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温敏印迹柱对薯蓣皂素的选择保留和控制缓释
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作者 刘美君 彭雨婷 +4 位作者 肖真仪 周小辉 简宇轩 毛琳 李辉 《吉首大学学报(自然科学版)》 CAS 2024年第1期48-55,共8页
以薯蓣皂素为模板,N-异丙基丙烯酰胺和α-甲基丙烯酸为混合功能单体制备1种温敏印迹聚合物,将其装填于不锈钢柱管中,在色谱模式下研究了温敏印迹柱对目标分子的保留和控制释放行为,同时探究了柱温、洗脱剂组成、pH值、离子强度等因素对... 以薯蓣皂素为模板,N-异丙基丙烯酰胺和α-甲基丙烯酸为混合功能单体制备1种温敏印迹聚合物,将其装填于不锈钢柱管中,在色谱模式下研究了温敏印迹柱对目标分子的保留和控制释放行为,同时探究了柱温、洗脱剂组成、pH值、离子强度等因素对分子印迹柱选择保留及控制释放的影响.结果表明,柱温对分子印迹材料的保留和控制释放具有显著影响.当色谱柱温为303 K时(临界温度附近),分子印迹柱对模板具有最强保留能力;当柱温高于或低于临界温度时,分子印迹柱的保留能力减弱,模板释放速率加快.洗脱液组成、pH值、离子强度也会影响印迹材料的保留和释放,在303 K柱温下,用0.001 mol/L缓冲液(pH值7.4)进行洗脱,释放时间高达1 050 min. 展开更多
关键词 分子印迹 温敏印迹柱 薯蓣皂素 保留行为 药物控制释放
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