期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
17
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
基于DSP的磁控溅射电源的设计与实现
被引量:
5
1
作者
邵桂荣
畅福善
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2011年第5期90-92,共3页
磁控溅射镀膜技术以高速、低温两大特点在真空镀膜工业中得到广泛应用,而靶材的异常放电会导致溅射过程不稳定,严重影响膜层质量。针对大型真空镀膜设备,从直流磁控溅射电源的等离子体负载特性出发,设计并研制了一款数字化的直流磁控溅...
磁控溅射镀膜技术以高速、低温两大特点在真空镀膜工业中得到广泛应用,而靶材的异常放电会导致溅射过程不稳定,严重影响膜层质量。针对大型真空镀膜设备,从直流磁控溅射电源的等离子体负载特性出发,设计并研制了一款数字化的直流磁控溅射电源。该电源采用TMS320LF2407型DSP作为主控制器。详细介绍了主电路的拓扑结构、主要参数的计算、控制电路的软、硬件具体实现方案。系统测试和运行结果表明,电源的稳定性、可靠性及可调范围均可满足磁控溅射镀膜的要求。
展开更多
关键词
磁控
溅射电源
数字信号处理器
真空镀膜
下载PDF
职称材料
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
被引量:
1
2
作者
黄西平
刘洋
+1 位作者
孙强
陈桂涛
《西安理工大学学报》
CAS
北大核心
2015年第4期443-447,共5页
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进行...
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进行了分析与设计,采用指数趋近律法削弱抖振,并对影响性能的参数进行了研究。仿真和实验结果表明:所提出的控制方法克服了传统方式下可能出现的起辉失败、负载扰动下电流波动大等缺点,提高了起辉成功率,并且对负载扰动具有很强的抑制能力。
展开更多
关键词
磁控
溅射电源
滑模变结构控制
移相全桥
起辉过程
下载PDF
职称材料
磁控溅射电源控制算法的优化设计
被引量:
3
3
作者
邵桂荣
苏世栋
杨立
《长春师范大学学报(人文社会科学版)》
2012年第3期59-62,共4页
磁控溅射电源是磁控溅射镀膜生产装置中的关键设备之一,溅射过程中的不稳定严重影响镀膜的质量,因此电源控制算法的优化设计对改善溅射过程的稳定性至关重要。本文针对大型真空镀膜设备所用电源,提出变速积分PI控制和重复控制相结合的...
磁控溅射电源是磁控溅射镀膜生产装置中的关键设备之一,溅射过程中的不稳定严重影响镀膜的质量,因此电源控制算法的优化设计对改善溅射过程的稳定性至关重要。本文针对大型真空镀膜设备所用电源,提出变速积分PI控制和重复控制相结合的控制方案,详细介绍了复合控制器的设计过程,MATLAB仿真验证了该方案的合理性。在实验室搭建了样机,测试和运行结果证明了算法的正确性。
展开更多
关键词
磁控
溅射电源
稳定性
控制算法
下载PDF
职称材料
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
被引量:
1
4
作者
刘洋
黄西平
《变频技术应用》
2015年第1期52-56,共5页
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进...
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进行了分析与设计,采用指数趋近律法削弱抖振,并对影响性能的参数进行了研究。仿真和实验结果表明:所提出的控制方法克服了传统方式下可能出现的起辉失败、负载扰动下电流波动大等缺点,提高了起辉成功率,并且对输入扰动和负载扰动具有很强的抑制能力。
展开更多
关键词
磁控
溅射电源
滑模变结构控制
移相全桥
起辉过程
下载PDF
职称材料
能量回馈型脉冲磁控溅射电源仿真研究
5
作者
张秀梅
李红泽
+1 位作者
刘洋
陈江洋
《真空》
CAS
2017年第2期56-59,共4页
本文设计了一种基于ARM数字化控制的能量回馈型脉冲溅射电源,系统采用ARM作为控制器,用于控制PWM驱动信号的产生。详细介绍了脉冲发生电路拓扑结构、分析了脉冲发生电路的工作原理以及控制方法的选用。经MATLAB仿真验证,该电源具有动态...
本文设计了一种基于ARM数字化控制的能量回馈型脉冲溅射电源,系统采用ARM作为控制器,用于控制PWM驱动信号的产生。详细介绍了脉冲发生电路拓扑结构、分析了脉冲发生电路的工作原理以及控制方法的选用。经MATLAB仿真验证,该电源具有动态特性好,控制简单可靠,能量回馈的特点。
展开更多
关键词
脉冲磁控
溅射电源
脉冲发生电路
能量回馈
ARM
下载PDF
职称材料
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
6
作者
刘洋
黄西平
《电源技术应用》
2015年第7期29-34,共6页
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进...
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进行了分析与设计,采用指数趋近律法削弱抖振,并对影响性能的参数进行了研究。仿真和实验结果表明:所提出的控制方法克服了传统方式下可能出现的起辉失败、负载扰动下电流波动大等缺点,提高了起辉成功率,并且对输入扰动和负载扰动具有很强的抑制能力。
展开更多
关键词
磁控
溅射电源
滑模变结构控制
移相全桥
起辉过程
下载PDF
职称材料
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
7
作者
刘洋
黄西平
《变频技术应用》
2015年第6期77-81,共5页
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进...
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进行了分析与设计,采用指数趋近律法削弱抖振,并对影响性能的参数进行了研究。仿真和实验结果表明:所提出的控制方法克服了传统方式下可能出现的起辉失败、负载扰动下电流波动大等缺点,提高了起辉成功率,并且对输入扰动和负载扰动具有很强的抑制能力。
展开更多
关键词
磁控
溅射电源
滑模变结构控制
移相全桥
起辉过程
下载PDF
职称材料
绿色镀膜用磁控溅射电源的设计与实现
被引量:
5
8
作者
马腾飞
魏宗寿
董绪伟
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2010年第4期66-68,共3页
传统的化学电镀技术在生产过程中会产生大量的三废污染,而绿色镀膜技术可以很好地解决该问题。磁控溅射镀膜是绿色镀膜技术中的重要环节。针对大型绿色真空镀膜设备,介绍了一种大功率绿色镀膜用磁控溅射电源的设计方法,描述了电源控制算...
传统的化学电镀技术在生产过程中会产生大量的三废污染,而绿色镀膜技术可以很好地解决该问题。磁控溅射镀膜是绿色镀膜技术中的重要环节。针对大型绿色真空镀膜设备,介绍了一种大功率绿色镀膜用磁控溅射电源的设计方法,描述了电源控制算法,通过部分电路图和波形图介绍了主电路设计、开关管的并联和高频整流滤波电路等几个问题;同时给出了设计高频变压器的过程和方法。该电源已用于实际生产中,且运行效率高,工作可靠。
展开更多
关键词
磁控
溅射电源
绿色镀膜
滑模控制
高频变压器
下载PDF
职称材料
基于FPGA的数字化中频磁控溅射电源设计
9
作者
刘艺超
陈文光
+1 位作者
饶益花
李云程
《真空》
CAS
北大核心
2011年第6期65-68,共4页
介绍了一种全数字控制的中频磁控溅射电源设计。主电路前级采用直流斩波调压,后级采用全桥逆变的电路结构。控制电路由现场可编程门阵列(FPGA)计算产生高分辨率的数字脉宽调制信号(DPWM)实现。电源工作于恒流模式,通过PID算法调节Buck...
介绍了一种全数字控制的中频磁控溅射电源设计。主电路前级采用直流斩波调压,后级采用全桥逆变的电路结构。控制电路由现场可编程门阵列(FPGA)计算产生高分辨率的数字脉宽调制信号(DPWM)实现。电源工作于恒流模式,通过PID算法调节Buck斩波电路的驱动DPWM来实现闭环控制。全桥逆变电路的驱动信号由FPGA计算产生,通过按键可设置驱动的DPWM,输出所需的固定频率和占空比的矩形波。对于靶面微打弧和强打弧,FPGA采取不同的保护措施。最后制作了5kW的样机进行验证,实验证明,方法可行,具有好的应用前景。
展开更多
关键词
中频磁控
溅射电源
Buck斩波
数字化控制器
FPGA
下载PDF
职称材料
高功率脉冲磁控溅射复合电源及其电弧特性研究
被引量:
1
10
作者
贺岩斌
熊涛
+1 位作者
姜亚南
李民久
《真空》
CAS
2018年第4期47-50,共4页
高功率脉冲磁控溅射因其高离化率得到广泛关注,是磁控溅射领域的新方向。随着对高功率脉冲磁控溅射放电和等离子特性的深入研究,制约高功率脉冲磁控溅射应用的主要不足有:沉积速率低,容易进入电弧放电影响膜层品质。本文从电源角度出发...
高功率脉冲磁控溅射因其高离化率得到广泛关注,是磁控溅射领域的新方向。随着对高功率脉冲磁控溅射放电和等离子特性的深入研究,制约高功率脉冲磁控溅射应用的主要不足有:沉积速率低,容易进入电弧放电影响膜层品质。本文从电源角度出发,针对高功率脉冲磁控溅射的高功率大电流特点,采用复合直流/脉冲电源提升高功率脉冲磁控溅射的沉积速率,采用电弧抑制电路避免电弧对膜层品质的危害。结果表明,复合高功率脉冲磁控溅射电源的设计有利于改善沉积速率;电弧抑制电路可快速检测,并通过电弧抑制回路快速释放残存能量,避免了电弧对高功率脉冲磁控溅射的影响。
展开更多
关键词
高功率脉冲磁控
溅射电源
复合
电源
沉积速率
电弧抑制电路
下载PDF
职称材料
单片机及自组织模糊控制在可控硅磁控溅射靶极电源中的应用
11
作者
王晓维
张学朋
《真空》
CAS
北大核心
1998年第4期28-33,共6页
本文介绍了由单片机组成的可控硅磁控溅射靶极电源自组织模糊控制系统,给出了主要硬件电路,对软件功能进行了说明,尤其对自组织模糊控制算法作了较为详细的论述。该系统动态特性良好,抗干扰能力强,有自组织、自学习和系统辩识的能力。
关键词
磁控
溅射电源
单片机
模糊控制
真空镀膜
下载PDF
职称材料
溅射用DC电源
12
作者
欣宇
《等离子体应用技术快报》
1999年第11期10-12,共3页
关键词
直流
电源
半导体
薄膜技术
溅射电源
成膜装置
下载PDF
职称材料
一种基于PLC系统的具有自检测功能的溅射电缆
13
作者
彭更
陈永军
《中国高新技术企业》
2014年第4期45-46,共2页
在生产过程中,大型真空溅射设备的靶材数量多,电源数量多,溅射电源和靶材之间的电缆多,并且电缆处于线盒中。然而更换靶材的周期短时间紧,工作人员难免会将溅射电源和阴极之间张冠李戴。一旦溅射电源和阴极张冠李戴就会存在一定的安全隐...
在生产过程中,大型真空溅射设备的靶材数量多,电源数量多,溅射电源和靶材之间的电缆多,并且电缆处于线盒中。然而更换靶材的周期短时间紧,工作人员难免会将溅射电源和阴极之间张冠李戴。一旦溅射电源和阴极张冠李戴就会存在一定的安全隐患,为了能提前发现此类错误而避免隐患就需要一种带自动检测功能的溅射电缆线。
展开更多
关键词
磁控
溅
射
溅射电源
靶材(阴极)
人机界面
下载PDF
职称材料
高功率脉冲电源的研制
被引量:
9
14
作者
贺岩斌
王志鹏
曾旭初
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2011年第5期78-80,共3页
高功率脉冲磁控溅射以其高离化率、高薄膜性能等特点得到广泛关注。介绍了高功率脉冲电源系统的原理和研制,提出了基于全桥逆变、电容储能、均流斩波等环节实现电源的方案,分别阐述了主回路、控制系统、保护电路的设计思路。电源系统采...
高功率脉冲磁控溅射以其高离化率、高薄膜性能等特点得到广泛关注。介绍了高功率脉冲电源系统的原理和研制,提出了基于全桥逆变、电容储能、均流斩波等环节实现电源的方案,分别阐述了主回路、控制系统、保护电路的设计思路。电源系统采用全桥逆变实现初级能源,电容储能实现中间能源,均流斩波实现功率输出,单片机和SG3525实现控制部分。实验结果证明电源运行可靠,输出特性良好,抗干扰能力强。
展开更多
关键词
高功率脉冲
电源
磁控
溅射电源
均流斩波
下载PDF
职称材料
高频等离子电源(射频电源、RF电源)——长春市星达电子仪器厂
15
作者
段立军
《真空》
CAS
北大核心
2004年第1期58-58,共1页
关键词
高频等离子
电源
长春市
脉冲
电源
直流
溅射电源
真空室
下载PDF
职称材料
304不锈钢管内壁沉积耐磨防腐DLC涂层
被引量:
6
16
作者
魏徐兵
张明蓝
+3 位作者
王焱
鲁志斌
张广安
林博
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第9期87-96,共10页
目的将HiPIMS电源应用于PECVD技术,在304不锈钢管内壁沉积DLC涂层,以提高其机械、耐蚀及摩擦学性能。方法将HiPIMS电源应用于PECVD技术,并利用空心阴极放电效应在管道内产生高密度等离子体,沉积DLC涂层。通过拉曼光谱、扫描电子显微镜和...
目的将HiPIMS电源应用于PECVD技术,在304不锈钢管内壁沉积DLC涂层,以提高其机械、耐蚀及摩擦学性能。方法将HiPIMS电源应用于PECVD技术,并利用空心阴极放电效应在管道内产生高密度等离子体,沉积DLC涂层。通过拉曼光谱、扫描电子显微镜和EDS对DLC涂层的结构和成分进行表征,并通过纳米压痕测试、划痕试验、静态极化曲线和摩擦磨损试验,分别评价304不锈钢管基底和DLC涂层的硬度、膜基结合力、耐腐蚀性能、摩擦学性能和耐磨性。结果HiPIMS电源应用于PECVD技术可在304不锈钢管内壁沉积DLC涂层。DLC涂层的厚度可达5.60~10.26μm,硬度可达10~15GPa,与304管内壁的结合力(Lc2)均大于7N。DLC涂层的腐蚀电流密度较304不锈钢管基底降低了一个数量级,腐蚀电位也发生了正移。DLC涂层具有良好的润滑效果,摩擦系数低至0.06~0.18,磨损率低至2.5×10^-7~8.1×10^-7mm^3/(N·m),远低于304不锈钢管基底的磨损率(80×10^-7mm^3/(N·m))。结论将HiPIMS电源应用于PECVD技术在304不锈钢内壁沉积的DLC涂层具有较高的硬度,与304不锈钢管内壁具有较高的结合力,同时具有优异的耐腐蚀性能和耐磨性以及良好的润滑作用。HiPIMS电源应用于PECVD技术有望应用更长管道内壁DLC涂层的制备。
展开更多
关键词
高功率脉冲磁控
溅射电源
空心阴极等离子体增强化学气相沉积
管内壁
DLC涂层
耐蚀性
耐磨性
均匀性
下载PDF
职称材料
高能脉冲磁控溅射镀膜机
17
《中国科学院院刊》
CSCD
北大核心
2023年第S01期45-45,共1页
主要技术与性能指标,等离子体离化率:Ti等离子体>80%,离子能量控制:10-1000 eV,离子注入电压:40 kV(可定制),搭载等离子体诊断系统(OES)、离子能量监控系统,朗缪尔探针:6个检测探针,极限真空:1×10^(−4) Pa,真空室有效尺寸:Φ100...
主要技术与性能指标,等离子体离化率:Ti等离子体>80%,离子能量控制:10-1000 eV,离子注入电压:40 kV(可定制),搭载等离子体诊断系统(OES)、离子能量监控系统,朗缪尔探针:6个检测探针,极限真空:1×10^(−4) Pa,真空室有效尺寸:Φ1000×1000 mm(按需定制),HiPIMS磁控溅射电源及阴极:6部(柱靶或平面靶选配)。
展开更多
关键词
有效尺寸
等离子体诊断
离子能量
磁控
溅射电源
高能脉冲
朗缪尔探针
极限真空
离子注入
原文传递
题名
基于DSP的磁控溅射电源的设计与实现
被引量:
5
1
作者
邵桂荣
畅福善
机构
运城学院物理与电子工程系
出处
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2011年第5期90-92,共3页
基金
运城学院2009研究项目(JC-2009014)~~
文摘
磁控溅射镀膜技术以高速、低温两大特点在真空镀膜工业中得到广泛应用,而靶材的异常放电会导致溅射过程不稳定,严重影响膜层质量。针对大型真空镀膜设备,从直流磁控溅射电源的等离子体负载特性出发,设计并研制了一款数字化的直流磁控溅射电源。该电源采用TMS320LF2407型DSP作为主控制器。详细介绍了主电路的拓扑结构、主要参数的计算、控制电路的软、硬件具体实现方案。系统测试和运行结果表明,电源的稳定性、可靠性及可调范围均可满足磁控溅射镀膜的要求。
关键词
磁控
溅射电源
数字信号处理器
真空镀膜
Keywords
magnetron sputtering power
digital signal processor
vacuum coating
分类号
TN86 [电子电信—信息与通信工程]
下载PDF
职称材料
题名
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
被引量:
1
2
作者
黄西平
刘洋
孙强
陈桂涛
机构
西安理工大学自动化与信息工程学院
出处
《西安理工大学学报》
CAS
北大核心
2015年第4期443-447,共5页
基金
陕西省工业攻关研究发展计划资助项目(2011 K09-05)
文摘
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进行了分析与设计,采用指数趋近律法削弱抖振,并对影响性能的参数进行了研究。仿真和实验结果表明:所提出的控制方法克服了传统方式下可能出现的起辉失败、负载扰动下电流波动大等缺点,提高了起辉成功率,并且对负载扰动具有很强的抑制能力。
关键词
磁控
溅射电源
滑模变结构控制
移相全桥
起辉过程
Keywords
magnetron sputtering power
sliding mode variable structure control
phase-shifted full-bridge
sputtering starter process
分类号
TP273.3 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
下载PDF
职称材料
题名
磁控溅射电源控制算法的优化设计
被引量:
3
3
作者
邵桂荣
苏世栋
杨立
机构
运城学院物理与电子工程系
出处
《长春师范大学学报(人文社会科学版)》
2012年第3期59-62,共4页
基金
山西省高等学校科技开发项目(20101124)
运城学院基础研究项目(JC-2009014)
文摘
磁控溅射电源是磁控溅射镀膜生产装置中的关键设备之一,溅射过程中的不稳定严重影响镀膜的质量,因此电源控制算法的优化设计对改善溅射过程的稳定性至关重要。本文针对大型真空镀膜设备所用电源,提出变速积分PI控制和重复控制相结合的控制方案,详细介绍了复合控制器的设计过程,MATLAB仿真验证了该方案的合理性。在实验室搭建了样机,测试和运行结果证明了算法的正确性。
关键词
磁控
溅射电源
稳定性
控制算法
Keywords
magnetron sputtering power
stability
control algorithm
分类号
TP301.6 [自动化与计算机技术—计算机系统结构]
下载PDF
职称材料
题名
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
被引量:
1
4
作者
刘洋
黄西平
机构
西安理工大学自动化与信息工程学院
出处
《变频技术应用》
2015年第1期52-56,共5页
文摘
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进行了分析与设计,采用指数趋近律法削弱抖振,并对影响性能的参数进行了研究。仿真和实验结果表明:所提出的控制方法克服了传统方式下可能出现的起辉失败、负载扰动下电流波动大等缺点,提高了起辉成功率,并且对输入扰动和负载扰动具有很强的抑制能力。
关键词
磁控
溅射电源
滑模变结构控制
移相全桥
起辉过程
分类号
TM154 [电气工程—电工理论与新技术]
下载PDF
职称材料
题名
能量回馈型脉冲磁控溅射电源仿真研究
5
作者
张秀梅
李红泽
刘洋
陈江洋
机构
长春工业大学电气与电子工程学院
出处
《真空》
CAS
2017年第2期56-59,共4页
文摘
本文设计了一种基于ARM数字化控制的能量回馈型脉冲溅射电源,系统采用ARM作为控制器,用于控制PWM驱动信号的产生。详细介绍了脉冲发生电路拓扑结构、分析了脉冲发生电路的工作原理以及控制方法的选用。经MATLAB仿真验证,该电源具有动态特性好,控制简单可靠,能量回馈的特点。
关键词
脉冲磁控
溅射电源
脉冲发生电路
能量回馈
ARM
Keywords
pulse magnetron sputtering power
pulse generating circuit
energy feedback
ARM
分类号
TN86 [电子电信—信息与通信工程]
下载PDF
职称材料
题名
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
6
作者
刘洋
黄西平
机构
西安理工大学自动化与信息工程学院
出处
《电源技术应用》
2015年第7期29-34,共6页
文摘
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进行了分析与设计,采用指数趋近律法削弱抖振,并对影响性能的参数进行了研究。仿真和实验结果表明:所提出的控制方法克服了传统方式下可能出现的起辉失败、负载扰动下电流波动大等缺点,提高了起辉成功率,并且对输入扰动和负载扰动具有很强的抑制能力。
关键词
磁控
溅射电源
滑模变结构控制
移相全桥
起辉过程
分类号
TP273.3 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
下载PDF
职称材料
题名
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
7
作者
刘洋
黄西平
机构
西安理工大学自动化与信息工程学院
出处
《变频技术应用》
2015年第6期77-81,共5页
文摘
基于脉冲磁控溅射电源等离子体负载的特殊性及镀膜过程对输出电压电流的控制需求,提出了一种PI控制电压环与滑模变结构控制电流环相结合的复合控制策略。文中建立了移相全桥变换器的平均状态空间模型,重点对滑模变结构电流控制方法进行了分析与设计,采用指数趋近律法削弱抖振,并对影响性能的参数进行了研究。仿真和实验结果表明:所提出的控制方法克服了传统方式下可能出现的起辉失败、负载扰动下电流波动大等缺点,提高了起辉成功率,并且对输入扰动和负载扰动具有很强的抑制能力。
关键词
磁控
溅射电源
滑模变结构控制
移相全桥
起辉过程
分类号
TM154 [电气工程—电工理论与新技术]
下载PDF
职称材料
题名
绿色镀膜用磁控溅射电源的设计与实现
被引量:
5
8
作者
马腾飞
魏宗寿
董绪伟
机构
国家绿色镀膜技术与装备工程技术研究中心
出处
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2010年第4期66-68,共3页
基金
2007年度国家重点新产品计划立项项目(2007GRG10004)~~
文摘
传统的化学电镀技术在生产过程中会产生大量的三废污染,而绿色镀膜技术可以很好地解决该问题。磁控溅射镀膜是绿色镀膜技术中的重要环节。针对大型绿色真空镀膜设备,介绍了一种大功率绿色镀膜用磁控溅射电源的设计方法,描述了电源控制算法,通过部分电路图和波形图介绍了主电路设计、开关管的并联和高频整流滤波电路等几个问题;同时给出了设计高频变压器的过程和方法。该电源已用于实际生产中,且运行效率高,工作可靠。
关键词
磁控
溅射电源
绿色镀膜
滑模控制
高频变压器
Keywords
magnetron sputtering power
green coating
sliding mode control
high-frequency transformer
分类号
TN86 [电子电信—信息与通信工程]
下载PDF
职称材料
题名
基于FPGA的数字化中频磁控溅射电源设计
9
作者
刘艺超
陈文光
饶益花
李云程
机构
南华大学电气工程学院
衡阳市真空机电设备有限公司
出处
《真空》
CAS
北大核心
2011年第6期65-68,共4页
基金
湖南省科技厅项目资助(2009CK4013)
文摘
介绍了一种全数字控制的中频磁控溅射电源设计。主电路前级采用直流斩波调压,后级采用全桥逆变的电路结构。控制电路由现场可编程门阵列(FPGA)计算产生高分辨率的数字脉宽调制信号(DPWM)实现。电源工作于恒流模式,通过PID算法调节Buck斩波电路的驱动DPWM来实现闭环控制。全桥逆变电路的驱动信号由FPGA计算产生,通过按键可设置驱动的DPWM,输出所需的固定频率和占空比的矩形波。对于靶面微打弧和强打弧,FPGA采取不同的保护措施。最后制作了5kW的样机进行验证,实验证明,方法可行,具有好的应用前景。
关键词
中频磁控
溅射电源
Buck斩波
数字化控制器
FPGA
Keywords
mid-frequency magnetron sputtering power supply
Buck Chopper
digital controller
FPGA
分类号
TN86 [电子电信—信息与通信工程]
下载PDF
职称材料
题名
高功率脉冲磁控溅射复合电源及其电弧特性研究
被引量:
1
10
作者
贺岩斌
熊涛
姜亚南
李民久
机构
核工业西南物理研究院
出处
《真空》
CAS
2018年第4期47-50,共4页
文摘
高功率脉冲磁控溅射因其高离化率得到广泛关注,是磁控溅射领域的新方向。随着对高功率脉冲磁控溅射放电和等离子特性的深入研究,制约高功率脉冲磁控溅射应用的主要不足有:沉积速率低,容易进入电弧放电影响膜层品质。本文从电源角度出发,针对高功率脉冲磁控溅射的高功率大电流特点,采用复合直流/脉冲电源提升高功率脉冲磁控溅射的沉积速率,采用电弧抑制电路避免电弧对膜层品质的危害。结果表明,复合高功率脉冲磁控溅射电源的设计有利于改善沉积速率;电弧抑制电路可快速检测,并通过电弧抑制回路快速释放残存能量,避免了电弧对高功率脉冲磁控溅射的影响。
关键词
高功率脉冲磁控
溅射电源
复合
电源
沉积速率
电弧抑制电路
Keywords
high power impulse magnetron sputtering power supply
hybrid power supply
deposition rate
arcsuppression circuit
分类号
TB79 [一般工业技术—真空技术]
TM464 [电气工程—电器]
下载PDF
职称材料
题名
单片机及自组织模糊控制在可控硅磁控溅射靶极电源中的应用
11
作者
王晓维
张学朋
机构
承德达优真空工程有限公司
出处
《真空》
CAS
北大核心
1998年第4期28-33,共6页
文摘
本文介绍了由单片机组成的可控硅磁控溅射靶极电源自组织模糊控制系统,给出了主要硬件电路,对软件功能进行了说明,尤其对自组织模糊控制算法作了较为详细的论述。该系统动态特性良好,抗干扰能力强,有自组织、自学习和系统辩识的能力。
关键词
磁控
溅射电源
单片机
模糊控制
真空镀膜
分类号
TN305.8 [电子电信—物理电子学]
TN86 [电子电信—信息与通信工程]
下载PDF
职称材料
题名
溅射用DC电源
12
作者
欣宇
出处
《等离子体应用技术快报》
1999年第11期10-12,共3页
关键词
直流
电源
半导体
薄膜技术
溅射电源
成膜装置
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
一种基于PLC系统的具有自检测功能的溅射电缆
13
作者
彭更
陈永军
出处
《中国高新技术企业》
2014年第4期45-46,共2页
文摘
在生产过程中,大型真空溅射设备的靶材数量多,电源数量多,溅射电源和靶材之间的电缆多,并且电缆处于线盒中。然而更换靶材的周期短时间紧,工作人员难免会将溅射电源和阴极之间张冠李戴。一旦溅射电源和阴极张冠李戴就会存在一定的安全隐患,为了能提前发现此类错误而避免隐患就需要一种带自动检测功能的溅射电缆线。
关键词
磁控
溅
射
溅射电源
靶材(阴极)
人机界面
分类号
TM206 [一般工业技术—材料科学与工程]
TP273 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
下载PDF
职称材料
题名
高功率脉冲电源的研制
被引量:
9
14
作者
贺岩斌
王志鹏
曾旭初
机构
核工业西南物理研究院
出处
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2011年第5期78-80,共3页
文摘
高功率脉冲磁控溅射以其高离化率、高薄膜性能等特点得到广泛关注。介绍了高功率脉冲电源系统的原理和研制,提出了基于全桥逆变、电容储能、均流斩波等环节实现电源的方案,分别阐述了主回路、控制系统、保护电路的设计思路。电源系统采用全桥逆变实现初级能源,电容储能实现中间能源,均流斩波实现功率输出,单片机和SG3525实现控制部分。实验结果证明电源运行可靠,输出特性良好,抗干扰能力强。
关键词
高功率脉冲
电源
磁控
溅射电源
均流斩波
Keywords
high power pulsed supply
magnetron sputtering supply
current sharing chopping
分类号
TN86 [电子电信—信息与通信工程]
下载PDF
职称材料
题名
高频等离子电源(射频电源、RF电源)——长春市星达电子仪器厂
15
作者
段立军
机构
长春市星达电子仪器厂
出处
《真空》
CAS
北大核心
2004年第1期58-58,共1页
关键词
高频等离子
电源
长春市
脉冲
电源
直流
溅射电源
真空室
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
304不锈钢管内壁沉积耐磨防腐DLC涂层
被引量:
6
16
作者
魏徐兵
张明蓝
王焱
鲁志斌
张广安
林博
机构
中国科学院兰州化学物理研究所
中国科学院大学
广西柳工机械股份有限公司
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第9期87-96,共10页
基金
广西科技重大专项(AA18242002)~~
文摘
目的将HiPIMS电源应用于PECVD技术,在304不锈钢管内壁沉积DLC涂层,以提高其机械、耐蚀及摩擦学性能。方法将HiPIMS电源应用于PECVD技术,并利用空心阴极放电效应在管道内产生高密度等离子体,沉积DLC涂层。通过拉曼光谱、扫描电子显微镜和EDS对DLC涂层的结构和成分进行表征,并通过纳米压痕测试、划痕试验、静态极化曲线和摩擦磨损试验,分别评价304不锈钢管基底和DLC涂层的硬度、膜基结合力、耐腐蚀性能、摩擦学性能和耐磨性。结果HiPIMS电源应用于PECVD技术可在304不锈钢管内壁沉积DLC涂层。DLC涂层的厚度可达5.60~10.26μm,硬度可达10~15GPa,与304管内壁的结合力(Lc2)均大于7N。DLC涂层的腐蚀电流密度较304不锈钢管基底降低了一个数量级,腐蚀电位也发生了正移。DLC涂层具有良好的润滑效果,摩擦系数低至0.06~0.18,磨损率低至2.5×10^-7~8.1×10^-7mm^3/(N·m),远低于304不锈钢管基底的磨损率(80×10^-7mm^3/(N·m))。结论将HiPIMS电源应用于PECVD技术在304不锈钢内壁沉积的DLC涂层具有较高的硬度,与304不锈钢管内壁具有较高的结合力,同时具有优异的耐腐蚀性能和耐磨性以及良好的润滑作用。HiPIMS电源应用于PECVD技术有望应用更长管道内壁DLC涂层的制备。
关键词
高功率脉冲磁控
溅射电源
空心阴极等离子体增强化学气相沉积
管内壁
DLC涂层
耐蚀性
耐磨性
均匀性
Keywords
HiPIMS power supply
HC-PECVD
pipe inner wall
DLC
corrosion resistance
wear resistance
uniformity
分类号
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
下载PDF
职称材料
题名
高能脉冲磁控溅射镀膜机
17
出处
《中国科学院院刊》
CSCD
北大核心
2023年第S01期45-45,共1页
文摘
主要技术与性能指标,等离子体离化率:Ti等离子体>80%,离子能量控制:10-1000 eV,离子注入电压:40 kV(可定制),搭载等离子体诊断系统(OES)、离子能量监控系统,朗缪尔探针:6个检测探针,极限真空:1×10^(−4) Pa,真空室有效尺寸:Φ1000×1000 mm(按需定制),HiPIMS磁控溅射电源及阴极:6部(柱靶或平面靶选配)。
关键词
有效尺寸
等离子体诊断
离子能量
磁控
溅射电源
高能脉冲
朗缪尔探针
极限真空
离子注入
分类号
O441 [理学—电磁学]
TN248 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于DSP的磁控溅射电源的设计与实现
邵桂荣
畅福善
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2011
5
下载PDF
职称材料
2
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
黄西平
刘洋
孙强
陈桂涛
《西安理工大学学报》
CAS
北大核心
2015
1
下载PDF
职称材料
3
磁控溅射电源控制算法的优化设计
邵桂荣
苏世栋
杨立
《长春师范大学学报(人文社会科学版)》
2012
3
下载PDF
职称材料
4
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
刘洋
黄西平
《变频技术应用》
2015
1
下载PDF
职称材料
5
能量回馈型脉冲磁控溅射电源仿真研究
张秀梅
李红泽
刘洋
陈江洋
《真空》
CAS
2017
0
下载PDF
职称材料
6
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
刘洋
黄西平
《电源技术应用》
2015
0
下载PDF
职称材料
7
脉冲磁控溅射电源控制策略的研究
刘洋
黄西平
《变频技术应用》
2015
0
下载PDF
职称材料
8
绿色镀膜用磁控溅射电源的设计与实现
马腾飞
魏宗寿
董绪伟
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2010
5
下载PDF
职称材料
9
基于FPGA的数字化中频磁控溅射电源设计
刘艺超
陈文光
饶益花
李云程
《真空》
CAS
北大核心
2011
0
下载PDF
职称材料
10
高功率脉冲磁控溅射复合电源及其电弧特性研究
贺岩斌
熊涛
姜亚南
李民久
《真空》
CAS
2018
1
下载PDF
职称材料
11
单片机及自组织模糊控制在可控硅磁控溅射靶极电源中的应用
王晓维
张学朋
《真空》
CAS
北大核心
1998
0
下载PDF
职称材料
12
溅射用DC电源
欣宇
《等离子体应用技术快报》
1999
0
下载PDF
职称材料
13
一种基于PLC系统的具有自检测功能的溅射电缆
彭更
陈永军
《中国高新技术企业》
2014
0
下载PDF
职称材料
14
高功率脉冲电源的研制
贺岩斌
王志鹏
曾旭初
《电力电子技术》
CSCD
北大核心
2011
9
下载PDF
职称材料
15
高频等离子电源(射频电源、RF电源)——长春市星达电子仪器厂
段立军
《真空》
CAS
北大核心
2004
0
下载PDF
职称材料
16
304不锈钢管内壁沉积耐磨防腐DLC涂层
魏徐兵
张明蓝
王焱
鲁志斌
张广安
林博
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019
6
下载PDF
职称材料
17
高能脉冲磁控溅射镀膜机
《中国科学院院刊》
CSCD
北大核心
2023
0
原文传递
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部