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EtherCAT分布式运动控制系统在湿化学设备中的应用
1
作者
王洪建
刘凯文
+2 位作者
李永红
何川
张玮琪
《电子工业专用设备》
2020年第5期34-36,41,共4页
为解决传统控制系统控制结构封闭,兼容性差以及缺乏网络通信功能等弊端,满足湿化学设备在行业应用中的自动化和智能化需求,将以太网控制自动化技术应用于设备控制架构,搭建应用平台,构建适用于湿化学设备的分布式运动控制系统。简化了...
为解决传统控制系统控制结构封闭,兼容性差以及缺乏网络通信功能等弊端,满足湿化学设备在行业应用中的自动化和智能化需求,将以太网控制自动化技术应用于设备控制架构,搭建应用平台,构建适用于湿化学设备的分布式运动控制系统。简化了网络拓扑配置,提高了系统运动控制的实时性,满足设备应用需求,提升设备在行业应用中的适应性和扩展性。
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关键词
分布式运动控制
开放式以太网控制自动化技术
湿化学设备
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职称材料
湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制作流程中的应用研究
2
作者
刘莹
《光源与照明》
2024年第3期34-36,共3页
现阶段,湿化学清洗设备在化工研究和生产领域应用不断增多,这类设备可以结合具体的生产需要,针对生产进行技术处理。湿化学清洗设备在LED芯片中有一定的应用,对于提升LED正装芯片质量和效率有积极作用。文章基于半导体清洗设备发展情况...
现阶段,湿化学清洗设备在化工研究和生产领域应用不断增多,这类设备可以结合具体的生产需要,针对生产进行技术处理。湿化学清洗设备在LED芯片中有一定的应用,对于提升LED正装芯片质量和效率有积极作用。文章基于半导体清洗设备发展情况,针对LED芯片的制作流程,就湿化学清洗设备产能以及耗水计算方法进行分析,结合各次刻蚀清洗工艺后晶圆表面形貌分析,探讨了清洗设备在相关制造工艺中的应用。
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关键词
湿
化学
清洗
设备
GaN基
LED正装芯片
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职称材料
湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制程中的应用
被引量:
1
3
作者
殷子文
姚立新
+2 位作者
张伟峰
曹秀芳
段成龙
《电子工业专用设备》
2016年第12期3-6,38,共5页
讨论了湿化学清洗设备的产能和耗水(DIW)计算方法,以100 mm晶圆,单批次流片量50片为例,阐述了湿化学清洗设备整机和单元模块的各类配置;依据晶圆在各刻蚀清洗工艺后的表面形状,明确了各清洗设备在工艺中的作用。湿化学清洗设备可依据生...
讨论了湿化学清洗设备的产能和耗水(DIW)计算方法,以100 mm晶圆,单批次流片量50片为例,阐述了湿化学清洗设备整机和单元模块的各类配置;依据晶圆在各刻蚀清洗工艺后的表面形状,明确了各清洗设备在工艺中的作用。湿化学清洗设备可依据生产情况灵活处理生产需求,已成为LED芯片制程生产线中应用最多的设备之一。
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关键词
湿
化学
制程
设备
产能计算
LED芯片制程
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职称材料
题名
EtherCAT分布式运动控制系统在湿化学设备中的应用
1
作者
王洪建
刘凯文
李永红
何川
张玮琪
机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
2020年第5期34-36,41,共4页
文摘
为解决传统控制系统控制结构封闭,兼容性差以及缺乏网络通信功能等弊端,满足湿化学设备在行业应用中的自动化和智能化需求,将以太网控制自动化技术应用于设备控制架构,搭建应用平台,构建适用于湿化学设备的分布式运动控制系统。简化了网络拓扑配置,提高了系统运动控制的实时性,满足设备应用需求,提升设备在行业应用中的适应性和扩展性。
关键词
分布式运动控制
开放式以太网控制自动化技术
湿化学设备
Keywords
Distributed motion control system
Ethernet for control automation technology(EtherCAT)
Wet chemical process and equipment
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制作流程中的应用研究
2
作者
刘莹
机构
福建兆元光电有限公司
出处
《光源与照明》
2024年第3期34-36,共3页
文摘
现阶段,湿化学清洗设备在化工研究和生产领域应用不断增多,这类设备可以结合具体的生产需要,针对生产进行技术处理。湿化学清洗设备在LED芯片中有一定的应用,对于提升LED正装芯片质量和效率有积极作用。文章基于半导体清洗设备发展情况,针对LED芯片的制作流程,就湿化学清洗设备产能以及耗水计算方法进行分析,结合各次刻蚀清洗工艺后晶圆表面形貌分析,探讨了清洗设备在相关制造工艺中的应用。
关键词
湿
化学
清洗
设备
GaN基
LED正装芯片
分类号
TM923.34 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制程中的应用
被引量:
1
3
作者
殷子文
姚立新
张伟峰
曹秀芳
段成龙
机构
北京中电科电子装备有限公司
出处
《电子工业专用设备》
2016年第12期3-6,38,共5页
文摘
讨论了湿化学清洗设备的产能和耗水(DIW)计算方法,以100 mm晶圆,单批次流片量50片为例,阐述了湿化学清洗设备整机和单元模块的各类配置;依据晶圆在各刻蚀清洗工艺后的表面形状,明确了各清洗设备在工艺中的作用。湿化学清洗设备可依据生产情况灵活处理生产需求,已成为LED芯片制程生产线中应用最多的设备之一。
关键词
湿
化学
制程
设备
产能计算
LED芯片制程
Keywords
Wet chemical process equipment
capacity calculation
LED chip process
分类号
TN305.97 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
EtherCAT分布式运动控制系统在湿化学设备中的应用
王洪建
刘凯文
李永红
何川
张玮琪
《电子工业专用设备》
2020
0
下载PDF
职称材料
2
湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制作流程中的应用研究
刘莹
《光源与照明》
2024
0
下载PDF
职称材料
3
湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制程中的应用
殷子文
姚立新
张伟峰
曹秀芳
段成龙
《电子工业专用设备》
2016
1
下载PDF
职称材料
已选择
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