双线性曲面渐进相位基函数在导体电磁散射中的研究和应用

在分析导体目标的电磁散射问题时,如何兼顾精度和效率是一大挑战。该研究从基函数出发,在双线性曲面基函数的基础上引入相位项,推导出一种新型基函数:双线性曲面渐进相位基函数。这种基函数与双线性曲面积函数一样,依赖于对目标结构的曲面三角网格离散,采用的未知量几乎是相同的,只是在对导体表面的面电流进行离散时需要引入相位项,这就使得理论上可以采用更少的未知量对目标进行近似。最后利用一个金属导体球作为算例,验证了以下:结论双线性曲面渐进相位基函数相较于双线性曲面基函数,在使用足够多未知量进行计算的情况下能够保持相当高的精度,并且在大幅度减少未知量的情况下,依然能够有效的保持相当的精度。因此证明,这种基函数能够在一定程度上兼顾精度与运算量,有效提高了导体电磁散射问题的运算效率与准确度。