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提升HV PMOS漏极击穿电压的工艺改进方法
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作者 朱天志 《电子科技》 2008年第12期21-23,27,共4页
文中讲述了一种通过改进高压PMOS源漏极轻掺杂扩散结构(LDD),来提升高压PMOS的漏极击穿电压的工艺改进方法,并且该工艺改进不影响其他器件性能。分析了工艺改进提升漏极击穿电压的机制。
关键词 高压PMOS 轻掺杂扩散结构 漏极击穿电压
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