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大面积液晶显示面板光刻机新型工作台设计
1
作者
葛嫏
林永水
+2 位作者
石宗宝
王思年
吴淦淦
《福州大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
1995年第6期66-69,共4页
论述曝光面积达356mm×356mm,套刻精度为±2μm,接近式(0~251μm)液晶显示面版光刻机的新型工作台设计。
关键词
液晶显示面版
光刻机
工作台
液晶
显示
器
制备
原文传递
题名
大面积液晶显示面板光刻机新型工作台设计
1
作者
葛嫏
林永水
石宗宝
王思年
吴淦淦
机构
福州大学机械工程系
出处
《福州大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
1995年第6期66-69,共4页
基金
电子工业部资金资助
文摘
论述曝光面积达356mm×356mm,套刻精度为±2μm,接近式(0~251μm)液晶显示面版光刻机的新型工作台设计。
关键词
液晶显示面版
光刻机
工作台
液晶
显示
器
制备
Keywords
liquid crystal display panel
photolithographic equipment
working table, exposing clearance
mask plate
substrate
分类号
TN873.93 [电子电信—信息与通信工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
大面积液晶显示面板光刻机新型工作台设计
葛嫏
林永水
石宗宝
王思年
吴淦淦
《福州大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
1995
0
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参考文献
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