JPD-1200型矩形双平面磁控溅射阴极镀膜设备的研制

介绍了设备的结构、组成及工作过程 ,对新型矩形双平面磁控溅射阴极及有关的各阴极进行了分析、比较。

多功能复合磁控溅射平台的应用研究

磁控溅射具有沉积温度低、薄膜致密且牢固等优点,广泛用于制备超硬膜等各种功能性薄膜,但也存在离化率和沉积速率较低、溅射平台功能较单一等缺陷,难以实现特种功能薄膜严苛的技术要求。为解决以上问题,设计了具有前后双开门、可安装多个不同类型的溅射阴极、离子源和行星工件转架可接高压脉冲偏压等的复合溅射平台,对真空镀膜室、水冷系统、整体绝缘的多工位工件转架和真空气路系统进行了优化设计,并通过理论计算、有限元分析校核了该设计的可行性。

Ni-Cr-Mo-Nb合金的阴极溅射行为

研究了双层辉光放电条件下镍基合金Inconel 6 2 5的阴极溅射行为。结果表明 :多组元镍基合金由于各组元溅射率不同 ,产生择优溅射现象。Mo ,Nb等低溅射率元素在阴极表面富集 ,Ni,Cr等高溅射率元素在阴极表面贫化 ,使阴极表面发生相变 ,形成含Mo ,Nb较高的金属间化合物析出相P相和Laves相。随着阴极溅射电压的增加 ,阴极合金元素溅射率增加 ;并且随着阴极温度升高 。

磁控阴极溅射靶三维磁场的有限元分析

采用有限元方法对磁控阴极溅射靶三维磁场进行了计算和分析．该装置是一种用于玻璃镀膜的永磁装置，主要由永磁体、铁磁材料和不锈钢板组成．为保证靶中不锈钢板表面的磁场均匀分布，进行了多种方案的计算和调整，给出了一种实用方案，使得装置性能得到明显改善．

金刚石颗粒双阴极等离子溅射铬镀层显微结构研究

通过FIB-SEM观察了镀覆温度为850℃双阴极等离子溅射镀铬金刚石的表面形貌;利用TEM、XPS分析了镀层厚度、微观结构及表层元素价态;在光学显微镜下观察酸洗后金刚石的镀层变化情况。结果表明,经双阴极等离子溅射镀覆后的金刚石在其表层形成了厚度约为500 nm的柱状结构镀层,镀层晶粒尺寸约为10 nm;酸洗后镀层仅出现轻微脱落,说明金刚石铬镀层十分致密。

双阴极等离子溅射沉积TiC薄膜对金刚石工具性能的影响

采用双阴极等离子溅射沉积方法对金刚石颗粒表面进行镀TiC处理。利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)进行形貌和物相分析。使用金刚石单颗粒静压强度测定仪和人造金刚石冲击强度测定仪检测金刚石的静压强度和冲击韧性。以相同型号和粒度的普通金刚石颗粒为对比样品,讨论了镀TiC处理对金刚石工具的影响。结果表明,金刚石表面形成了一层均匀且致密的TiC薄膜,该薄膜以柱状方式沿垂直于金刚石表面方向生长。在镀层的保护下,金刚石的单颗粒强度和冲击韧性得到了提高。由于镀层改善了金刚石对胎料的润湿性,金刚石工具的冲击强度和抗弯强度也得到了提高。

镍基合金辉光放电阴极溅射表面形貌

用能量色散X射线谱仪和电子探针,研究两种含有第二相沉淀和喷射弥散强化镍基合金的阴极溅射表面微观形貌,发现形成的溅射锥体是由于第二相沉淀和氧化物质点的存在,使局部溅射率改变和引起静电效应的结果。

阴极溅射原子化器在合金分析中的应用

本文报道了原子吸收分析用的阴极溅射原子化器的设计构造。研究了放电参数、吸光度之间的关系。利用该原子化器直接分析铜合金中Ni,Al和镍基合金中的Ti、Al。相对标准偏差为1—2%。

网状阴极溅射法在钛合金表面渗镀Ta的耐蚀性研究

研究设计了一种网状阴极溅射靶 ,它是由多个空心阴极并列交叉组合而成。结构简单 ,溅射率高。将其用于双层辉光离子渗钽中 ,在钛合金TC4(Ti 6Al 4V)表面可形成纯Ta沉积层和合金扩散层的复合层组织 ,进一步提高了钛合金的耐蚀性 。

空心阴极放电的阴极溅射分析

建立了空心阴极放电的二维自洽理论模型 ,通过阴极面上的电场、离子流和离子密度沿阴极截面的空间分布分析了放电中的阴极溅射问题 .研究发现空心阴极溅射型离子激光器中不均匀阴极溅射的现象来源于阴极面附近的电场、离子流和离子密度的不均匀分布 .从理论上模拟并解释了实验观察到的阴极表面溅射一个或多个凹坑的现象 .

N_2/Ti微空心阴极放电等离子体阴极溅射模拟

采用Monte Carlo方法模拟N2/Ti微空心阴极放电等离子体阴极溅射过程,其中,氮离子(N2+,N+)轰击阴极表面采用PIC/MC模型模拟.计算溅射钛原子的热化过程、钛原子的密度及其平均能量分布.结果表明,沿各方向溅射出的90%金属Ti原子所带的初始能量小于30 eV,其散射角主要分布在30°和60°之间;溅射Ti原子在离微空心阴极壁约0.04 mm处出现热化极大值.

阴极溅射对35CrMo钢离子硫氮碳共渗层的影响

用氩离子对35CrMo钢离子硫氮碳共渗层进行了阴极溅射。通过金相观察，显微硬度测定，X射线衍射相结构分析，电子探针氮碳硫分布，分析了阴极溅射对离子硫氮碳共渗层的影响。结果表明，阴极溅射使共渗层中ε相和γ′相减少，白亮层呈典型粒状晶形貌，沿渗层深度氮碳的分布变化，峰值下降，次表层氮碳含量增加。离子硫氮碳共渗与阳极溅射良好的匹配，可使共渗硬化效果显著，渗层厚度增加。

辉光放电阴极溅射、脉冲与瞬变原子化/原子吸收光谱分析性能的研究

通过对一些元素的测定,研究了辉光放电阴极溅射、脉冲与瞬变原子化/原子吸收光谱技术的分析性能。主要是影响元素特征量的因素,分析校正曲线的线性范围、基体干扰及消除方法等。同石墨炉原子吸收光谱(GFAAS)比较,此技术除具有灵敏度高,无记忆效应等特点外,还具有一些独特的分析性能,使GFAAS无法测定的元素有了分析的可能。

活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(中)

2实验结果和讨论 2．1阴极和沉积特性 典型空心阴极I-V，特性如图2所示，HC中有铜靶块并用氩气作为工作气体。在气流量和放电电流一定时，压强越低需放电电压越高。在给定真空室压强情况下，两个不同气流量的I-V特性很接近，在一定电流下，较高的气流量电压略低一点（注：

强短脉冲辉光放电阴极溅射逐层分析研究

利用强短脉冲供电电源和一种新型的辉光放电灯联用进行阴极表面溅射，发现它与在直流供电下有不同的结果．扫描电镜进行观察，得到样品溅射表面的扫描图。结果表明，该技术为金属或合金样品表面的逐层分析提供了一种新方法．

空心阴极气流溅射法快速沉积具有高活性光催化作用的TiO_2薄膜(上)

光催化剂TiO2薄膜是用两个平行Ti靶的空心阴极气流溅射方法沉积而成,氩气和氧气流量分别是3000 sccm和0～ 50 sccm,在沉积过程中总气压维持在45 Pa.在氧气流量为30 sccm时,TiO2膜最大沉积率为162 nm/min,之后在空气中300℃,1h进行退火工艺,用来作光催化分解乙醛（CH3CHO）,和一般反应溅射相比,后退火膜显示出非常高的光催化作用.

空心阴极气流溅射法沉积Al掺杂ZnO膜的电学与光学性质(上)

对Al掺杂的ZnO膜（AZO），一般是通过空心阴极气流溅射法，采用zn．Al合金靶，将它沉积在玻璃上。溅射功率通常固定在1500W，室温下，O2流量为38—50sccm，可沉积出电阻率0．81×10^-3～1．1×10^-3Q·cm的AZO膜，沉积速率几乎恒定在270～300nm／min。此外，在200℃、02流量为25～50sccm下，也能得到5．2×10^-4～6．4×10^-4Ω·cm的低电阻率AZO膜，且能达到200～220nm／min恒定沉积速率。两种膜在可见光范围内的透明度均在80％以上。

阴极溅射SiC涂层碳纤维结构与特性研究

主要研究了阴极溅射ＳｉＣ涂层碳纤维的结构与特性。结果表明：采用该工艺在碳纤维上得到的是非晶态的ＳｉＣ涂层。该涂层对碳纤维的强度没有影响，在不高于７００℃的温度下。