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跳动及滚动激励制备的碳化硼涂层表面形貌的对比 被引量:1
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作者 王自磊 廖志君 +4 位作者 陶勇 于小河 林涛 伍登学 卢铁城 《四川大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2011年第3期617-620,共4页
利用电子束蒸发技术蒸发碳化硼,通过弹跳激励和滚动激励两种方案来随机滚动小球,从而分别在玻璃和钢球心轴上制备了碳化硼涂层.采用扫描电子显微镜对涂层表面形貌进行了分析.同采用弹跳激励制备的涂层相比,在用滚动激励制备的涂层表面... 利用电子束蒸发技术蒸发碳化硼,通过弹跳激励和滚动激励两种方案来随机滚动小球,从而分别在玻璃和钢球心轴上制备了碳化硼涂层.采用扫描电子显微镜对涂层表面形貌进行了分析.同采用弹跳激励制备的涂层相比,在用滚动激励制备的涂层表面不存在裂纹和微粒脱落现象,其微粒生长的更大,相互接合的更致密.经对比证明,在制备碳化硼涂层上,滚动激励装置优于跳动激励装置. 展开更多
关键词 ICF靶 碳化硼涂层 电子束蒸发 弹跳激励 滚动激励
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