基于液面旋转平移法的绝对检验技术研究

绝对检验作为一种光学元件高精度检测方法,其中的两平晶绝对检验无法精确测量平移过程中的倾斜误差,导致恢复的面形中二次项出现偏差。液面在位置变化前后能够保持水平,在旋转平移过程中不会产生倾斜误差。推导了平移过程中倾斜误差和恢复面形中离焦项的关系,并通过仿真分析加以验证,当不存在倾斜误差时,残差面PV值小于1nm。在300mm口径立式斐索干涉仪上进行液面旋转平移干涉实验,将所得到结果与传统三面互检法进行对比,面形基本一致,PV值偏差小于1.3nm,RMS值偏差小于0.65nm,证明了液面旋转平移法在干涉测量过程中不会引入倾斜误差。