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大面积液晶面板光刻机新型工作台设计
1
作者
葛
林永水
+2 位作者
石宗宝
王思年
吴淦淦
《中国机械工程》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第S1期11-12,153,共3页
论述曝光面积可达335.6mm×355.6mm(4″×14″),套刻精度为±2μm,接近式(0~25μm)液晶面版光刻机的新型工作台设计。
关键词
液晶面版光刻机
光刻机
工作台
曝光间隙
掩模
基片
下载PDF
职称材料
题名
大面积液晶面板光刻机新型工作台设计
1
作者
葛
林永水
石宗宝
王思年
吴淦淦
机构
福州大学机械系
出处
《中国机械工程》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第S1期11-12,153,共3页
文摘
论述曝光面积可达335.6mm×355.6mm(4″×14″),套刻精度为±2μm,接近式(0~25μm)液晶面版光刻机的新型工作台设计。
关键词
液晶面版光刻机
光刻机
工作台
曝光间隙
掩模
基片
Keywords
liquid crystal panel working table design
分类号
O753 [理学—晶体学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
大面积液晶面板光刻机新型工作台设计
葛
林永水
石宗宝
王思年
吴淦淦
《中国机械工程》
CAS
CSCD
北大核心
1995
0
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