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溅射膜电极与氧化锌压敏陶瓷的界面机制研究
被引量:
4
1
作者
王文婷
王德苗
郑小婵
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第6期585-589,共5页
利用溅射法制备半导体陶瓷表面的电极有着广阔的产业化前景,但关于溅射膜电极与陶瓷表面的界面机制研究尚鲜有报道。本文采用磁控溅射法在ZnO压敏陶瓷表面制备了Cr+Cu电极,通过X射线光电子能谱等技术研究分析了Cr/ZnO的界面反应及界面...
利用溅射法制备半导体陶瓷表面的电极有着广阔的产业化前景,但关于溅射膜电极与陶瓷表面的界面机制研究尚鲜有报道。本文采用磁控溅射法在ZnO压敏陶瓷表面制备了Cr+Cu电极,通过X射线光电子能谱等技术研究分析了Cr/ZnO的界面反应及界面成分。研究结果表明:常温下Cr膜在氧化锌表面的沉积模式为混态生长模式,在Cr的初始沉积阶段,Cr价层电子与氧化锌表面存在电子转移作用,有氧化态的Cr生成;随着覆盖度的增加,电子转移逐渐减弱,最后Cr完全呈现为金属态的中性吸附。该界面反应生成的化合物对溅射膜电极的欧姆接触,附着力等性能有重要作用,而且能有效阻止电极元素Cu或Ag的纵向扩散。
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关键词
溅射
膜
cr
+
cu
电极
cr
/ZnO界面作用
ZNO压敏陶瓷
欧姆接触
附着力
下载PDF
职称材料
题名
溅射膜电极与氧化锌压敏陶瓷的界面机制研究
被引量:
4
1
作者
王文婷
王德苗
郑小婵
机构
浙江大学信息科学与电子工程系
浙江大学昆山创新中心先进电子专用设备研发中心
苏州求是真空电子有限公司
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第6期585-589,共5页
文摘
利用溅射法制备半导体陶瓷表面的电极有着广阔的产业化前景,但关于溅射膜电极与陶瓷表面的界面机制研究尚鲜有报道。本文采用磁控溅射法在ZnO压敏陶瓷表面制备了Cr+Cu电极,通过X射线光电子能谱等技术研究分析了Cr/ZnO的界面反应及界面成分。研究结果表明:常温下Cr膜在氧化锌表面的沉积模式为混态生长模式,在Cr的初始沉积阶段,Cr价层电子与氧化锌表面存在电子转移作用,有氧化态的Cr生成;随着覆盖度的增加,电子转移逐渐减弱,最后Cr完全呈现为金属态的中性吸附。该界面反应生成的化合物对溅射膜电极的欧姆接触,附着力等性能有重要作用,而且能有效阻止电极元素Cu或Ag的纵向扩散。
关键词
溅射
膜
cr
+
cu
电极
cr
/ZnO界面作用
ZNO压敏陶瓷
欧姆接触
附着力
Keywords
Sputtered
cr
+
cu
electrodes,
cr
/ZnO interface reaction, ZnO varistor, Ohmic contact, Adhesion
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
溅射膜电极与氧化锌压敏陶瓷的界面机制研究
王文婷
王德苗
郑小婵
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
4
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职称材料
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