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基于势阱近似的小尺寸MOSFETs反型层解析模型
1
作者
徐火希
兰志高
罗春娅
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第2期124-128,共5页
将垂直于栅氧化层/衬底界面方向的反型层电势分布规律近似为耗尽层的电势分布规律,采用WKB近似方法求解薛定谔方程,得到了量子机制下分析MOSFETs反型层的解析模型,进而对Al/SiO2/p-Si MOSFETs能级、子带电子密度和反型层质心进行了模拟...
将垂直于栅氧化层/衬底界面方向的反型层电势分布规律近似为耗尽层的电势分布规律,采用WKB近似方法求解薛定谔方程,得到了量子机制下分析MOSFETs反型层的解析模型,进而对Al/SiO2/p-Si MOSFETs能级、子带电子密度和反型层质心进行了模拟计算,并将模拟结果与数值自洽结果进行了比较,模拟结果较好地与数值自洽结果相吻合。
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关键词
金属
-
氧化物
-
半导体场效应晶体管
反型层
量子效应
温策尔-克雷默-布里渊方法
解析模型
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职称材料
题名
基于势阱近似的小尺寸MOSFETs反型层解析模型
1
作者
徐火希
兰志高
罗春娅
机构
黄冈师范学院电子信息系
华中科技大学光电学院
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第2期124-128,共5页
基金
湖北省自然科学基金资助项目(2011CDB165)
黄冈师范学院科学研究基金资助项目(2012028803)
文摘
将垂直于栅氧化层/衬底界面方向的反型层电势分布规律近似为耗尽层的电势分布规律,采用WKB近似方法求解薛定谔方程,得到了量子机制下分析MOSFETs反型层的解析模型,进而对Al/SiO2/p-Si MOSFETs能级、子带电子密度和反型层质心进行了模拟计算,并将模拟结果与数值自洽结果进行了比较,模拟结果较好地与数值自洽结果相吻合。
关键词
金属
-
氧化物
-
半导体场效应晶体管
反型层
量子效应
温策尔-克雷默-布里渊方法
解析模型
Keywords
MOSFETs
inversion layer
quantum effect
WKB method
analytical model
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于势阱近似的小尺寸MOSFETs反型层解析模型
徐火希
兰志高
罗春娅
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2015
0
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