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游离碳化硅磨粒辅助的蓝宝石固结磨料研磨研究 被引量:5
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作者 王凯 朱永伟 +2 位作者 郑方志 王建彬 沈琦 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第11期2937-2942,共6页
采用两种铜粉添加量的FAP,探索游离碳化硅磨料含量对蓝宝石研磨材料去除率和工件表面粗糙度的影响。结果表明:使用相同的研磨液时,铜粉含量高的FAP材料去除率大,表面粗糙度Ra差别不明显;使用相同的研磨垫时,材料去除率随研磨液中碳化硅... 采用两种铜粉添加量的FAP,探索游离碳化硅磨料含量对蓝宝石研磨材料去除率和工件表面粗糙度的影响。结果表明:使用相同的研磨液时,铜粉含量高的FAP材料去除率大,表面粗糙度Ra差别不明显;使用相同的研磨垫时,材料去除率随研磨液中碳化硅浓度的增加而增加,FAP的自修正特性随碳化硅浓度的提高而改善。 展开更多
关键词 固结磨料研磨垫 游离碳化硅磨料 自修正 去除率 粗糙度
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