考虑沉积时间效应的原位砂土抗液化强度剪切波速评价

剪切波速是评价饱和砂土抗液化强度的常用指标之一。在基于初始液化标准的砂土抗液化强度剪切波速表征模型(即“周-陈模型”)的基础上,进一步引入考虑沉积时间效应的修正系数,分别对原位测得的剪切波速和重塑砂土抗液化强度进行修正,使得“周-陈模型”能适用于原位砂土抗液化强度评价。针对云南巧家县某工程场地,进行原位剪切波速测试、现场取样并开展室内单元体试验,得到了“周-陈模型”的关键表征参数,据此建立了相应的地震液化剪切波速判别方法。利用该判别方法对该工程场地砂土层不同钻孔土层进行了地震液化判别,并与国内外其它液化判别方法进行比较,发现判别结果基本一致。本文发展的考虑沉积时间效应的剪切波速表征模型为评价实际工程场地原位砂土抗液化强度提供了有效手段。

沉积时间和电流对多孔表面沸腾特性的影响

多孔表面是提高沸腾传热性能的有效表面改性技术。为探究多孔表面的制备参数对沸腾传热性能的影响,应用电化学沉积法在不同的沉积时间和电流下制备了多孔表面,并在常压下对去离子水进行了池沸腾实验。与普通表面相比,多孔表面显著提高了沸腾传热性能。最大临界热流密度(CHF)和最高传热系数(HTC)分别达到3.00 MW/m^(2)和136 kW/(m^(2)·K),比光滑表面分别提升了145%和156%。CHF和HTC对多孔表面的增强归因于气化核心数量增加、传热面积的增加和毛细芯吸力的增强。

沉积时间和温度对底泥间隙水有机污染物的影响

通过底泥培养试验,研究了沉积时间和温度对底泥间隙水相有机污染物的影响。结果表明,环境温度对于底泥间隙水中有机污染物浓度影响很大,一是体现在污染物浓度增加的速率,二是体现在平衡浓度的大小。较高的环境温度对应更高的间隙水相污染物浓度。从沉积开始,底泥系统的pH呈逐渐下降的趋势,在起始的2d中下降显著,而后逐渐达到平衡;环境温度的影响明显,较低的温度对应较高的pH值。底泥Eh也呈逐渐下降,但主要下降段集中在起始的24h以内,在大约48h后基本达到平衡状态;环境温度对底泥系统的Eh变化影响很大,但对底泥系统的氧化还原电位测量影响小。针对底泥间隙水有机污染物的特点,首次提出原始底泥的概念,这将有利于考虑污染底泥的水质模型的建立。

沉积时间对纳米晶Ni-Fe合金电沉积层耐蚀性的影响

采用直流电沉积法在黄铜基体上制备出纳米晶Ni-Fe合金,其成分为:Ni 76.6%±1.2%,Fe 23.4%±1.2%,晶粒尺寸约为9 nm。在质量分数为3.5%的NaCl溶液中,沉积时间为20 min时所得合金镀层的耐蚀性最好,自腐蚀电流密度约为0.453μA/cm2,涂层电阻约为80 110Ω;当沉积时间超过20 min后,所得镀层的耐蚀性显著下降;当沉积时间达到50min时,所得镀层的自腐蚀电流密度达到0.984μA/cm2,涂层电阻降低至22 280Ω。

沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响

应用直流磁控反应溅射法，在玻璃基体上制备了具有光催化活性的TiO2薄膜。TiO2薄膜的厚度随沉积时间的增加而均匀增长。基体温度则在溅射的最初1h裉快上升到110℃，溅射7h基体温度不超过130℃。溅射2h得到的是非晶态TiO2薄膜，而溅射3～7h制备的薄膜为锐钛矿型结构。非晶态和小晶粒TiO2薄膜的紫外-可见透射光谱谱带边沿与结晶较好的TiO2薄膜相比有明显的蓝移，薄膜的透射率随沉积时间的增加而下降。钛以四价钛的形式存在于TiO2薄膜中。TiO2薄膜的光催化活性随沉积时间和薄膜厚度的增加而有较大提高。

沉积时间对ZrTiN涂层微观结构及性能的影响

采用多弧离子镀膜法,在YT15及YG8硬质合金基体上沉积ZrTiN硬质涂层,并分析涂层微观形貌、物相组成、涂层的厚度、硬度及结合力等性能参数随沉积时间的变化。结果表明:沉积时间不会影响ZrTiN涂层的晶面指数,涂层中只有单一面心立方结构相形成,且晶面指数始终为(111);涂层的晶粒尺寸约为10nm且随沉积时间变化不大。沉积时间为120min时,涂层的显微硬度和结合力明显下降。

复杂河流相地层单砂体级沉积时间单元对比方法

采用"重点井沉积时间单元划分"-"标准层控制﹑参照层借鉴对比"-"切叠河流定界"-"平面井网对比"这一对比方法,可以很好地解决复杂河流相地层沉积时间单元精细对比的难题,采用该方法对大庆长坦喇嘛甸油田目的层301口开发井进行了沉积时间单元的划分与对比,在此基础上精细刻画了SⅢ各沉积时间单元单砂体的分布范围,把原来认为的大面积连片的河道砂体细分为多条单一河道砂体,为剩余油的挖潜提供了根本保证。

沉积时间对镁合金表面化学镀镍磷合金的影响

沉积时间是影响化学镀镍磷合金最重要的工艺参数之一。采用不同施镀时间在AZ31镁合金表面进行化学镀镍磷合金,分析了这一主要工艺参数对镀层的硬度、沉积速率、耐腐蚀性、微结构及形貌等的影响,拟对这一主要工艺参数进行优化,为AZ31镁合金的表面处理提供依据。结果表明:在镀液pH值为6.5,温度为85℃的条件下,选择施镀持续时间为45min时镀层质量最佳,所得镀层光亮,胞状组织均匀致密,耐腐蚀性比基体明显有所提高,并具有较高的硬度。

放置方向和沉积时间对Ti大颗粒分布状态的影响

目的研究基体表面和靶表面不同放置方向以及沉积时间对Ti大颗粒形貌和分布规律的影响。方法利用电弧离子镀方法在基体上制备TiN薄膜，采用扫描电子显微镜观察TiN薄膜的表面形貌，利用ImageJ图像软件对TiN薄膜表面中Ti大颗粒的数目和尺寸进行分析。结果靶基间距保持25cm，当基体表面与靶表面垂直放置时。薄膜表面的大颗粒数目和所占面积比比平行放置时要少，同时出现了典型的长条状大颗粒：随着沉积时间从5min增加到50min，大颗粒数目和所占面积比出现先减小后增加的趋势。结论选择基体表面与靶表面垂直放置，沉积时间为30～40min时，薄膜的沉积厚度和减少大颗粒缺陷可以兼顾。

化学水浴沉积时间对CdS薄膜性质的影响

采用CBD法在醋酸镉溶液体系中制备CdS半导体薄膜,通过XRD、XRF、SEM和光学透过率谱等测试手段研究了沉积时间对CdS薄膜沉积过程和性质的影响。结果表明,随着沉积时间的增加,薄膜增厚;S/Cd原子比增加,但都为富Cd的CdS薄膜;XRD研究表明,薄膜结构由立方、六方混合相向立方相转变,(111)方向成为择优生长方向;SEM研究表明,随沉积时间增加,薄膜变致密,薄膜表面出现的白色附着颗粒增多,尺寸增大;沉积时间对薄膜的光学性质也有很大的影响,随着沉积时间的增加薄膜透过率减小,而禁带宽度值增大。

沉积时间对电沉积ZnS薄膜的影响

采用阴极恒电位法在氧化锡铟导电玻璃(ITO)基板上电沉积了ZnS薄膜,用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和紫外/可见/近红外吸收光谱仪(UV-VIS-NIR)对薄膜的物相结构,微观形貌和光学性能进行了表征,研究了沉积时间对薄膜的结构以及光学性能的影响。研究结果表明:当沉积时间为6min时,可以得到表面均匀而致密的ZnS薄膜,在500～1000nm波长范围内的薄膜透过率约为40%～60%。随着沉积时间的增加,ZnS薄膜的结晶程度、微观形貌均有所改善,但当沉积时间达到或超过8min时,薄膜的结构和性能又有所下降。

Al沉积时间对Si衬底GaN材料的影响

通过改变高温AlN形核层生长时提前通入TMAl的时间,分别在Si(111)衬底上生长了4个1μm厚的GaN样品,并对每个样品的GaN外延材料进行了分析研究。通过显微镜观察发现,Al的沉积时间为12 s时,GaN材料表面光亮,基本没有裂纹。另外通过喇曼谱和光荧光谱(PL)测试得出,随着生长初期Al沉积时间的增加(8～15 s),GaN外延层的水平应力逐渐减小(由1.28 GPa减小到0.67 GPa),Al的沉积时间为12 s时GaN外延材料的应力较小。同时,GaN材料(002)和(102)晶面的X射线衍射摇摆曲线表明,Al的沉积时间为12 s时GaN外延材料的晶体质量最好。

大庆油田杏十二区单砂体级沉积微相精细研究——以葡萄花油层重点沉积时间单元为例

油田在进入特高含水开采阶段以后,剩余油的预测及挖潜在很大程度上取决于对地下油藏的研究精度和认识程度。对沉积微相进行单砂体级精细研究是油田开发调整的重要基础。通过大庆油田杏十二区葡萄花油层组葡Ⅰ3(PⅠ3)小层6个重点沉积时间单元138口开发井的测井资料分析,将各井沉积时间单元细分至单砂体级并精细统层对比。在此基础上建立测井微相模式,确定6个沉积时间单元平面沉积微相及单砂体空间分布。

沉积时间对镁合金化学镀镍的影响

为了优化镁合金直接化学镀镍工艺,把沉积时间作为变量参数,采用SEM,XRD和NSS等方法对不同沉积时间下获得的镍磷镀层进行了检测,并分析了沉积时间对沉积速率、沉积过程、相结构、硬度、耐蚀性等方面的影响规律。结果表明:施镀时间为40 min时,所获得的Ni-P镀层的综合性能最佳。镀层由非晶态和少量微晶组成,具有优良的耐蚀性和较高的硬度。

沉积时间对MPTS自组装膜摩擦学性质的影响

利用分子自组装技术在羟基化后的单晶硅硅片表面制备(3-巯基丙基)三甲氧基硅烷(MPTS)自组装膜,用X射线光电子能谱仪(XPS)对薄膜的表面结构进行表征,用JGW-360a型接触角测量仪测量硅片表面的接触角,用UMT-200型微观摩擦磨损实验机测量硅片的摩擦因数,探讨沉积时间对自组装膜的摩擦学性能的影响。结果表明:MPTS自组装膜具有亲水疏水性能,其对水的接触角超过60°;硅片表面沉积MPTS可以大幅度降低硅片的摩擦因数,使硅基片表面的摩擦因数由无膜时的0.6降至0.25左右,且具有很好的耐磨性;沉积时间对硅表面自组装膜的摩擦学性能影响较大,在本实验条件下,0.5 h沉积时间所制备的MPTS-SAM硅片的耐磨性最佳,1 h沉积时间制得的硅片表面最为光滑。

酸性条件下水浴沉积时间对硫化镉薄膜特性的影响

基于化学水浴法,以硫代乙酰胺为硫源、氯化镉为镉源、尿素为缓冲剂,在酸性条件下制备了CdS薄膜。采用台阶仪、X射线衍射仪、扫描电镜和紫外/可见光分光光度计,研究了酸性条件下化学水浴沉积时间对硫化镉薄膜厚度、结构、形貌和光学特性的影响。结果表明,沉积所得的CdS薄膜为六角纤维锌矿结构。随着沉积时间的延长,薄膜厚度和晶粒尺寸随之增大,带隙随之减小。当沉积温度为80℃,沉积时间为30min时,CdS薄膜可见光波段平均透过率接近80%。

精细地质建模中的沉积时间单元标准化研究

建立精细地质模型必须将沉积时间单元标准化。精细地质建模中的的沉积时间单元标准化采用Delph i和Access作为标准化过程的辅助工具。介绍了精细地质建模中的的沉积时间单元标准化设计方法和技术,包括沉积时间单元的填空处理、标准化处理、窜层处理和查错处理等。

溅射气压和沉积时间对c-BN薄膜结构的影响

采用磁控反应溅射方法，在Ｓｉ（１００）衬底上沉积ｃＢＮ薄膜，研究了溅射气压和沉积时间对薄膜结构的影响。结果表明，随溅射气压的升高或沉积时间的增加，都是削弱荷能粒子对衬底表面的轰击效果，并导致薄膜中ｃＢＮ相含量的减小。

电化学沉积时间对CaMoO_4薄膜制备影响研究

采用恒电流电化学制备技术,在高纯金属钼基体上直接制备了白钨矿结构的CaMoO4薄膜.研究发现电化学沉积时间对薄膜的表面形貌、晶格参数、薄膜附着力等有重要的影响,为了沉积出结晶良好、附着力较强的CaMoO4多晶薄膜,将沉积时间控制在工作电极电位达最大值所需时间附近比较好.

沉积时间对脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜性能的影响

采用脉冲激光沉积技术(PLD)在氧气气氛中以高纯Zn为(99.999%)靶材,在单晶硅和石英衬底表面成功生长了ZnO薄膜。通过X射线衍射仪、表明轮廓仪、荧光光谱仪、紫外可见分光光度计对合成薄膜材料的晶体结构、厚度、光学性质等进行了研究,分析了ZnO薄膜的沉积时间对其性能的影响。结果表明,采用PLD法在室温下可以制备出(002)结晶取向和透过率高于75%的ZnO薄膜,但室温下沉积的ZnO薄膜的发射性能较差,沉积时间的延长不能改善薄膜的发光性能。