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涂胶显影设备的静电防护设计
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作者 高晓旭 王丽鹤 《中国高新科技》 2024年第12期37-39,共3页
文章以静电的危害及产生机理为引申,分析了半导体涂胶显影设备如何在设计细节、制造调试环节去实现静电释放,避免静电的影响。首先,通过静电消除器和STHC的应用阐述了涂胶显影设备的微环境控制静电的设计方案。然后,从涂胶显影设备使用... 文章以静电的危害及产生机理为引申,分析了半导体涂胶显影设备如何在设计细节、制造调试环节去实现静电释放,避免静电的影响。首先,通过静电消除器和STHC的应用阐述了涂胶显影设备的微环境控制静电的设计方案。然后,从涂胶显影设备使用的液体DIW、有机溶剂的传输方案介绍了EFLOW、防静电管的使用背景,并重点说明NTD单元的静电接地方式。最后,针对spin单元零件设计的材料选择及制造工艺做了分析。 展开更多
关键词 涂胶显影设备 静电释放 静电消除器 EFLOW
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