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浸没式阵列激光扫描直写光刻
被引量:
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作者
徐端颐
范晓冬
+1 位作者
蒋培军
齐国生
《电子工业专用设备》
2008年第10期1-9,共9页
介绍一种以显微镜结构为基础的浸没式阵列激光扫描直写光刻系统的光路结构、有效焦深、自动调焦及曝光能量控制的原理和方法。实验系统的有效数值孔径(ENA)为1.83,使用的激光波长为355nm时,在实验室条件下得到的最细线条宽度为65nm。
关键词
阵列激光扫描
浸没式镜头
直写光刻
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职称材料
题名
浸没式阵列激光扫描直写光刻
被引量:
1
1
作者
徐端颐
范晓冬
蒋培军
齐国生
机构
清华大学精密仪器系
出处
《电子工业专用设备》
2008年第10期1-9,共9页
文摘
介绍一种以显微镜结构为基础的浸没式阵列激光扫描直写光刻系统的光路结构、有效焦深、自动调焦及曝光能量控制的原理和方法。实验系统的有效数值孔径(ENA)为1.83,使用的激光波长为355nm时,在实验室条件下得到的最细线条宽度为65nm。
关键词
阵列激光扫描
浸没式镜头
直写光刻
Keywords
Array laser scanning
Immersion lens
Direct Photolithography
分类号
TN247 [电子电信—物理电子学]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
浸没式阵列激光扫描直写光刻
徐端颐
范晓冬
蒋培军
齐国生
《电子工业专用设备》
2008
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