液晶掩模的纳秒脉冲激光加工试验

利用LCD作为加工掩模,采用波长为1 064 nm的纳秒脉冲激光进行液晶掩模加工试验研究。讨论了液晶掩模对激光的调制作用,并且通过试验研究了液晶掩模加工图形特点和液晶损伤的阈值,测得了液晶掩模损伤阈值。观察液晶掩模的加工形貌发现,图形线条呈现边缘没有烧蚀而内部发生烧蚀的现象,其原因是由于黑栅遮光引起的边框效应和黑色像素的光透射率较高。结果表明:液晶掩模能够通过调节光的透射率实现遮掩效果,激光能量对液晶掩模具有破坏作用,液晶掩模的激光损伤阈值约为2.5 J/cm2;激光能量密度在0.6～0.8 J/cm2之间时能够加工出完整的图形。

多孔不锈钢基二氧化锰薄膜电极的制备及电容特性

用电化学方法制备了一种多孔不锈钢基二氧化锰薄膜电极。在不锈钢基体上以聚乙二醇辛基苯基醚(Triton X-100)在水溶液中形成的液晶作掩膜,通过电化学腐蚀制备了多孔基体电极,用恒电位方法在基体上沉积二氧化锰薄膜。用扫描电子显微镜对二氧化锰薄膜电极形貌进行了考察,循环伏安法和充放电曲线法测试了二氧化锰薄膜电极的电容。结果表明,腐蚀后的不锈钢基体呈现多孔特征,孔分布无规律,孔径大小从几十纳米到几百纳米不等,沉积的二氧化锰呈颗粒状,直径为80～90 nm。扫描速率为20 mV/s,沉积电量0.4 C/cm2时,循环伏安法测得的二氧化锰薄膜电极的质量比电容达400 F/g;沉积电量4～5 C/cm2时,面积比电容达到320×10-3F/cm2,此时的质量比电容仍保持在200 F/g左右。实验结果表明,多孔不锈钢基二氧化锰薄膜电极在超级电容器领域有潜在的应用前景。