基于PLC的真空溅射镀膜机控制系统设计

真空溅射镀膜技术及设备在当今和未来都拥有十分广阔的应用领域和发展前景。由于采用继电器-接触器的镀膜机存在一些缺陷和不足,设计了基于PLC的真空溅射镀膜机。几年的实践证明:改进后的镀膜机工作效率有很大提高,设备维修率也大大降低,它为同类系统的设计提供了参考。

基于FPGA的太阳能真空集热管磁控溅射镀膜机控制系统的设计

介绍了基于FPGA的太阳能真空集热管磁控溅射镀膜机控制系统的整体设计和工程实现过程。该设计以可编程逻辑器件为核心控制部件,它由工序控制流程模块、参数设置及调用模块和通讯模块三个模块组成;并基于超高速硬件描述语言在Xilinx公司SpartanⅡ系列的XC2S2005PQ-208芯片上编程实现;结合先进的人机界面触摸屏,直观地监控整个工艺过程,实现对太阳能真空集热管磁控溅射镀膜机较理想的控制。

双离子束溅射镀膜机的维修性分配和预计

分析了双离子束溅射镀膜机的设备原理、功能层次,参照《GJB/Z57维修性分配与预计手册》中的相关要求,根据各部件的故障率和维修经验数据,对双离子束溅射镀膜机进行维修性分配与预计。

新型等离子体束溅射镀膜机

本文介绍了新型的等离子体束溅射镀膜机的系统组成、特点、试验结果等内容。该镀膜机将等离子体发生和控制技术应用于溅射镀膜中,克服了磁控溅射的靶材利用率低及难以沉积铁磁性材料的缺点。使用该镀膜机成功地进行了溅射镀膜的试验,试验结果得到了刻蚀均匀性较高的靶材,其靶偏压与靶电流的关系与国外结果相吻合。

PLC与触摸屏在磁控溅射镀膜机中的应用

传统磁控溅射镀膜机控制系统主要由单片机、继电器控制构成,操作过程主要依靠人工完成,效率低,且不具备安全互锁、数据采集等功能。现研制的自动磁控溅射镀膜设备以欧姆龙PLC为主控制器,配合MCGS触摸屏实现了磁控溅射镀膜工艺的自动化控制,磁控溅射控制过程采用流程控制算法,整个控制系统安全可靠,具备安全互锁、数据采集、故障报警、参数更改等功能,实现了镀膜工艺的自动化生产。

离子溅射镀膜机工件架系统设计研究

随着我国制造行业的快速发展,离子溅射镀膜机已经被广泛的运用于半导体集成电路、太阳能光伏、显示器、LED、触摸屏、化工及医药制造等行业中,因此,离子溅射镀膜机对我国制造行业的发展具有重要作用。本文从磁控溅射离子镀膜机的优点入手,对磁控溅射离子镀膜机工件架系统设计进行研究。

真空溅射镀膜机中工作气体对镀件色差的影响

真空溅射镀膜机镀件的色差是衡量一件镀件质量好坏的重要的指标,也是评估一台设备质量的重要技术指标。影响镀件色差有多种因素,工作气体是其中一个重要因素。从真空溅射机的工作原理、工作气体对膜层的影响及试验研究入手,从气体压力和气体分布均匀性两个方面探讨了真空溅射机镀膜过程中工作气体对镀件色差的影响。为镀件色差分析、真空溅射镀膜机工作气体进气管的设计和镀件质量的提高提供了新的思路和参考。

改造真空蒸发镀膜机为蒸发溅射两用镀膜机

本文阐述了改造普通真空蒸发镀膜机为蒸发与磁控溅射多用途镀膜机的意义.叙述了两种磁控溅射靶的安装方式、结构与特点.介绍了改造后的多用途镀膜机在本科生教学实验和科学工作中的应用与效果.

镀膜机的微机控制

设计了磁控溅射 多弧镀膜机的微机控制系统 ,采用PLC可编程控制器与上位机进行数据传递和控制设备的控制方式。本微机控制系统中的真空镀膜机 ,设计了 3套孪生磁控、10套多弧和 8级工艺的过程控制 ,具有自动组合工艺和自控程序升级功能 ,从而实现多种工艺的镀膜要求。

测射镀膜机自控系统

本文以通用计算机和ＣＱＭ１－ＣＰＵ４２－Ｅ和ＰＬＣ－８１８数据采集卡，组成参数监测与控制系统，使测射镀膜机实现自动化。

非平衡磁控溅射系统的研究

介绍了非平衡磁控溅射系统的原理、试验性能情况 。

弧光放电氩离子清洗源

弧光放电氩离子清洗源是提高膜基结合力的新技术。由空心阴极枪、热丝弧枪、阴极电弧源发射的高密度弧光电子流把氩气电离,用得到的高密度的氩离子流清洗工件。工件偏压200V以下,工件偏流可以达到10A-30A,弧光放电氩离子流密度大,对工件的清洗效果好。本文介绍了几种配置弧光放电氩离子清洗源的电弧离子镀膜机和磁控溅射镀膜机。

陶瓷电路板表面聚四氟乙烯薄膜制备工艺研究

采用硅偶联剂对TR组件(陶瓷电路板)表面进行改性处理,使得陶瓷电路板中的金属材料与聚四氟乙烯极性相近,通过射频磁控溅射在TR组件表面制备出聚四氟乙烯薄膜。XPS,SEM测试表明薄膜主要组成为聚四氟乙烯组分,薄膜形貌均一、致密。