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光刻对准技术研究进展 被引量:7
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作者 梁友生 曹益平 邢廷文 《电子工业专用设备》 2004年第10期30-34,共5页
回顾了光刻对准技术的发展功能,对各种对准方法的原理和特点进行了分析和评价,介绍了几种典型主流光刻对准系统结构形式,并对光刻对准技术前景进行了描述与展望。
关键词 光刻技术 对准技术 激光分步对准 掩模
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