沾污控制的基本原理

大多数卫星或飞船上都装载有各种各样的工程子系统,如光学遥感仪器、太阳能列阵以及热辐射器等,这些子系统对沾污物质都很敏感。如果它们受到沾污,其性能就会受到影响。因此沾污控制是航空与航天工业中的一个重要课题。

现代硅片加工过程中的沾污控制

随着器件尺寸的不断缩小，沾污控制变得日趋关键，就目前的技术水平而言，只能在硅片的净化间存放、传递及加工环境等方面进行治污控制。为满足将来的需要，MMST工程研制了一种专门的微环境，用来进行硅片处理。硅片的传递在一封闭的容器中进行，人们称之为“真空载体”，它既可封闭于真空状态或大气状态，亦可封闭于惰性气体环境中。在设计上使该载体可用于作为常规设备承片台上的花兰，也可用于设备的真空锁。它的真空客量可对硅片进行真空负载锁定保持封闭，这样可使硅片在两道最大的沾污工序──—抽真空及充气过程中得以保护。