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Ti离子在介孔MCM-41中涂敷合成条件研究 被引量:7
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作者 吴秀文 马鸿文 +2 位作者 李志宏 吴忠华 杨静 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期139-142,共4页
在空气环境中,以无水乙醇为中间介质,常温涂敷法合成了 Ti-MCM-41介孔分子筛,实验研究了不同Ti/Si 摩尔比和钛源等因素对 Ti-MCM-41合成的影响。XRD 研究表明,随 Ti/Si 摩尔比由0.01增加到0.10.衍射参数 d_(100)由3.98nm 缩小为3.65nm,... 在空气环境中,以无水乙醇为中间介质,常温涂敷法合成了 Ti-MCM-41介孔分子筛,实验研究了不同Ti/Si 摩尔比和钛源等因素对 Ti-MCM-41合成的影响。XRD 研究表明,随 Ti/Si 摩尔比由0.01增加到0.10.衍射参数 d_(100)由3.98nm 缩小为3.65nm,100衍射峰强相对于 MCM-41下降了33%~84%;以钛酸四丁酯和四氯化钛为钛源合成 Ti-MCM-41时,100衍射峰强相对 MCM-41分别下降了33%和59%;SAXS 得到的 Ti-MCM-41孔径与 TEM照片的结果符合,好于 N_2吸附-脱附等温线方法得到的结果,SAXS、TEM、N_2吸附-脱附等温线给出的孔径分别为2.00nm、2.15nm、3.60nm。 展开更多
关键词 介孔分子筛 MCM-41 涂敷合成 SAXS MCM-41介孔分子筛 TI-MCM-41 合成条件 涂敷 离子 钛酸四丁酯
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