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光刻对准技术研究进展
被引量:
7
1
作者
梁友生
曹益平
邢廷文
《电子工业专用设备》
2004年第10期30-34,共5页
回顾了光刻对准技术的发展功能,对各种对准方法的原理和特点进行了分析和评价,介绍了几种典型主流光刻对准系统结构形式,并对光刻对准技术前景进行了描述与展望。
关键词
光刻技术
对准
技术
激光分步对准
掩模
下载PDF
职称材料
题名
光刻对准技术研究进展
被引量:
7
1
作者
梁友生
曹益平
邢廷文
机构
四川大学光电科学技术系
中国科学院光电技术研究所
出处
《电子工业专用设备》
2004年第10期30-34,共5页
基金
微细加工光学技术国家重点实验室基金资助
文摘
回顾了光刻对准技术的发展功能,对各种对准方法的原理和特点进行了分析和评价,介绍了几种典型主流光刻对准系统结构形式,并对光刻对准技术前景进行了描述与展望。
关键词
光刻技术
对准
技术
激光分步对准
掩模
Keywords
Lithography
Alignment
Laser step alignment
Mask
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光刻对准技术研究进展
梁友生
曹益平
邢廷文
《电子工业专用设备》
2004
7
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