期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
高性能模拟集成电路工艺技术 被引量:7
1
作者 何开全 谭开洲 李荣强 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期398-401,共4页
 介绍了模拟集成电路工艺的发展过程和现状,讨论了国内的BiCMOS工艺、互补双极工艺(CB)、和SOI双极工艺的最新进展。重点介绍了BiCMOS工艺的研究与开发,指出了模拟集成电路工艺的发展趋势。
关键词 模拟集成电路 BICMOS 互补双极工艺 SOI 深槽介质隔离
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部