光学光刻的波前工程

介绍了国内研究光学光刻波前工程的一些成果,如新型移相掩模、投影光刻的邻近效应和掩模加工的邻近效应的组合模拟等。

波前工程与光学超分辨

对光学曝光技术的主要进展、波前工程概念和实现光学超分辨的基本途径等进行了论述。

新兴的波前工程学

基于光学衍射原理而发展起来的新光学技术，应用于光学掩模设计，可制作逼近临界尺寸的微小元件和极高密度的集成电路芯片．波前工程学可能导致集成电路模板制作上的一场革命，其前景十分引人瞩目．

论波前光学——2015全国高校光学教学暨学术研讨会上报告

基于对波动光学现代进展的剖析,提出了现代波动光学正是波前光学的论断,构建了波前光学的理论纲要,包括波前描述和识别,波前叠加和干涉,波前变换和分解,波前记录和重现,以及波前设计和波前工程,且倡导了波前相因子判断法,用以分析复杂波场主要成分的一种有效方法,最后,倡议在大学基础光学课程中应与时俱进而加强波前光学的教学.

光波导理论

TN25 96010338掺Bi钇铁石榴石薄膜光波导的线性双折射及消除方法=The linear birefringence in Bi—substitut-ed yttrium iron garnet thin film opticalwaveguide and its elimination methods[刊,中]/张颖,欧阳嘉,何华辉(华中理工大学固体电子学系。湖北,武汉(430047))∥光学学报。—1995。

Positioning of grid points in wave front construction

鉴于在在波浪前面构造方法的非常规的四边的格子和常规矩形格子节点之间的相对的放问题，有放方法的四个格子的具体实现问题(向量十字产品判断，角度和，交叉点，并且签署比较算法)在通常在计算机被使用的波浪前面建设，图形在这被比较并且分析纸。在在波浪前面建设在非常规的四边的格子和常规矩形格子节点之间放的亲戚的实现基于地点方法，向量十字产品判断方法更快的计算例子表演和比另外的方法精确的更多的稳定性分析。它为移植和 demigration 的下一步提供精确格子点属性价值。

微细加工技术与设备

TN305.7 99021338波前工程与光学超分辨=Wavefront engineeringand optical super resolution[刊,中]/韩安云(电子工业部第13研究所.河北,石家庄(050051))//半导体情报.—1998,35(3).—1-17对光学曝光技术的主要进展、波前工程概念和实现光学超分辨的基本途径等进行了论述。图28表4参50(赵桂云)TN305.7 99021339Φ3英寸GaAs 0.5 μm准分子激光光刻技术=Excimerlaser photoetching technique with Φ3 inGaAs 0.5 μm[刊,中]/刘玉贵,尚秀红,陈沐章。

纳米光刻技术

纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心 .纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一 ,其制作技术是整个纳米技术的核心基础 ,已成为当前世界科学研究急需解决的问题 .文章针对目前的科技发展情况 ,介绍了几种纳米光刻技术的实现新途径、发展现状和关键问题 .详细阐述了波前工程、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、原子光刻、干涉光刻、极紫外光刻以及 15 7光刻的原理和实现难点 .作为下一代各种光刻技术 ,它们都有望实现纳米量级的图形 ,但各种技术可实现的分辨力极限有所不同 .5 0nm以上分辨力可以用 193nm光刻结合波前工程和干涉光刻实现 .5 0nm左右的分辨力可用极紫外光刻、15 7光刻和 12 6nm光刻实现 .而电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、原子光刻则可望实现几个纳米的分辨力 .但是这些技术的完善还有待于诸如光学系统、抗蚀剂、精密控制等等相关技术的成熟 .文章还讨论了纳米光刻技术的应用前景 .