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使用PLC系统控制光刻胶泵精度方法探索
1
作者
施强
苗涛
《中国设备工程》
2020年第6期201-203,共3页
光刻胶泵是涂胶机上的重要组成部分,胶泵将光刻胶精确喷涂在晶片上,所以胶泵控制器的稳定性与准确性也显得尤为重要,利用富士PLC自带的定位功能块与相关硬件对胶泵进行控制,不仅提高了定位精度,也提高了胶泵控制的稳定性。
关键词
涂胶机台
PLC
光刻胶
泵
精确控制
下载PDF
职称材料
题名
使用PLC系统控制光刻胶泵精度方法探索
1
作者
施强
苗涛
机构
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
出处
《中国设备工程》
2020年第6期201-203,共3页
文摘
光刻胶泵是涂胶机上的重要组成部分,胶泵将光刻胶精确喷涂在晶片上,所以胶泵控制器的稳定性与准确性也显得尤为重要,利用富士PLC自带的定位功能块与相关硬件对胶泵进行控制,不仅提高了定位精度,也提高了胶泵控制的稳定性。
关键词
涂胶机台
PLC
光刻胶
泵
精确控制
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
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作者
出处
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1
使用PLC系统控制光刻胶泵精度方法探索
施强
苗涛
《中国设备工程》
2020
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