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浸液冷却技术的发展概况
1
作者
T.杜威
肖率
《雷达与对抗》
1989年第2期61-64,共4页
<正> 集成电路的故障率与工作温度密切相关。最新的元件的耗散功率大于10瓦/〔厘米〕~2,有些器件的耗散功率为40~50瓦/〔厘米〕~2。如果没有极大的散热片,电子设备常用的自然对流或强迫对流的空气冷却方法就不能适应现代的高功...
<正> 集成电路的故障率与工作温度密切相关。最新的元件的耗散功率大于10瓦/〔厘米〕~2,有些器件的耗散功率为40~50瓦/〔厘米〕~2。如果没有极大的散热片,电子设备常用的自然对流或强迫对流的空气冷却方法就不能适应现代的高功率密度。这样的器件采用空气冷却时需用的实际设备不能发挥它的可有较高电路密度的潜力。硅元件的热流量与所需要的工作温度之间的矛盾不断扩大,要求人们采用其它的热控制技术。在电子设备中采用一些替代空气冷却的方案已经有许多年了。
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关键词
浸液冷却
热控制
集成电路
下载PDF
职称材料
浸液淬火冷却技术中几个热点问题的研究与进展
2
作者
陈乃录
《机械工人(热加工)》
2004年第4期17-19,共3页
浸液淬火冷却是目前热处理领域应用最为广泛的方法,同时它也是存在问题最多、研究难度最大的领域之一,已成为目前热处理界研究的热点问题之一。但是,由于浸液淬火冷却过程的复杂性和具有瞬间完成的特点,加之测量仪器和研究手段的局限。
关键词
浸液
淬火
冷却
热处理
淬火介质
冷却
曲线
控制
冷却
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职称材料
题名
浸液冷却技术的发展概况
1
作者
T.杜威
肖率
出处
《雷达与对抗》
1989年第2期61-64,共4页
文摘
<正> 集成电路的故障率与工作温度密切相关。最新的元件的耗散功率大于10瓦/〔厘米〕~2,有些器件的耗散功率为40~50瓦/〔厘米〕~2。如果没有极大的散热片,电子设备常用的自然对流或强迫对流的空气冷却方法就不能适应现代的高功率密度。这样的器件采用空气冷却时需用的实际设备不能发挥它的可有较高电路密度的潜力。硅元件的热流量与所需要的工作温度之间的矛盾不断扩大,要求人们采用其它的热控制技术。在电子设备中采用一些替代空气冷却的方案已经有许多年了。
关键词
浸液冷却
热控制
集成电路
分类号
TN957.84 [电子电信—信号与信息处理]
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职称材料
题名
浸液淬火冷却技术中几个热点问题的研究与进展
2
作者
陈乃录
机构
上海交通大学先进热处理与表面改性工程技术研究中心
出处
《机械工人(热加工)》
2004年第4期17-19,共3页
文摘
浸液淬火冷却是目前热处理领域应用最为广泛的方法,同时它也是存在问题最多、研究难度最大的领域之一,已成为目前热处理界研究的热点问题之一。但是,由于浸液淬火冷却过程的复杂性和具有瞬间完成的特点,加之测量仪器和研究手段的局限。
关键词
浸液
淬火
冷却
热处理
淬火介质
冷却
曲线
控制
冷却
分类号
TG156.3 [金属学及工艺—热处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
浸液冷却技术的发展概况
T.杜威
肖率
《雷达与对抗》
1989
0
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职称材料
2
浸液淬火冷却技术中几个热点问题的研究与进展
陈乃录
《机械工人(热加工)》
2004
0
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职称材料
已选择
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