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利用深度反应离子蚀刻技术制造的摆式振荡陀螺加速度计
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作者 李丹东 殷正和 《导航与控制》 2003年第4期46-50,共5页
利用深度反应离子蚀刻(DRIE)和硅片结合技术制造了一种硅摆式振荡陀螺加速度计(POGA)。到目前为止摆式积分陀螺加速度计(PIGA)是最灵敏的加速度计中基本的一种,POGA是对它的一种微机械形式的模拟。陀螺加速度计的工作原理是利用感应的... 利用深度反应离子蚀刻(DRIE)和硅片结合技术制造了一种硅摆式振荡陀螺加速度计(POGA)。到目前为止摆式积分陀螺加速度计(PIGA)是最灵敏的加速度计中基本的一种,POGA是对它的一种微机械形式的模拟。陀螺加速度计的工作原理是利用感应的陀螺力矩再平衡敏感加速度的摆质量。加速度计由三个独立的层装配成最终的仪表。顶层由一个氧化薄片和一个支撑薄片结合而成,构成一对硅-氧薄片,其中的氧化层形成机械部件和支撑层间的电气绝缘。中间层是一个双框架扭转支撑硅结构,被下面的驱动/敏感层所支撑。微机械POGA按陀螺加速度计的原理工作,其分辨率优于1毫克(原文如此,似为1mg之误),开环的动态量程超过1g,闭环的动态量程大约12mg。 展开更多
关键词 深度反应离子蚀刻技术 制造 摆式振荡陀螺加速度计 工作原理 仪表设计
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岩谷产业开发出氟气无等离子的高速硅蚀刻技术
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《有机硅氟资讯》 2009年第1期7-7,共1页
岩谷产业与京都大学副教授松尾二郎共同开发出了无等离子的高速硅蚀刻技术。反应气体使用三氟化氯(CIF3),可在室温下以40微米/分以上的速度刻蚀单结晶硅底板。优点是与现有设备相比,可简化蚀刻设备的结构和控制方法。
关键词 蚀刻技术 产业开发 结晶硅 离子 氟气 京都大学 三氟化氯 反应气体
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最近的等离子技术
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作者 吕洪久 《化工新型材料》 CAS 1986年第1期27-29,36,共4页
最近出现了各种用干法制作材料的方法,例如,采用真空蒸镀法和溅射法制薄膜。但由于其成膜速度很慢,所以实用化受到限制。近来又出现了利用等离子技术制造薄膜的方法。为了避免离子对基板的伤害,又研究了仅用自由基离子,由光激发的办法... 最近出现了各种用干法制作材料的方法,例如,采用真空蒸镀法和溅射法制薄膜。但由于其成膜速度很慢,所以实用化受到限制。近来又出现了利用等离子技术制造薄膜的方法。为了避免离子对基板的伤害,又研究了仅用自由基离子,由光激发的办法制作薄摸。构成薄膜的要素是原子,如以其附着于基板上的形态分类,大致可分为三类:1.蒸镀;2.溅射;3.在气体和基板界面反应。现将这三种干法制膜技术分述如下。 展开更多
关键词 光激励 离子 反应 基板 离子蚀刻 离子刻蚀 真空蒸镀法 半导体表面 功能材料 离子技术 原子层 结晶性 CVD
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碱性蚀刻技术
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《电子电路与贴装》 2006年第1期22-25,共4页
化学基本原理 碱性蚀刻的基本机理就是碱性氯化铜化学反应(见图1)是二价铜离子氧化金属铜生成亚铜离子。这种平衡同样在酸性氯化铜中的二价铜氧化浸蚀铜金属。所以,在碱性环境条件下,发生亚铜离子和二价铜离子的氨的络合物。更进一... 化学基本原理 碱性蚀刻的基本机理就是碱性氯化铜化学反应(见图1)是二价铜离子氧化金属铜生成亚铜离子。这种平衡同样在酸性氯化铜中的二价铜氧化浸蚀铜金属。所以,在碱性环境条件下,发生亚铜离子和二价铜离子的氨的络合物。更进一步利用通入空气使酸性氯化铜蚀刻液中亚铜离子氧化成二价铜离子。如下反应: 展开更多
关键词 碱性环境 蚀刻技术 二价铜离子 亚铜离子 化学反应 氯化铜 基本机理 金属铜 氧化 铜金属
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GaAs基底上制备圆孔阵列光栅及其影响因素研究
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作者 石铸 全保刚 +1 位作者 阚强 胡放荣 《桂林电子科技大学学报》 2024年第3期323-330,共8页
为解决半导体激光器的偏振问题,提出了一种利用泰尔博特位移光刻曝光技术在Ga As衬底上制作周期光栅的方法,并系统研究了工艺参数和抗反射层对制备的周期光栅质量的影响。利用二次光刻工艺和反应离子蚀刻工艺在Ga As衬底上制备圆孔阵列... 为解决半导体激光器的偏振问题,提出了一种利用泰尔博特位移光刻曝光技术在Ga As衬底上制作周期光栅的方法,并系统研究了工艺参数和抗反射层对制备的周期光栅质量的影响。利用二次光刻工艺和反应离子蚀刻工艺在Ga As衬底上制备圆孔阵列周期光栅;通过电感耦合等离子体蚀刻设备制造均匀光栅。实验结果表明,该工艺流程可制备深度为20~150 nm的动态可调圆孔阵列周期光栅;当曝光剂量为30 m J·cm^(-2),曝光光强度为2 m W·cm^(-2),显影时间为1 min时,所曝光出的周期光栅符合实验要求;重复实验证明了利用泰尔伯特位移光刻技术制备光栅工艺的可行性及稳定性。 展开更多
关键词 泰尔伯特位移光刻曝光技术 光栅 反应离子蚀刻 电感耦合等离子蚀刻 半导体激光器
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采用非致冷微悬臂探测器的红外成像技术
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作者 高国龙 《红外》 CAS 2003年第12期33-37,共5页
1 引言 热红外探测和成像技术在商业、工业、医学及军事领域具有广泛的用途。然而。
关键词 微悬臂探测器 红外成像技术 反应离子蚀刻 象限元读出 CCD 分辨率 光路设计
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南京大学与AK公司合作开发环保技术
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作者 王维泱 《国际化工信息》 2006年第6期32-32,共1页
南京大学与阿克克瓦纳(AK)公司签署谅解备忘录,双方将在技术研究、技术开发、技术推广和技术许可等领域将展开全面合作。根据约定,首批南京大学5项具有自主知识产权的环保技术成为双方合作的核心。这5项技术分别是:沸石吸附分离硝... 南京大学与阿克克瓦纳(AK)公司签署谅解备忘录,双方将在技术研究、技术开发、技术推广和技术许可等领域将展开全面合作。根据约定,首批南京大学5项具有自主知识产权的环保技术成为双方合作的核心。这5项技术分别是:沸石吸附分离硝基氯苯、硝基酚废水及资源回收的方法,用于尾气净化的整体式低温等离子体催化反应器,复合式厌氧生物废水处理反应器,高效好氧循环生物膨胀床水处理方法及反应器,工业废水深度处理及回用的方法和装置,这些技术均是已授权或已申请的专利技术。其中,高效好氧循环生物膨胀床水处理方法及反应器、工业废水深度处理及回用的方法和装置2项技术已在国内得到工业化应用。 展开更多
关键词 环保技术 合作开发 南京大学 公司 催化反应 工业化应用 水处理方法 深度处理 自主知识产权 低温等离子
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基于体硅工艺的定位平台制作工艺分析 被引量:6
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作者 王家畴 荣伟彬 +1 位作者 李昕欣 孙立宁 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期636-641,共6页
针对纳米定位平台的构型和定位精度问题,采用体硅加工技术成功地研制了一种基于单晶硅并带有位移检测功能的新型二自由度纳米级定位平台。介绍了定位平台的相关制作工艺,并对关键工艺进行了分析,总结了导致器件失效的主要原因,探讨了减... 针对纳米定位平台的构型和定位精度问题,采用体硅加工技术成功地研制了一种基于单晶硅并带有位移检测功能的新型二自由度纳米级定位平台。介绍了定位平台的相关制作工艺,并对关键工艺进行了分析,总结了导致器件失效的主要原因,探讨了减少失效的方法。同时,提出了一种可行的面内侧面压阻加工方法。通过对深度反应离子刻蚀(DRIE)工艺参数的调整,成功地刻蚀出大尺寸、大深宽比的结构释放窗口,释放了最小线宽为2.5μm,厚度为50μm的梳齿结构。 展开更多
关键词 体硅工艺 深度反应离子刻蚀 背片技术 面内侧面压阻 纳米级定位平台
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光电印制板(OEPCB)制作工艺浅析 被引量:4
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作者 纪成光 吕红刚 +1 位作者 陶伟 李民善 《印制电路信息》 2013年第7期63-70,共8页
简述了光电印制板的工作原理,介绍了光电印制板用光波导材料及聚合物光波导层成型工艺,并简要介绍了光电印制电路板的测试方法。
关键词 光电印制板 光波导 反应离子蚀刻 数字喷墨打印技术 误码率
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超微细加工及设备
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《中国光学》 EI CAS 1998年第6期69-69,共1页
TN305.7 98063982衍射光学元件的反应离子束蚀刻研究=Reactive ionbeam etching for diffractive optical elements[刊,中]/杨李茗,虞淑环,许乔,舒晓武,杨国光(浙江大学现代光学仪器国家重点实验室.浙江。
关键词 反应离子蚀刻 衍射光学元件 现代光学仪器 国家重点实验室 超微细加工 浙江大学 蚀刻速率 光栅 技术研究 设备
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电子级高纯氯研制成功
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作者 孔祥芝 《低温与特气》 CAS 1987年第4期i002-i002,共1页
电子级高纯氯是我国电子工业当前急需的特种气体,主要用于半导体元、器件和大规模集成电路制造工序中的热氧化、反应离子蚀刻、晶体生长和MCVD法生产单膜光导纤维预制件,以及有关工业、基础科学研究等尖端技术。我国过去使用的电子级... 电子级高纯氯是我国电子工业当前急需的特种气体,主要用于半导体元、器件和大规模集成电路制造工序中的热氧化、反应离子蚀刻、晶体生长和MCVD法生产单膜光导纤维预制件,以及有关工业、基础科学研究等尖端技术。我国过去使用的电子级高纯氯全部依赖进口。 展开更多
关键词 高纯氯 电子级 研制成功 大规模集成电路 反应离子蚀刻 基础科学研究 MCVD法 特种气体 电子工业 制造工序 光导纤维 晶体生长 尖端技术 导体元 热氧化 预制件
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电源技术
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《电子科技文摘》 2005年第12期20-23,共4页
关键词 电源技术 燃料电池 交换膜 化学性能 剩余电量 双极板 级联型 开关变换器 反应离子蚀刻 电池充电器
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金属微成形的工艺进展 被引量:3
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作者 雷鹍 丁水 +2 位作者 王长丽 王国峰 张凯锋 《锻造与冲压》 2006年第6期68-71,共4页
MST.MEMS的产业化极大推动了微细加工技术的发展.先后出现了超精密机械加工、深反应离子蚀刻、LIGA及准LIGA技术、分子装配技术等。但是微型化产业所要求的大批量、高效率、高精度、高密集、短周期、低成本、无污染、净成形等固有特点... MST.MEMS的产业化极大推动了微细加工技术的发展.先后出现了超精密机械加工、深反应离子蚀刻、LIGA及准LIGA技术、分子装配技术等。但是微型化产业所要求的大批量、高效率、高精度、高密集、短周期、低成本、无污染、净成形等固有特点制约了这些微细加工技术的广泛应用。人们不得不把视线转向传统的塑性成形工艺(冲裁、弯曲、拉延、拉深、超塑性挤压、起伏、压印等),因为在宏观制造领域.成形工艺恰恰具备这些产业优点。因此. 展开更多
关键词 工艺进展 准LIGA技术 微成形 微细加工技术 超精密机械加工 超塑性挤压 金属 反应离子蚀刻 成形工艺 产业化
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Fenton法与光Fenton法降解2,4-D的研究 被引量:5
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作者 孙红文 吕俊岗 《水处理信息报导》 2005年第6期60-60,共1页
农药废水的处理主要分为生化法、化学法和物理法。深度氧化技术(AOPs)可通过氧化剂的组合产生具有高度氧化活性的羟自由基(OH),在AOPs中,Fenton法采用过氧化氢和亚铁离子组合,比其它AOPs具有效率高、价格便宜等优点。本文对Fento... 农药废水的处理主要分为生化法、化学法和物理法。深度氧化技术(AOPs)可通过氧化剂的组合产生具有高度氧化活性的羟自由基(OH),在AOPs中,Fenton法采用过氧化氢和亚铁离子组合,比其它AOPs具有效率高、价格便宜等优点。本文对Fenton法与光Fenton法降解农药2,4.D进行了研究,探索了反应条件对降解效果的影响;确定了反应动力学和处理效率:同时考察了主要阴离子对反应效率的影响以及不同条件下体系中羟自由基的产生规律。 展开更多
关键词 光FENTON法 降解农药 深度氧化技术 羟自由基 AOPS 反应动力学 农药废水 氧化活性 过氧化剂 亚铁离子
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