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不同溅射气体对a-IGZO TFT特性的影响 被引量:1
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作者 张耿 王娟 +3 位作者 向桂华 蔡君蕊 孙庆华 赵伟明 《电子器件》 CAS 北大核心 2012年第2期125-129,共5页
采用脉冲直流(Pulsed DC)方式和不同的单组份气体(Ar、O2、N2)溅射制作IGZO,研究了缺氧(Ar)、富氧(O2)、氧替代(N2)三种情形下的IGZO-TFT特性。通过AES、XRD、AFM等分析手段,考察了不同气体制备的IGZO膜以及相应靶材的成分及结构,发现... 采用脉冲直流(Pulsed DC)方式和不同的单组份气体(Ar、O2、N2)溅射制作IGZO,研究了缺氧(Ar)、富氧(O2)、氧替代(N2)三种情形下的IGZO-TFT特性。通过AES、XRD、AFM等分析手段,考察了不同气体制备的IGZO膜以及相应靶材的成分及结构,发现不同的溅射气体对IGZO膜的成分比例和电学结构具有重要的影响。实验结果表明,Ar-IGZO TFT在退火后具有良好的特性,S值为1 V/dec,迁移率可达8.3 cm2/Vs,开关比Ion/Ioff≥105。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 IGZO膜 溅射气体 脉冲直流
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溅射气体中氩气含量对Y_1Ba_2Cu_3O_(7-δ)薄膜结构和T_c的影响
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作者 李季 王小平 +3 位作者 王霈文 齐善学 李弢 古宏伟 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第z1期41-43,共3页
采用倒筒直流磁控溅射系统在不同溅射气体组分下(氩氧比不同)原位沉积Y1Ba2Cu2O7-δ(YBCO)薄膜。样品的XRD分析发现在Ar含量过高和过低的溅射气氛下沉积的薄膜存在极少量的BaCuO2第二相,同时显示薄膜的c轴长度,(006),(007)对(005)峰强... 采用倒筒直流磁控溅射系统在不同溅射气体组分下(氩氧比不同)原位沉积Y1Ba2Cu2O7-δ(YBCO)薄膜。样品的XRD分析发现在Ar含量过高和过低的溅射气氛下沉积的薄膜存在极少量的BaCuO2第二相,同时显示薄膜的c轴长度,(006),(007)对(005)峰强度比随着溅射气体中Ar含量的变化而发生改变。通过薄膜超导零电阻温度检测发现,YBCO薄膜的超导零电阻温度Tc随之发生改变。这说明在磁控溅射沉积YBCO薄膜过程中,溅射气体中Ar气含量影响薄膜各元素的化学计量比,Ar含量过高和过低导致沉积YBCO薄膜晶体结构发生畸变,恶化超导电性。 展开更多
关键词 Y1Ba2Cu2O7-δ (YBCO)薄膜 溅射气体组分 (Ar/O2) 超导零电阻温度
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基体偏压和反应气体分压强对溅射导电膜电阻率的影响 被引量:3
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作者 仲永安 张怀武 许武毅 《真空》 CAS 北大核心 1989年第4期54-59,共6页
本文就基体偏压和反应气体分压强对溅射导电膜电阻率的影响作了理论分析,得到 了理论公式及变化曲线,给出了用三极溅射制得的氧化铟锡(简称ITO)透明导电膜的 电阻率随基体偏压和氧分压强变化的实验结果。并就理论曲线和实验曲线... 本文就基体偏压和反应气体分压强对溅射导电膜电阻率的影响作了理论分析,得到 了理论公式及变化曲线,给出了用三极溅射制得的氧化铟锡(简称ITO)透明导电膜的 电阻率随基体偏压和氧分压强变化的实验结果。并就理论曲线和实验曲线进行了比较。 展开更多
关键词 溅射气体 分压强 电阻率
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椭圆星系中的星系际尘埃
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作者 唐雨平 《天文学进展》 CSCD 北大核心 2008年第2期139-154,共16页
该文总结了近年来椭圆星系中尘埃起源研究中的一些关键问题,包括尘埃大小的分布及其组成、椭圆星系恒星质量损失速率、尘埃的两种加热机制(恒星辐射加热和电子-尘埃碰撞加热),以及由此导致的尘埃温度分布;尘埃的总质量估算;由热离子导... 该文总结了近年来椭圆星系中尘埃起源研究中的一些关键问题,包括尘埃大小的分布及其组成、椭圆星系恒星质量损失速率、尘埃的两种加热机制(恒星辐射加热和电子-尘埃碰撞加热),以及由此导致的尘埃温度分布;尘埃的总质量估算;由热离子导致的尘埃破坏速率,以及与此相关联的椭圆星系热气体分布,等等.综合考虑这些因素,作者认为热气体分布对于椭圆星系中尘埃存在和破坏的影响不可忽视,椭圆星系中星系内部恒星质量损失产生尘埃的起源可能占据着非常重要的地位. 展开更多
关键词 天体物理学 椭圆星系 星系际尘埃 气体溅射
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Study of Plasma and Ion Beam Sputtering Processes
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作者 M.M.Abdelrahman 《Journal of Physical Science and Application》 2015年第2期128-142,共15页
The effects of plasma (ions, electrons) and other energetic particles are now widely used for substrate cleaning as well as to assist and control thin film growth and various applications. In this work, historical r... The effects of plasma (ions, electrons) and other energetic particles are now widely used for substrate cleaning as well as to assist and control thin film growth and various applications. In this work, historical review of the plasma and its various types are given and described. Different types of gas discharge and plasma production are also discussed in detail. Furthermore, technique of ion beam extraction from a plasma source for sputtering process by using a suitable electrode is carefully studied and given. In further consequence, a general review about the physics and mechanism of sputtering processes is studied. Different types of sputtering techniques are investigated and clarified. Theoretical treatment for determination of sputtering yield for low and high atomic species elements as a function of energy from 100 to 5,000 eV are studied and discussed. Finally, various applications of plasma-and-ion beam sputtering will also be mentioned and discussed. 展开更多
关键词 PLASMA ion sputtering gas mixing electron injection.
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The effect of working gas pressure and deposition power on the properties of molybdenum films deposited by DC magnetron sputtering 被引量:1
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作者 CAO Hong ZHANG ChuanJun CHU JunHao 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2014年第5期947-952,共6页
Molybdenum films were deposited on Corning 7059 glass substrates by DC magnetron sputtering with different working gas pressures and sputtering powers.The structure and morphology,residual stress and adhesion,resistiv... Molybdenum films were deposited on Corning 7059 glass substrates by DC magnetron sputtering with different working gas pressures and sputtering powers.The structure and morphology,residual stress and adhesion,resistivity and optical reflectance of the as-deposited Mo films were investigated.The results show that Mo films deposited with high working gas pressure and low sputtering power have a spherical surface morphology,small grain size,residual compressive stress and a good adhesion,high resistivity and low optical reflectance.With the working gas pressure decreased and the sputtering power increased,Mo films have elongated spindle-shape or diamond flake shape surface morphology,the grain size is increased,with residual stress changed from tensile to compressive,a poor adhesion,resistivity decreased and optical reflectance increased. 展开更多
关键词 molybdenum thin films magnetron sputtering back contact solar cell
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