-
题名液态源可控蒸发输送系统
被引量:1
- 1
-
-
作者
吴得轶
杨彬
-
机构
中国电子科技集团公司第四十八研究所
-
出处
《电子工业专用设备》
2014年第8期28-30,58,共4页
-
文摘
在太阳能电池、微电子等半导体工艺制程中,液态源以生产效率高、成膜特性好、气压小不易泄漏等优点,广泛应用于扩散、氧化、化学气相沉积等工艺。如:在太阳能电池PN结制程中,掺杂用的液态磷源、液态硼源,以及在湿氧氧化工艺中使用的蒸馏水;在光电子、微电子行业中,化学气相淀积设备(CVD)使用的HMDSO、TEOS、SiHCl3等。实验数据显示,这些液态源的输送对各种掺杂、氧化、淀积工艺的质量具有很大影响。对液态源输送的技术现状进行阐述,分析了现有技术的特性和缺点,并结合未来工艺对装备要求的趋势,在此基础上提出了一种液态源可控蒸发输送系统。
-
关键词
液态源输送
扩散炉
氧化炉
化学气相淀积
-
Keywords
Liquid source delivery
Diffusion furnace
Oxidation furnace
Chemical vapor deposition (CVD)
-
分类号
TM615
[电气工程—电力系统及自动化]
-