中可能会存在一些污染杂质,导致电路质量受到影响,也可能造成比较严重的材料损失。本文对半导体晶圆的主要污染杂质进行分析,明确常用的清洗技术,采取有效方法进行处理,从而提高半导体晶圆的质量,并确保其应用效果。

测试润滑脂中污染杂质和流变性等性能的试验方法正在开发

在2015年4月召开的欧洲润滑脂协会（ELGI）年会上,ELGI称其正在开发测量润滑脂颗粒污染物、流变学性质、生物基润滑脂性能、铁路润滑脂和食品级润滑脂性能的评定方法。Afton化学公司的参与人员报告了颗粒评定工作组的工作情况,指出测量方法中最重要的指标是测定颗粒物的数量、尺寸和硬度。

GaAs衬底上生长的GaInP_2外延单晶薄膜的杂质污染研究

各种外延技术已被用来在ＧａＡｓ衬底上生长ＧａｘＩｎ１－ｘＰ外延单晶薄膜（ＧａＩｎＰ２／ＧａＡｓ）．很多文献认为，在ＧａＩｎＰ２／ＧａＡｓ生长过程中会被Ｃ杂质污染．我们用高灵敏的ＣＡＭＥＣＡＩＭＳ４Ｆ型二次离子质谱仪直接测量的结果表明，污染ＧａＩｎＰ２／ＧａＡｓ的微量杂质是Ｓｉ，而不是Ｃ．由ＧａＩｎＰ２／ＧａＡｓ在１．１７ｅＶ附近的光致发光峰的峰值随激发强度的变化形状表明了它应属于施主－受主对复合发光．进一步分析表明，施主为处在Ｇａ格位上的Ｓｉ杂质（ＳｉＧａ），受主为Ｇａ空位（ＶＧａ）．

BF_2^+离子注入时磷杂质离子污染控制的研究

同一台离子注入机B,P离子交叉注入,残留的磷和BF3分解产生的F生成50PF+,成为难控隐患。研究指出,实际注入晶圆的平均质量数,呈以目标离子质量数为中心的正态分布;49BF2+与50PF+因质量数接近而存在可能的重叠分布区,这是出现磷污染的原因;指出改善质量分析器的控制精度,可在线调控以避免磷污染。通过比较发现,当质量分析器设定为49±0.5且注入高束流达800μA时,离子注入机不能侦测到临近目标质量数的杂质离子。离子注入机经80 h注入31P+后再交叉注入的老化实验准备,当引弧电流达3 100μA时,电性测试发现,质量分析器设定为49±0.3(质量分辨率m/Δm=169.3)的样品无磷污染。进一步研究了多重老化因素叠加效应,经同样的老化实验准备、引弧电流为3 100μA且注入束流为800μA时,注入剂量为2.2×1015的49BF2+,当质量分析器严控为49±0.3,经SI MS(secondaryion mass spectroscopy)分析二个样品均未发现磷的高能峰。改进质量分析器控制设定数值的解决方案经生产验证有效,无需Frederic Sahores(2002 IEEE)的如增加清洗频率或分离子源专用注入机等高成本方案,提高了效益与产品良率。

食品中的杂质污染及其预防措施

食品中的杂质是指食品中所含有的肉眼可见的非食品正常组分的外来混入物。食品加工过程中常常由于各种原因造成杂质污染 ,要解决食品中杂质污染问题应该以切断污染源、控制污染途径为重点 ,改进工艺设备、完善卫生设施。

高纯气体供应系统的杂质污染及防治

高纯气体的杂质污染,对电子产品生产来说,主要是指各种产品所需高纯气体中的微量气态杂质,如一氧化碳、二氧化碳、碳氢化合物和各种工序不需要、且有害的气态杂质,微量水份、微粒、金属离子等。

在镍镀液中锌杂质污染及其排除方法

1锌杂质的危害性 （1）当锌离子在0．02～0．06g／LB,1，镀层就开始发脆。从赫尔槽样板中看到：低电流区域的镀层呈灰黑色，当用手擦揩这些部位时，不会发生如铜杂质污染镀液时容易被脱落的黑色粉末镀层。

在镀镍液中六价铬杂质污染及其排除方法

1六价铬杂质的危害性 镀镍液对铬杂质特别敏感，微量的六价铬，即使仅仅3—5mg／L都会使镍离子在低电流密度区难于沉积。甚至出现条纹、镀层剥落、发黑、无镍层等。严重影响到镍镀层的质量。

镀镍液中铜杂质污染及其排除方法

1铜杂质的危害性 铜离子含量超过5ml／L时，它将在钢铁、锌压铸件的表面析出，导致镀层结合不良，特别是在中断电流时或在低电流密度部位容易引起这种现象，铜使得低电流密度区镀层呈灰色或黑色外观。

压缩空气中的主要污染成分有哪些?

答：从空压机出来的压缩空气是一种不干净的气体，其中混有多种会对生产过程及产品质量带来损害的污染杂质，主要有：

热锯稀油润滑系统油液污染分析及对策

φ1800热锯稀油润滑系统油液被金属颗粒、粉尘、水等杂质污染后,造成过滤器堵塞与齿轮泵失效等故障。本文从金属颗粒、粉尘、水等杂质污染等方面进行分析并提出相应对策,提高热锯稀油润滑系统的稳定性。

金属探测器保肉品免受金属污染

肉类是人类获取优质蛋白的最好途径。目前．我国每年肉类消费的增长率可达5％以上．冷却肉．冷冻肉、分部位的小包装肉及各类肉制品的销量都在迅速增长。随着加工技术的不断进步。肉类加工已普遍实现机械化、自动化，因此．肉类加工中易出现金属杂质污染．

微光器件铟封漏气因素分析

为解决微光管光电阴极与管体铟封漏气问题,采用扫描电镜和X射线能谱仪对铟材和封接过程工艺质量进行全面分析,结果表明造成铟封漏气的根本原因是铟量小,铟表面氧化和吸附的杂质污染造成的,与铟纯度无关。采取提高真空度,改进化铟工艺,控制铟高温外流等措施解决了阴极与管体铟封漏气问题,使气密性成品率大于90%。

发动机零部件清洁度监控水平的提升

清洁度是指零件、总成和整机特定部位被杂质污染的程度，是一项非常重要的质量指标。具体来说，清洁度表示零件或产品在经过生产线清洗工序后，在其表面上残留的污染物的量。一般情况下，污染物的量包括种类、形状、尺寸、数量以及重量等衡量、评定参数，至于具体用哪一种则取决于不同污染物对产品质量的影响程度和该产品的清洁度控制要求。

真空室内金属杂质污染对光学薄膜性能的影响

真空室内金属粒子污染是降低激光薄膜性能的一个重要因素。采用高真空残余气体分析仪,对薄膜沉积过程中的气氛进行分析。发现由黄铜制作的加热灯架在工作时会分解出Zn,在这种条件下沉积薄膜,会使薄膜中掺入金属杂质,导致薄膜激光破坏阈值降低。采用表面分析技术对薄膜的组分进行分析,证实薄膜中锌杂质的存在。激光破坏实验证明,含有锌杂质的薄膜的破坏阈值明显降低。

用好液压系统注意五防

1．防污染杂质混人液压油2．防水分混人液压系统3．防空气进人液压系统4．防油温过高5．