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EtherCAT分布式运动控制系统在湿化学设备中的应用
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作者 王洪建 刘凯文 +2 位作者 李永红 何川 张玮琪 《电子工业专用设备》 2020年第5期34-36,41,共4页
为解决传统控制系统控制结构封闭,兼容性差以及缺乏网络通信功能等弊端,满足湿化学设备在行业应用中的自动化和智能化需求,将以太网控制自动化技术应用于设备控制架构,搭建应用平台,构建适用于湿化学设备的分布式运动控制系统。简化了... 为解决传统控制系统控制结构封闭,兼容性差以及缺乏网络通信功能等弊端,满足湿化学设备在行业应用中的自动化和智能化需求,将以太网控制自动化技术应用于设备控制架构,搭建应用平台,构建适用于湿化学设备的分布式运动控制系统。简化了网络拓扑配置,提高了系统运动控制的实时性,满足设备应用需求,提升设备在行业应用中的适应性和扩展性。 展开更多
关键词 分布式运动控制 开放式以太网控制自动化技术 湿化学设备
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湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制作流程中的应用研究
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作者 刘莹 《光源与照明》 2024年第3期34-36,共3页
现阶段,湿化学清洗设备在化工研究和生产领域应用不断增多,这类设备可以结合具体的生产需要,针对生产进行技术处理。湿化学清洗设备在LED芯片中有一定的应用,对于提升LED正装芯片质量和效率有积极作用。文章基于半导体清洗设备发展情况... 现阶段,湿化学清洗设备在化工研究和生产领域应用不断增多,这类设备可以结合具体的生产需要,针对生产进行技术处理。湿化学清洗设备在LED芯片中有一定的应用,对于提升LED正装芯片质量和效率有积极作用。文章基于半导体清洗设备发展情况,针对LED芯片的制作流程,就湿化学清洗设备产能以及耗水计算方法进行分析,结合各次刻蚀清洗工艺后晶圆表面形貌分析,探讨了清洗设备在相关制造工艺中的应用。 展开更多
关键词 湿化学清洗设备 GaN基 LED正装芯片
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湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制程中的应用 被引量:1
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作者 殷子文 姚立新 +2 位作者 张伟峰 曹秀芳 段成龙 《电子工业专用设备》 2016年第12期3-6,38,共5页
讨论了湿化学清洗设备的产能和耗水(DIW)计算方法,以100 mm晶圆,单批次流片量50片为例,阐述了湿化学清洗设备整机和单元模块的各类配置;依据晶圆在各刻蚀清洗工艺后的表面形状,明确了各清洗设备在工艺中的作用。湿化学清洗设备可依据生... 讨论了湿化学清洗设备的产能和耗水(DIW)计算方法,以100 mm晶圆,单批次流片量50片为例,阐述了湿化学清洗设备整机和单元模块的各类配置;依据晶圆在各刻蚀清洗工艺后的表面形状,明确了各清洗设备在工艺中的作用。湿化学清洗设备可依据生产情况灵活处理生产需求,已成为LED芯片制程生产线中应用最多的设备之一。 展开更多
关键词 湿化学制程设备 产能计算 LED芯片制程
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