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深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用
被引量:
2
1
作者
余国彬
姚汉民
+1 位作者
胡松
陈兴俊
《微纳电子技术》
CAS
2002年第4期30-32,共3页
随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺。本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功地应用于LIGA工艺的深度光刻中,光刻实验结果表明深紫外光深度光刻具有很大的实用意义。
关键词
深紫外深度光刻蚀
LIGA工艺
微型机电系统
微细加工
下载PDF
职称材料
题名
深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用
被引量:
2
1
作者
余国彬
姚汉民
胡松
陈兴俊
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《微纳电子技术》
CAS
2002年第4期30-32,共3页
文摘
随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺。本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功地应用于LIGA工艺的深度光刻中,光刻实验结果表明深紫外光深度光刻具有很大的实用意义。
关键词
深紫外深度光刻蚀
LIGA工艺
微型机电系统
微细加工
Keywords
MEMS
micro-fabrication
LIGA process
deep lithography
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用
余国彬
姚汉民
胡松
陈兴俊
《微纳电子技术》
CAS
2002
2
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职称材料
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