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硅液相外延的最新进展
1
作者
江鉴
张仕国
《物理》
CAS
北大核心
1996年第11期666-670,共5页
文章系统综述了硅液相外延最新进展,总结了近期硅液相外延技术在系统改进、低温外延、器件应用等各方面的成果,指出硅液相外延技术将在硅器件制造中发挥更大的作用。
关键词
硅
液相
外
延
液相色延系统
超晶格器件
原文传递
题名
硅液相外延的最新进展
1
作者
江鉴
张仕国
机构
浙江大学材料系
出处
《物理》
CAS
北大核心
1996年第11期666-670,共5页
文摘
文章系统综述了硅液相外延最新进展,总结了近期硅液相外延技术在系统改进、低温外延、器件应用等各方面的成果,指出硅液相外延技术将在硅器件制造中发挥更大的作用。
关键词
硅
液相
外
延
液相色延系统
超晶格器件
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
TN304.054 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
硅液相外延的最新进展
江鉴
张仕国
《物理》
CAS
北大核心
1996
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