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深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用 被引量:2
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作者 余国彬 姚汉民 +1 位作者 胡松 陈兴俊 《微纳电子技术》 CAS 2002年第4期30-32,共3页
随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺。本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功地应用于LIGA工艺的深度光刻中,光刻实验结果表明深紫外光深度光刻具有很大的实用意义。
关键词 深紫外深度光刻蚀 LIGA工艺 微型机电系统 微细加工
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