溶胶-凝胶提拉法制备ZnO薄膜及其性能研究

采用溶胶 凝胶提拉法在石英玻璃衬底上生长了ZnO薄膜。对薄膜的XRD分析表明ZnO薄膜为纤锌矿结构并沿c轴择优取向生长。透射光谱表明薄膜的禁带宽度为 3 2 8eV ,与ZnO体材料的禁带宽度 3 30eV基本相同。用荧光光谱分析了经过 4 0 0～ 6 0 0℃热处理获得的ZnO薄膜 ,结果表明ZnO薄膜在室温下可获得较强的紫外带边发射。适当选择热处理温度可以获得无可见波段发射的ZnO薄膜。

制备工艺条件对纳米Ti_(1-x)S_xO_2薄膜光催化活性的影响

以硫脲为S的源物质,以钛酸丁酯为TiO2的前驱体,以蜂窝陶瓷为载体,采用改进的溶胶-凝胶-浸渍提拉法制备Ti1-xSxO2薄膜,探讨热处理温度、S掺杂量及涂膜等工艺条件对Ti1-xSxO2薄膜的光催化活性的影响。研究结果表明:掺硫TiO2光催化剂在可见光区的吸收强度增大;采用溶胶-凝胶-浸渍提拉法制备Ti1-xSxO2光催化剂的最佳工艺条件是:硫脲与Ti(OBu)4摩尔比为3:1,煅烧温度为600℃,涂膜层数为6。在最佳工艺条件下制备的Ti1-xSxO2纳米薄膜对亚甲基蓝的降解率可达100%。

PW11Mn/有机陶瓷膜的制备及可见光催化性能

高级氧化法产生的具有强氧化性的·OH、·O2-等可以把水体中有害的有机物大分子氧化成CO2、H2O等小分子物质。以甲基三甲氧基硅烷为有机陶瓷的前驱体,以Keggin型锰取代杂多阴离子PW11O39Mn(II)(H2O)5-[PW11Mn]为可见光活性组分,采用溶胶-凝胶法制备PW11Mn/有机陶瓷膜光催化剂,并进行了IR、UV-Vis DRS以及SEM等表征。通过高级氧化法对罗丹明B(RhB)的光降解反应来评估其光催化活性,同时探究了PW11Mn负载量、煅烧温度对PW11Mn/有机陶瓷膜光催化性能的影响。实验得出,100℃时煅烧的PW11Mn负载量为2.0 g的PW11Mn/有机陶瓷膜对罗丹明B降解效果最佳。

掺杂CeO_2基电解质薄膜的阻抗谱研究

采用溶胶-凝胶浸渍提拉法,制备了CeO_2基电解质薄膜,测量了在不同条件下薄膜的阻抗谱。根据CeO_2基电解质薄膜的内部模拟等效电路,研究了不同掺杂浓度及不同测试温度对阻抗谱的影响。结果表明,阻抗随掺杂浓度的增加而增大,随测试温度的升高而减小。