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浮法抛光原理装置及初步实验 被引量:8
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作者 高宏刚 曹健林 +4 位作者 陈斌 马月英 张俊平 王占山 陈星旦 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1995年第1期57-60,共4页
浮法抛光是当前超光滑表面高效加工技术之一。本文介绍了浮法抛光原理装置及初步实验结果。利用这项技术对30的K9玻璃样片进行实验,经过2~4小时的抛光后,表面粗糙度值优于1nmRa。
关键词 浮法抛法 超光滑表面 超精加工 光学元件
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