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用于生长超导氧化物膜的绝缘体涂镀溅射枪
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作者 笑声 《等离子体应用技术快报》 1998年第6期8-10,共3页
关键词 超导体 氧化物膜 溅射枪 绝缘体涂镀
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“S”枪溅射法制备钇钡铜氧高温超导薄膜
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作者 罗维昂 章壮健 +4 位作者 蔡一鸣 承焕生 沈孝良 杨宁平 邱经武 《复旦学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1991年第4期464-467,共4页
用单靶“S”枪溅射原位退火的方法,在氧化锆基体上制得厚度约0.5μm的钇钡铜氧高温超导薄膜,其临界温度T_c在85~90 K范围内,77 K时的临界电流密度大于5×10~5A/cm^2数量级。X射线衍射分析显示出薄膜呈高度c轴取向。同时用卢瑟福背... 用单靶“S”枪溅射原位退火的方法,在氧化锆基体上制得厚度约0.5μm的钇钡铜氧高温超导薄膜,其临界温度T_c在85~90 K范围内,77 K时的临界电流密度大于5×10~5A/cm^2数量级。X射线衍射分析显示出薄膜呈高度c轴取向。同时用卢瑟福背散射和俄歇电子谱分析了薄膜的组分,并用超导量子干涉器件RF-SQUID测量了薄膜的磁化率。 展开更多
关键词 超导体 薄膜 S溅射 YBACUO 高TC
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RECENT PROGRESS IN MULTI-BEAM KLYSTRON IN IECAS
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作者 Ding Yaogen (Institute of Electronics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080) 《Journal of Electronics(China)》 2002年第4期441-444,共4页
Recent research progresses in Multi-Beam Klystron (MBK) in IECAS are briefly introduced in the letter. The S-band MBKs of IECAS have peak power of 120-250 kW, average power of 4-9 kW, efficiency of 35-45%, gain of 41-... Recent research progresses in Multi-Beam Klystron (MBK) in IECAS are briefly introduced in the letter. The S-band MBKs of IECAS have peak power of 120-250 kW, average power of 4-9 kW, efficiency of 35-45%, gain of 41-46 dB, beam voltage of 15-19 kV, and weight of 40-45 kg. Some key technical problems of MBK are also described and discussed. Among them,improving the design of MBK to obtain the required bandwidth, raising beam transmission to increase average power, eliminating oscillation and spray spectrum, overcoming window breakdown caused by magic mode, reducing breakdown times of electrongun, are most important things for the practical MBK. Besides, further research work in MBK in IECAS is commented. 展开更多
关键词 Multi-Beam Klystron (MBK) Periodic Reversal Permanent Magnet (PRPM) focusing system Electron gun Oscillation and spray spectrum
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团簇离子枪对CH_(3)NH_(3)PbI_(3)钙钛矿薄膜的影响研究
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作者 单宇 蔡斌 王秀娜 《分析试验室》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期281-285,共5页
以氩离子团簇为溅射源,对采用一步旋涂法制备的CH_(3)NH_(3)PbI_(3)钙钛矿薄膜进行溅射实验,通过XPS分析检测样品表面Pb元素的价态变化。结果表明,新制备的钙钛矿薄膜材料表面没有检测出Pb^(0),而经过团簇离子枪溅射的样品中部分Pb^(2+... 以氩离子团簇为溅射源,对采用一步旋涂法制备的CH_(3)NH_(3)PbI_(3)钙钛矿薄膜进行溅射实验,通过XPS分析检测样品表面Pb元素的价态变化。结果表明,新制备的钙钛矿薄膜材料表面没有检测出Pb^(0),而经过团簇离子枪溅射的样品中部分Pb^(2+)还原成Pb^(0),证明了氩离子团簇刻蚀对钙钛矿材料具有破坏作用。一方面,溅射时间的增加以及团簇离子枪能量的增大均会加大钙钛矿材料的损伤程度;另一方面,离子枪团簇规模大小与溅射损伤程度呈近抛物线关系。因此,在进行此类样品表面清洁时,应尽量减小离子枪能量和溅射时间,选择较小或较大的团簇规模以减少对样品的损伤。该研究对于钙钛矿样品在进行XPS检测和数据分析时具有参考价值。 展开更多
关键词 钙钛矿薄膜 团簇离子溅射 X射线光电子能谱仪 溅射损伤 还原
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