镍基高温合金表面Al_2O_3活性扩散阻挡层的研究

采用EB-PVD在DD5镍基高温合金与Ni Cr Al涂层之间沉积Zr O2作为先驱层,并对试样分别进行600℃/4 h,700℃/4 h及900℃/4 h真空扩散处理,研究了扩散温度对α-Al2O3活性扩散阻挡层形成的影响,并且通过900℃/100 h恒温氧化处理对活性扩散阻挡层的高温服役性能进行了评价。结果表明:经过900℃/4 h真空扩散处理后,在Zr O2/Ni Cr Al界面形成一层连续致密的α-Al2O3扩散阻挡层,并且经过900℃/100 h大气恒温氧化后,α-Al2O3活性扩散阻挡层表现出良好的稳定性,以及优异的阻扩散能力。

电弧离子镀沉积Cr-O-N活性扩散阴挡层

采用电弧离子镀技术在NiCoCrAlY涂层与高温合金基材DSMll间沉积不同成分的Cr-O-N薄膜作为扩散阻挡 层,研究了900℃下氧化1400 h后DSMll／Cr-O-N／NiCoCrAlY体系中Cr-O-N层阻挡合金元素互扩散的行为以及阻 挡层对涂层氧化动力学曲线的影响.结果表明, Cr-O-N层在高温氧化过程中生成与涂层和基材有良好结合的富Al氧化物层, 可以阻挡DSMll基体与NiCoCrAlY涂层间的元素互扩散,起到活性阻挡层的作用;Cr-O-N层中O和N含量影响生成 富Al氧化物层的连续性和致密性,从而影响其阻挡元素互扩散的性能.几种成分的Cr-O-N活性扩散阻挡层对NiCoCrAlY 涂层900℃下的高温氧化性能都有一定的改善作用,改善程度与阻挡层阻挡合金元素互扩散的程度保持一致.