1
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溅射电流对磁控溅射CrN_x薄膜结构与性能的影响 |
孔庆花
吉利
李红轩
刘晓红
陈建敏
周惠娣
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
6
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2
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磁控溅射中溅射电流对Ti薄膜膜基结合性能的影响 |
李丽
吴卫
张尧成
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《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
2
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3
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PVD溅射电流对SiC纤维表面Ti_3Al涂层组织结构的影响 |
王敏涓
黄浩
解川
黄旭
李臻熙
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《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2014 |
2
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4
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银靶电流及溅射偏压对溅射沉积Cu/Ag薄膜导电性能的影响研究 |
张丽俊
田武
常勇强
任伟宁
张长军
鲍明东
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《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2019 |
2
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5
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磁控溅射制备TiN薄膜影响因素的研究 |
胡敏
刘莹
赖珍荃
刘倩
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2009 |
9
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6
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沉积温度对磁控溅射Ti/TiN多层膜光学和电学性能的影响 |
胡敏
刘莹
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《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
2
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7
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磁控溅射制备的AlN薄膜的结构、组分及性能分析 |
席忠红
李海翼
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《低温与超导》
CAS
CSCD
北大核心
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2012 |
1
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8
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非平衡磁控溅射沉积Ti-N薄膜色彩和性能调控研究 |
严晟硕
李安锁
祝超越
叶崇晖
章陵
鲍晓晅
鲍明东
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《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2017 |
2
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9
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薄膜电路制备中磁控溅射工艺对样品性能影响的研究 |
陈帅
邱颖霞
魏晓旻
郭育华
宋夏
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《电子工艺技术》
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2015 |
3
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10
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基于倾斜旋转方法磁控溅射制备TSV阻挡层 |
申菊
卢林红
杜承钢
冉景杨
闵睿
杨发顺
马奎
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《半导体技术》
CAS
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2024 |
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