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大面积液晶面板光刻机新型工作台设计
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作者 林永水 +2 位作者 石宗宝 王思年 吴淦淦 《中国机械工程》 CAS CSCD 北大核心 1995年第S1期11-12,153,共3页
论述曝光面积可达335.6mm×355.6mm(4″×14″),套刻精度为±2μm,接近式(0~25μm)液晶面版光刻机的新型工作台设计。
关键词 液晶面版光刻机 光刻机工作台 曝光间隙 掩模 基片
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