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飞秒激光背部湿刻石英玻璃微通道的研究 被引量:5
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作者 梁德志 王敏 +1 位作者 杜晨林 伍晓宇 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第2期174-177,共4页
为了获得飞秒激光背部湿刻石英玻璃微通道的最佳参量,通过分别改变飞秒激光的功率、刻蚀速率和显微物镜的放大倍数进行了实验。采用超景深显微镜对加工样品进行观察和测量,并分析了微通道的形貌。结果表明,在飞秒激光功率为50mW、刻蚀... 为了获得飞秒激光背部湿刻石英玻璃微通道的最佳参量,通过分别改变飞秒激光的功率、刻蚀速率和显微物镜的放大倍数进行了实验。采用超景深显微镜对加工样品进行观察和测量,并分析了微通道的形貌。结果表明,在飞秒激光功率为50mW、刻蚀速率为0.010mm/s、20~×显微物镜聚焦的实验条件下,可以制备出深度为1466μm、深宽比为32的石英玻璃微通道。此研究对3维结构维纳制造技术有一定的应用价值。 展开更多
关键词 超快光学 微通道 激光诱导背部湿刻 石英玻璃
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魏晋南北朝江南地区湿刻陶文刍议
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作者 冯立 《西泠艺丛》 2024年第1期63-72,共10页
魏晋南北朝是中国历史上的大变革时代。一方面,长期的分裂与战乱使得政治的约束力相对松弛,人们的思想得以解放;另一方面,人口的流动迁徙促进了各民族关系的交融发展,物质文化与精神文化得到空前繁荣。永嘉南渡之后,全国经济、文化中心... 魏晋南北朝是中国历史上的大变革时代。一方面,长期的分裂与战乱使得政治的约束力相对松弛,人们的思想得以解放;另一方面,人口的流动迁徙促进了各民族关系的交融发展,物质文化与精神文化得到空前繁荣。永嘉南渡之后,全国经济、文化中心出现南移,为江南一带的发展奠定了基础。西晋士族的大规模南迁,也直接促进了江南地区的学术融合[1]与社会经济的全面发展。这都为当时制陶等手工业的发展创造了有利条件。浙江的越窑、瓯窑、德清窑、婺州窑及江苏的均山窑等盛产的陶瓷器,浙江的绍兴、宁波、台州,江苏的南京、无锡等地区所出的古砖皆反映出彼时制陶的产量之大、水平之高、品类之盛。在大量发掘出土的古陶瓷中,有不少附着在器物上的文字遗存(以下统称“陶文”)。这些文字或墨书,或刻画,或戳印。而其中的“湿刻”,则广泛存在于江南地区的古砖瓦、陶瓷器上,成为铭石书、墨迹、玺印文字之外,古代文字遗存的重要实物史料。这批资料数量庞大,载体不一,书风多样,内容丰富,且俗体别字突出,而其特殊的划刻方式,真实地记录了当时文字写刻的真实面貌,反映出当时书体的过渡性、融汇性、多元性等特征,对于当下古陶文的研究有着独特的史料价值与艺术价值。 展开更多
关键词 陶文 湿刻 类墨迹 魏晋书风
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隐匿与表现:魏晋南北朝湿刻砖文书法研究
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作者 刘昕 《中国书法》 CSSCI 北大核心 2024年第3期183-185,共3页
魏晋南北朝湿刻砖文的砌筑位置隐匿,内容简略,与当时的墓志、碑刻相比居于次要地位,反而为刻划工匠完成无意于佳的砖文书作提供了自由发挥的“安全场域”。通过研究砖文书风与客观环境、情绪状态、物质材料、字体演变之间的关系,可窥素... 魏晋南北朝湿刻砖文的砌筑位置隐匿,内容简略,与当时的墓志、碑刻相比居于次要地位,反而为刻划工匠完成无意于佳的砖文书作提供了自由发挥的“安全场域”。通过研究砖文书风与客观环境、情绪状态、物质材料、字体演变之间的关系,可窥素人之书的艺术价值,并进一步探讨湿刻砖文在当今书坛的借鉴意义。 展开更多
关键词 魏晋南北朝 湿刻砖文 书法 隐匿 表现
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用准分子激光诱导湿刻实现对GaAs的图形转换 被引量:7
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作者 张玉书 丁涛 任临福 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第9期663-667,共5页
本文报告的是利用准分子激光诱导湿刻和光刻技术相结合的方法,实现了对GaAs的图形转换。发现由GaAs表面的金膜、水溶液和GaAs构成的系统中,金膜不仅起了光掩蔽的作用,而且还起了促进刻蚀作用。结果说明这是一个电化学光电池结构。
关键词 电化学 光电池 诱导湿刻 图形 激光
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激光诱导湿刻在微结构加工中的应用 被引量:3
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作者 周月豪 柳海鹏 熊良才 《激光与光电子学进展》 CSCD 2004年第10期43-47,共5页
介绍了激光诱导湿刻技术在各种材料微加工中的应用,同时对其作用机理和刻蚀特性进行了简单探讨,并对其发展进行了展望。
关键词 湿刻 微加工 激光诱导 微结构 湿 材料 特性 作用机理
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去除光刻胶的新干法工艺
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作者 Richard Bersin Amanda Horn +3 位作者 Han Xu Mohamed Boumerzoug Douglas Dopp 姜健 《真空》 CAS 北大核心 2003年第1期12-16,共5页
除去干刻或高剂量等离子注入后的光刻胶 ,一般是采用化学溶剂和酸类等湿刻法 ,以前有时采用干燥氧的等离子灰化法。然而成本高 ,具有危险性和污染性的化学湿刻法直接造成了环境污染 ,使得全球气候变暖 ,能源的大量消耗 ,地下水受到污染... 除去干刻或高剂量等离子注入后的光刻胶 ,一般是采用化学溶剂和酸类等湿刻法 ,以前有时采用干燥氧的等离子灰化法。然而成本高 ,具有危险性和污染性的化学湿刻法直接造成了环境污染 ,使得全球气候变暖 ,能源的大量消耗 ,地下水受到污染等等。一种新的干式去胶并且处理后可用去离子水 DI清洗残留物的工艺方法 (ENVIRO)已经在半导体芯片厂被成功地使用了 12个多月。对于产量 10 0 0 0片 /周的芯片厂 ,相对于化学湿刻法一年可以节省 展开更多
关键词 干法工艺 等离子 化学湿刻 ENVIRO 剥离工艺
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基于金属电极和有机半导体层的制备工艺对有机薄膜晶体管性能的研究 被引量:2
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作者 朱大龙 谢应涛 +2 位作者 许鑫 欧阳世宏 方汉铿 《半导体光电》 CAS 北大核心 2015年第1期88-91,共4页
基于聚合物绝缘材料和半导体材料,采用溶液法旋涂工艺制作了有机薄膜晶体管(OTFT),通过不同方法制备有机半导体层、栅极和漏极,以提高有机薄膜晶体管的器件性能。结果表明,有机半导体层是否图形化以及不同金属电极的制备工艺对器件的接... 基于聚合物绝缘材料和半导体材料,采用溶液法旋涂工艺制作了有机薄膜晶体管(OTFT),通过不同方法制备有机半导体层、栅极和漏极,以提高有机薄膜晶体管的器件性能。结果表明,有机半导体层是否图形化以及不同金属电极的制备工艺对器件的接触电阻影响明显。有机半导体层图形化后,器件的开关比有较大的提升。采用lift-off工艺,先在聚合物绝缘层材料上对光刻胶图形化,然后利用真空蒸镀法将金属电极蒸镀到绝缘层材料上,最后将器件浸泡在70℃的NMP溶液中约30min,接触电阻约为4.8×107Ω;采用湿刻工艺对蒸镀在绝缘层材料上的金属电极进行处理,接触电阻有明显的下降,约为3.6×106Ω。 展开更多
关键词 剥离 湿刻 半导体层图形化 接触电阻 有机薄膜晶体管
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电子纸的2W2D工艺改善研究
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作者 佟月 佟硕 +10 位作者 王凤涛 曹洪韬 刘艳葵 耿红帅 李森 张鹏曲 卢凯 孙亮 张磊 陈思 王威 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2020年第4期306-314,共9页
在电子纸行业中,为了减少光刻次数、降低成本,部分产品的TFT基板会采用半色调掩膜工艺,传统的一次湿刻一次干刻(1W1D)方法要求半色调掩膜光刻胶厚度与均一性同时满足较高要求,管控难度大,导致曝光多次返工浪费产能;而且,1W1D的刻蚀均一... 在电子纸行业中,为了减少光刻次数、降低成本,部分产品的TFT基板会采用半色调掩膜工艺,传统的一次湿刻一次干刻(1W1D)方法要求半色调掩膜光刻胶厚度与均一性同时满足较高要求,管控难度大,导致曝光多次返工浪费产能;而且,1W1D的刻蚀均一性很差,使玻璃四周沟道a-Si过薄,影响良率。为了改善这两方面的问题,我们参考了非电子纸产品的两次湿刻两次干刻(2W2D)工艺。然而非电子纸的2W2D工艺会产生较长的a-Si拖尾现象,导致较大的寄生电容,造成良率损失;此外,a-Si残留和沟道特性问题也阻碍了电子纸良率的进一步提升。因此,我们通过降低两次湿刻时间,改善灰化条件,减小a-Si拖尾长度;建立a-Si处理工序,消除a-Si残留;调整a-Si成膜条件和钝化层成膜前处理条件,改善沟道特性。实验结果表明:采用改善后的2W2D工艺可以完全满足电子纸的特性要求,并且相比于1W1D方法,得到的沟道厚度均一性提升50%,阵列检测良率提升4%~10%;同时无需管控半色调掩膜光刻胶的均一性,仅满足光刻胶厚度的管控要求即可,使曝光返工比例降低60%。改善后的2W2D工艺有效改善了电子纸产品的沟道特性与刻蚀均一性,提升了产品良率,减少了产能浪费,降低了成本,对4次光刻电子纸产品具有重要指导意义。 展开更多
关键词 电子纸 半色调掩膜 两次湿刻两次干 沟道厚度 沟道特性
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Fabrication of Silicon Crystal-Facet-Dependent Nanostructures by Electron-Beam Lithography
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作者 杨香 韩伟华 +2 位作者 王颖 张杨 杨富华 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1057-1061,共5页
Silicon crystal-facet-dependent nanostructures have been successfully fabricated on a (100)-oriented silicon-oninsulator wafer using electron-beam lithography and the silicon anisotropic wet etching technique. This ... Silicon crystal-facet-dependent nanostructures have been successfully fabricated on a (100)-oriented silicon-oninsulator wafer using electron-beam lithography and the silicon anisotropic wet etching technique. This technique takes advantage of the large difference in etching properties for different crystallographic planes in alkaline solution. The minimum size of the trapezoidal top for those Si nanostructures can be reduced to less than 10nm. Scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM) observations indicate that the etched nanostructures have controllable shapes and smooth surfaces. 展开更多
关键词 silicon nanostructure anisotropic wet etching electron-beam lithography
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DISCO的300mm战略300mm和芯片的超薄化
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《集成电路应用》 2002年第11期79-81,共3页
关键词 DISCO 300mm芯片 超薄化 DBG 湿刻 化学机械抛光 3D封装 硅片支持系统
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Transition of super-hydrophobic states of droplet on rough surface 被引量:2
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作者 叶霞 周明 +2 位作者 蒋大林 李健 蔡兰 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2010年第3期554-559,共6页
Twelve samples with periodic array square pillars microstructure were prepared on the silicon wafer by plasma etching techniques, on which space b of the square pillars increased from 5 to 60 μm. In order to study th... Twelve samples with periodic array square pillars microstructure were prepared on the silicon wafer by plasma etching techniques, on which space b of the square pillars increased from 5 to 60 μm. In order to study the effect ofb on the wettability of the rough surface, the effects of apparent contact angle (CA) and sliding angle (a) of the droplet on the rough surface were measured with the contact angle meter. The results show that the experimental values of CA well agree with the classical wetting theory and a decreases with the increase of b. Two drop shapes exist on the samples' surface, corresponding to the Cassie state and the Wenzel state respectively. The contact state in which a drop would settle depends typically on the size of b. On the role of gravitation, the irreversible transition of a drop from Cassie state to Wenzel state should occur at a certain space of the square pillars. Since the transition has implications on the application of super-hydrophobic rough surfaces, theoretically, the prediction of wetting state transition on square pillar array micro-structured surfaces provides an intuitionistic guidance for the design of steady superhydrophobic surfaces. 展开更多
关键词 square pillar microstructure wetting mode transition apparent contact angle sliding angle
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书体演变的鲜活标本——对亳州曹操宗族墓群出土字砖的书法思考
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作者 王健 《中国书法》 CSSCI 北大核心 2022年第5期132-134,136-147,共15页
亳州曹操宗族墓群字砖与山东定陶、河南偃师、广东番禺等地区的墨书、朱书、干刻字砖,在表达形式、书写状态的还原性上表现出很大的不同。这批字砖的出土,不仅为东汉末年多种字体演变提供了鲜活的标本并提出了新的问题,为碑学理论体系... 亳州曹操宗族墓群字砖与山东定陶、河南偃师、广东番禺等地区的墨书、朱书、干刻字砖,在表达形式、书写状态的还原性上表现出很大的不同。这批字砖的出土,不仅为东汉末年多种字体演变提供了鲜活的标本并提出了新的问题,为碑学理论体系的技法及审美原则提供了有力的实物证据,也对当今书法创作起到了不可或缺的借鉴意义。 展开更多
关键词 湿刻 字体演变 价值 取法
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