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胸部深度曝光摄影技术与临床应用
1
作者
汪卫星
《中外医用放射技术》
1994年第1期9-10,共2页
关键词
胸部
摄影技术
深度曝光
临床应用
原文传递
新型URE-2000S型紫外单、双面深度光刻机研制
被引量:
2
2
作者
马平
杨春利
+1 位作者
胡松
赵立新
《微纳电子技术》
CAS
2005年第8期388-391,共4页
重点介绍新近开发的用于单、双面深度曝光的URE-2000S新型紫外光刻设备的技术背景、工作原理、结构组成、技术措施以及总体性能。该设备采用了国内首创的CCD图像底面对准技术、单曝光头实现双面对准曝光,具有双面套刻对准精度高、操作...
重点介绍新近开发的用于单、双面深度曝光的URE-2000S新型紫外光刻设备的技术背景、工作原理、结构组成、技术措施以及总体性能。该设备采用了国内首创的CCD图像底面对准技术、单曝光头实现双面对准曝光,具有双面套刻对准精度高、操作简单、工作高效等优点。实验表明,该设备总体性能处于国产双面光刻的先进水平,接近国外同类产品水平。
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关键词
双面光刻
底面对准
深度曝光
掩模
样片
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职称材料
题名
胸部深度曝光摄影技术与临床应用
1
作者
汪卫星
出处
《中外医用放射技术》
1994年第1期9-10,共2页
关键词
胸部
摄影技术
深度曝光
临床应用
分类号
R816.4 [医药卫生—放射医学]
原文传递
题名
新型URE-2000S型紫外单、双面深度光刻机研制
被引量:
2
2
作者
马平
杨春利
胡松
赵立新
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《微纳电子技术》
CAS
2005年第8期388-391,共4页
文摘
重点介绍新近开发的用于单、双面深度曝光的URE-2000S新型紫外光刻设备的技术背景、工作原理、结构组成、技术措施以及总体性能。该设备采用了国内首创的CCD图像底面对准技术、单曝光头实现双面对准曝光,具有双面套刻对准精度高、操作简单、工作高效等优点。实验表明,该设备总体性能处于国产双面光刻的先进水平,接近国外同类产品水平。
关键词
双面光刻
底面对准
深度曝光
掩模
样片
Keywords
double-side lithography
bottom side alignment
deep-lithograph
mask
wafer
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
胸部深度曝光摄影技术与临床应用
汪卫星
《中外医用放射技术》
1994
0
原文传递
2
新型URE-2000S型紫外单、双面深度光刻机研制
马平
杨春利
胡松
赵立新
《微纳电子技术》
CAS
2005
2
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