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题名溅射镀Ni-Co磁性膜的研究
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作者
许锦茂
李仲君
何育红
梁文萍
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机构
山西矿业学院矿山机械系
电子工业部工艺研究所
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出处
《真空科学与技术》
CSCD
1996年第4期306-308,共3页
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文摘
用电镀方法制作磁性靶材,在真空室中增设磁场进行溅射镀Ni-Co磁膜的方法。此方法已应用于计算机磁盘的生产中。
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关键词
溅射镀
磁性膜
镍-钴
薄膜
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分类号
O484.43
[理学—固体物理]
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题名溅射涂镀管内壁的装置
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作者
Ensin.,W
彩虹
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出处
《国外核聚变与等离子体应用》
1997年第2期76-79,共4页
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文摘
本文描述了用物理气相沉积涂镀管内壁的一个装置。离子束平行轴进入管内,并撞击在穿过管的圆锥溅射靶上。因而来自溅射靶的材料沉积在管壁上。用这个装置给钢管内壁涂上银,给钽管内壁涂上铂。后者有效地防止钽管与酸接触时变脆。
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关键词
溅射涂镀
管内壁
溅射靶
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分类号
TG174.442
[金属学及工艺—金属表面处理]
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题名镍基溅射钨注碳电极的催化性能
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作者
张季爽
吕瑶姣
李青莲
沈报恩
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机构
湖南大学化学化工系环境工程系
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出处
《电化学》
CAS
CSCD
1995年第1期97-100,共4页
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基金
国家自然科学基金
北京中关村地区联合分析测试中心基金
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文摘
镍基溅射钨注碳电极的催化性能张季爽,吕瑶姣,李青莲(湖南大学化学化工系环境工程系,长沙410082)沈报恩(杭州大学化学系,杭州310028)析氢反应研究涉及到氢能、燃料电池、氯碱工业等的能源开发及节能技术,并具有重要的理论意义 ̄[1~5].本工作研...
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关键词
镍基
溅射镀钨
析氢催化
碳离子束
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Keywords
Ion beam implantation,Hydrogen evolution reaction,Electrocatalytic,Ni-W electrode
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分类号
O657.1
[理学—分析化学]
O643.361
[理学—物理化学]
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题名真空离子精饰镀膜技术研究
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作者
陈宝清
董闯
吕传花
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机构
大连理工大学材料工程系
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出处
《电镀与精饰》
CAS
2002年第5期17-19,共3页
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文摘
黄铜基材装饰件表面采用高能级溅射离子镀 ,镀不锈钢代替电镀钯 -镍合金 ,采用等离子体型阴极弧源 -磁控溅射镀技术在不锈钢镀膜表面上镀制 Ti N/ Au透明陶瓷保护膜 Si O2 、Ti O2 。并对各膜层的硬度、耐蚀性、耐磨性及相结构进行分析。
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关键词
真空离子精饰镀膜技术
研究
离子掺金
高能级磁控溅射离子镀
等离子体型
阴极弧源-磁控溅射镀
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Keywords
Au-mixed ion plating
high-energy magnetron sputtering ion plating
plasma type cathodlic are source-magnetron sputtering
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分类号
TQ153.19
[化学工程—电化学工业]
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题名碳纤维/镍复合材料的制备与电磁屏蔽效能
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作者
朱佩
代波
任勇
林通
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机构
广东聚华印刷显示技术有限公司
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出处
《电子工艺技术》
2024年第3期50-53,共4页
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文摘
以直接干燥处理后的细菌纤维素(BC)为原料,采用磁控溅射的方法在细菌纤维素表面镀磁性金属镍,得到纤维结构完整、表面镀层致密、以非晶态为主的复合(BC/Ni)纤维材料。然后将BC/Ni复合材料在1000℃下进行碳化,采用一系列手段对产物的晶体结构、形貌、粒径、磁性能及电磁参数进行表征。试验结果表明:1000℃碳化镀镍细菌纤维素在频率为0.1~18GHz之间的屏蔽效能随着频率的增加而增加。与碳化纯的细菌纤维素相比,电磁屏蔽效能有了显著提高。
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关键词
细菌纤维素
磁控溅射镀镍
磁性能
电磁屏蔽效能
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Keywords
bacterial cellulose
magnetron sputtering plating
magnetic properties
electromagnetic shielding effectiveness
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分类号
TN604
[电子电信—电路与系统]
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题名透明陶瓷保护膜的研究
被引量:1
- 6
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作者
陈宝清
吕传花
董闯
黄龙
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机构
大连理工大学材料工程系
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出处
《真空》
CAS
北大核心
2004年第4期55-57,共3页
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文摘
对黄铜基材装饰件表面先采用高能级磁控溅射离子镀 (专利号 :85 10 2 6 0 0 .1)技术镀不锈钢代替电镀钯 -镍合金 ,再采用等离子体型阴极弧源 -磁控溅射镀 (专利号 :ZL982 36 95 0 .6 )技术在不锈钢镀膜表面上镀制Ti N/ Au/透明陶瓷保护膜 Si O2 、Ti O2 。对其硬度。
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关键词
高能级磁控溅射离子镀
等离子体型阴极弧源
磁控溅射镀
不锈钢
透明陶瓷保护膜
离子掺金镀
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Keywords
Au-mixed ion plating
high-energy magnetron sputtering ion plating
plasma cathode arc source-magnetron sputteringAu-mixed ion plating
high-energy magnetron sputtering ion plating
plasma cathode arc source-magnetron sputtering[ZK)
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分类号
TB43
[一般工业技术]
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题名沉积硬质涂层技术的新发展
被引量:2
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作者
王福贞
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机构
北京联合大学机电学院
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出处
《真空》
CAS
北大核心
2007年第4期13-19,共7页
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文摘
本文介绍了新型硬质涂层和硬质涂层沉积技术中电弧离子镀和磁控溅射镀技术的新进展。
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关键词
硬质涂层
电弧离子镀
磁控溅射镀
气体离子源
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Keywords
hard thin films
arc ion coating
magnetron sputtering
gas ion source
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分类号
TB43
[一般工业技术]
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题名物理气相沉积用于汽车外饰件的可行性分析
被引量:2
- 8
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作者
刘帮毅
孙力
苏英霞
汪光伟
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机构
吉利汽车研究院(宁波)有限公司
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出处
《电镀与涂饰》
CAS
北大核心
2022年第14期1038-1042,共5页
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文摘
为探索物理气相沉积(PVD)用于汽车外饰件的可行性,分析了紫外光可固化涂层固化能量、基材种类和PVD工艺类型(包括真空蒸发镀铟和磁控溅射镀铬)对样品各项性能的影响。结果表明,将PVD用于汽车外饰件可行。说明了相关注意事项。
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关键词
汽车外饰件
物理气相沉积
真空蒸发镀铟
磁控溅射镀铬
有机涂层
附着力
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Keywords
automotive exterior part
physical vapor deposition
vacuum evaporation plating of indium
magnetron sputtering of chromium
organic coating
adhesion
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分类号
TG174.444
[金属学及工艺—金属表面处理]
U466
[机械工程—车辆工程]
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题名低温多晶硅薄膜晶体管(p—SiTFT)制作新技术
被引量:1
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作者
季旭东
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机构
华东电子集团公司
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出处
《光电技术》
2003年第1期49-53,共5页
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文摘
制作低温多晶硅薄膜晶体管层是制作高性能液晶显示器件技术的一个重要组成部分。本文对制作液晶显示器件的多晶硅薄膜晶体管层工艺及其改进进行了讨论。
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关键词
低温多晶硅
液晶显示
薄膜晶体管
技术制造
p—SiTFT
物理蒸镀-溅射法
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分类号
TN141.9
[电子电信—物理电子学]
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