离子溅射仪油雾污染对溅射基底的影响

利用光学显微镜、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜以及能谱仪研究了油雾污染对溅射基底(硅片、称量纸、铜箔和载玻片)微观形貌和元素含量的影响。结果表明:溅射沉积不同时间后,硅片基底上均出现球状颗粒,且颗粒随着溅射时间延长而聚集或长大;溅射前硅片的碳含量为4.55%,经溅射沉积50s后其表面碳含量约为31.55%;铜箔和称量纸溅射沉积50s后的光学形貌与溅射前差异不大,未出现球状颗粒;载玻片溅射沉积50s的光学形貌与硅片的接近,表面随机分布着球状颗粒。硅基类基底对油雾污染极其敏感,表现为经过溅射处理后样品表面分布着球状颗粒,且碳元素质量分数约为溅射前的7~8倍。