HAP/UV催化降解活性艳蓝K-3R的研究

用化学沉淀法合成羟基磷灰石(HAP),并用XRD、SEM、FT-IR对其进行分析。以活性艳蓝K-3R为降解底物,研究HAP对其光催化降解性能。探讨了HAP煅烧温度、通气量、投加量、初始浓度等因素对光催化降解活性艳蓝K-3R效果的影响。研究表明化学沉淀法合成的HAP粒度均匀,HAP对活性艳蓝的吸附作用较强,30min之内即能达到吸附平衡,其对初始浓度为100mg/L的活性艳蓝的吸附率可达17.5%。适当的煅烧有利于提高HAP的催化活性,以200℃煅烧2h最佳。在投加量为4g/L,鼓气量为300L/h和pH=6的试验条件下,HAP(200℃)对初始浓度为100mg/L的活性艳蓝K-3R 3h的降解率达68%。降解反应动力学研究表明,HAP/UV光催化降解活性艳蓝K-3R的过程符合Langmuir-Hinshel-wood一级动力学方程,降解速率常数k随着活性艳蓝K-3R浓度的增大而减小。

助剂对漆酶脱色性能的影响

漆酶是一种多酚氧化酶,研究了漆酶LAC-H对活性艳蓝K-3R和直接大红4BS溶液的脱色性能,确定其最佳应用条件,结果表明,在40℃、pH4.0时,漆酶LAC-H有最佳的综合应用性能;通过添加不同物质(如盐类、醇类、表面活性剂等),研究印染行业常见助剂对其脱色能力的影响.研究了递质低分子质量有机物对漆酶脱色的影响,结果发现:在添加了1-羟基苯并三唑后,漆酶的脱色能力获得明显提高。